公开(公告)号：US06672111B2

公开(公告)日：2004-01-06

申请号：US10034540

申请日：2001-12-21

Applicant: William P. Peters ,  Merrill F. Sproul ,  Daniel R. Sempolinski ,  Michael H. Wasilewski

Inventor： William P. Peters ,  Merrill F. Sproul ,  Daniel R. Sempolinski ,  Michael H. Wasilewski

IPC: C03B1914

CPC classification number: C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/32 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/90 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32

Abstract: Methods and apparatus for adding metals such as aluminum to fused silica glass articles are disclosed. The methods and apparatus allow for controlled, low level addition of metals into fused silica glass articles. The fused silica glass articles containing added aluminum exhibit improved internal transmission and decreased absorption change when irradiated with a laser.

Abstract translation: 公开了向熔融石英玻璃制品中添加铝等金属的方法和装置。 所述方法和装置允许将金属控制的低水平添加到熔融石英玻璃制品中。 含有加铝的熔融石英玻璃制品在用激光照射时表现出改善的内部透光性和降低的吸收变化。

公开(公告)号：US06649268B1

公开(公告)日：2003-11-18

申请号：US09520190

申请日：2000-03-07

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Norihisa Yamaguchi

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Norihisa Yamaguchi

IPC: C03B804

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/24 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40

Abstract: An optical member made of silica glass manufactured by the direct method where a material gas comprising an organosilicon compound is allowed to react in an oxidizing flame, said optical member having a 2×1014 molecules/cm3 or less concentration of formyl radical generated by X-ray irradiation whose dose is 0.01 Mrad or more and 1 Mrad or less.

Abstract translation: 通过直接法制造的由石英玻璃制成的光学构件，其中包含有机硅化合物的材料气体在氧化火焰中反应，所述光学构件具有2×10 14分子/ cm 3或更低浓度的甲酰基 其剂量为0.01Mrad以上且1Mrad以下的X射线照射产生。

公开(公告)号：US06611650B2

公开(公告)日：2003-08-26

申请号：US09925678

申请日：2001-08-09

Applicant: Hiroyuki Hayami ,  Terunobu Iio ,  Toshikazu Gozen ,  Hirokazu Kuzushita ,  Michitsugu Mori ,  Takashi Okamura ,  Shuichi Ohmori

Inventor： Hiroyuki Hayami ,  Terunobu Iio ,  Toshikazu Gozen ,  Hirokazu Kuzushita ,  Michitsugu Mori ,  Takashi Okamura ,  Shuichi Ohmori

IPC: G02B600

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/01426 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  G02B6/06

Abstract: A silica optical fiber is provided, which contains a pure-silica core and a cladding layer formed on the pure-silica core, wherein the pure-silica core contains a C element and has a content of elements belonging to the third period-the seventh period of the periodic table, except Si element that constitutes the quartz structure, of not more than 100 ppm. The present invention can provide a silica optical fiber superior in the resistance to high energy electromagnetic waves such as UV light and &ggr;-rays.

公开(公告)号：US20030040423A1

公开(公告)日：2003-02-27

申请号：US10105270

申请日：2002-03-26

Applicant: TOSOH CORPORATION

Inventor： Yoshinori Harada ,  Shuzo Mizutani ,  Shinkichi Hashimoto ,  Masakazu Kudoh ,  Naoki Miura ,  Katsufumi Takahashi ,  Hideki Kiyohara

IPC: C03C003/06

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/095 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/34 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/54 ,  Y02P40/57

Abstract: Highly durable silica glass containing 0.01% to 2% by weight of at least one element selected from magnesium, calcium, strontium, barium, yttrium, hafnium and zirconium. The silica glass is produced by melting a powdery material comprising a finely divided silica powder and a finely divided zirconium-containing substance by oxyhydrogen flame or plasma arc to form an accumulated molten material layer, and extending the molten material layer outwardly in radial directions.

Abstract translation: 含有0.01重量％至2重量％的选自镁，钙，锶，钡，钇，铪和锆中的至少一种元素的高耐用二氧化硅玻璃。 二氧化硅玻璃是通过用氢氧焰或等离子体电弧熔化含有细碎的二氧化硅粉末和细碎的含锆物质的粉末状材料制成的，以形成聚集的熔融材料层，并使熔融材料层沿径向向外延伸。

公开(公告)号：US20020162357A1

公开(公告)日：2002-11-07

申请号：US09848904

申请日：2001-05-04

Inventor： David L. Tennent ,  Joseph M. Whalen

IPC: C03B019/14

CPC classification number: C03B37/01413 ,  C03B19/106 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/38

Abstract: A method for making silica includes delivering a silica precursor comprising a perfluorinated group to a conversion site and passing the silica precursor through a conversion flame to produce silica soot.

Abstract translation: 制备二氧化硅的方法包括将包含全氟化基团的二氧化硅前体输送到转化位点并使二氧化硅前体通过转化火焰以产生二氧化硅烟灰。

公开(公告)号：US06442973B1

公开(公告)日：2002-09-03

申请号：US09235409

申请日：1999-01-22

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03B1906

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52

Abstract: A method is provided for manufacturing a synthetic silica glass. The method includes the steps of maintaining a silica glass member, which is formed using a flame hydrolysis method and having an OH group concentration of about 500 ppm to about 1300 ppm, at a predetermined holding temperature for a predetermined period of time so as to substantially relax the structure of the silica glass member. The method further includes the step of subsequently cooling the silica glass member to a first predetermined temperature at a cooling rate of about 10 K/hour or less, and thereafter, cooling the silica glass member to a second predetermined temperature at a cooling rate of about 1 K/hour or less. The method further includes the step of further cooling the silica glass member to a third predetermined temperature at a cooling rate of about 10 K/hour or less.

Abstract translation: 提供了一种制造合成石英玻璃的方法。 该方法包括以下步骤：在预定的保持温度下，使用火焰水解法形成并具有约500ppm至约1300ppm的OH基浓度的二氧化硅玻璃构件， 放松石英玻璃构件的结构。 该方法还包括以约10K /小时以下的冷却速度随后将石英玻璃构件冷却至第一预定温度的步骤，然后以大约的冷却速度将石英玻璃构件冷却至第二预定温度 1 K /小时以下。 该方法还包括以约10K /小时或更低的冷却速度将石英玻璃构件进一步冷却至第三预定温度的步骤。

公开(公告)号：US06374639B2

公开(公告)日：2002-04-23

申请号：US09933749

申请日：2001-08-22

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03B1914

CPC classification number: C03B19/14 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1484 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0142 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/46 ,  G03F7/2004 ,  Y10S65/90

Abstract: A method is provided for manufacturing a silica glass that is substantially free of chlorine. The method includes the step of separately expelling a silicon tetrafluoride gas, a combustion gas, and a combustible gas from a burner made of silica glass, the flow velocity of the silicon tetrafluoride gas being within the range of about 9 slm/cm2 to about 20 slm/cm2. The method further includes the steps of producing minute silica glass particles by reacting the silicon tetrafluoride gas with water produced by a reaction of the combustion gas with the combustible gas, depositing the minute silica glass particles on a target, and producing the silica glass by fusing and vitrifying the minute silica glass particles deposited on the target.

Abstract translation: 提供了一种制造基本上不含氯的石英玻璃的方法。 该方法包括从由石英玻璃制成的燃烧器分别排出四氟化硅气体，燃烧气体和可燃气体的步骤，四氟化硅气体的流速在约9slm / cm 2至约20的范围内 slm / cm2。 该方法还包括以下步骤：通过使四氟化硅气体与通过燃烧气体与可燃气体的反应产生的水反应生成微小的二氧化硅玻璃颗粒，将微小二氧化硅玻璃颗粒沉积在靶材上，并通过熔融制备石英玻璃 并使沉积在靶上的微小二氧化硅玻璃颗粒玻璃化。

公开(公告)号：US06360562B1

公开(公告)日：2002-03-26

申请号：US09141394

申请日：1998-08-27

Applicant: Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  James Caruso ,  Quint H. Powell ,  Audunn Ludviksson

Inventor： Toivo T. Kodas ,  Mark J. Hampden-Smith ,  James Caruso ,  Quint H. Powell ,  Audunn Ludviksson

IPC: C03B1910

CPC classification number: B82Y30/00 ,  A61K6/0276 ,  A61K6/08 ,  A61K6/083 ,  B01J13/02 ,  B01J19/10 ,  B01J19/2405 ,  B01J2219/00112 ,  B01J2219/00155 ,  B01J2219/00159 ,  B01J2219/00162 ,  B01J2219/00166 ,  B01J2219/00171 ,  B01J2219/00186 ,  B24B37/044 ,  C01B13/18 ,  C01B13/185 ,  C01B17/20 ,  C01F17/0043 ,  C01G23/003 ,  C01P2002/60 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/34 ,  C01P2004/50 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C01P2006/22 ,  C03B19/106 ,  C03B2201/07 ,  C03C8/16 ,  C03C11/002 ,  C03C12/00 ,  C03C14/004 ,  C03C17/30 ,  C03C2214/08 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  C09K11/584 ,  C09K11/595 ,  C09K11/623 ,  C09K11/642 ,  C09K11/643 ,  C09K11/644 ,  C09K11/662 ,  C09K11/666 ,  C09K11/672 ,  C09K11/7701 ,  C09K11/7708 ,  C09K11/7729 ,  C09K11/7769 ,  C09K11/7776 ,  C09K11/7784 ,  C09K11/7786 ,  C09K11/7787 ,  H01L21/3212 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/29 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/2996 ,  C08L33/00

Abstract: Glass powders and methods for producing glass powders. The powders preferably have a small particle size, narrow size distribution and a spherical morphology. The method includes forming the particles by a spray pyrolysis technique. The invention also includes novel devices and products formed from the glass powders.

Abstract translation: 玻璃粉末和玻璃粉末的制造方法。 粉末优选具有小的粒度，窄的粒度分布和球形的形态。 该方法包括通过喷雾热解技术形成颗粒。 本发明还包括由玻璃粉末形成的新型器件和产品。

公开(公告)号：US20020018942A1

公开(公告)日：2002-02-14

申请号：US09841517

申请日：2001-04-24

Inventor： John T. Brown ,  Stephen C. Currie ,  Lisa A. Moore ,  Susan L. Schiefelbein ,  Robert S. Pavlik JR.

IPC: B32B015/00 ,  B32B009/00 ,  B32B017/06 ,  G03G016/00 ,  G03F009/00 ,  C03B037/10 ,  C03B037/018 ,  G02B006/18 ,  C03B037/075 ,  C03C013/00 ,  C03B019/06 ,  C03B019/00 ,  G02B006/00

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B37/01202 ,  C03B37/01406 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03B2207/40 ,  C03B2207/46 ,  C03B2207/54 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57

Abstract: High purity direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed. The inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass is transmissive at wavelengths around 157 nm, making it particularly useful as a photomask substrate at the 157 nm wavelength region. The inventive photomask substrate is a dry direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass which exhibits very high transmittance in the vacuum ultraviolet (VUV) wavelength region while maintaining the excellent thermal and physical properties generally associated with high purity fused silica. In addition to containing fluorine and having little or no OH content, the inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrate at 157 nm is also characterized by having less than 1null1017 molecules/cm3 of molecular hydrogen and low chlorine levels.

Abstract translation: 公开了适用于在190nm以下的VUV波长区域中用于光刻应用的光掩模基板的高纯度直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃。 本发明的直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃在157nm波长附近是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是在真空紫外（VUV）波长区域中显示非常高的透射率的干直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃，同时保持通常与高纯度熔融二氧化硅相关的优异的热和物理性能。 除了含氟且具有很少或不含OH含量之外，本发明的适用于157nm的光掩模衬底的直接沉积玻璃化氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低氯水平。

公开(公告)号：US06333283B1

公开(公告)日：2001-12-25

申请号：US09369425

申请日：1999-08-06

Applicant: Akira Urano ,  Toshio Danzuka ,  Tatsuhiko Saito ,  Yasuhiko Shishido ,  Masaharu Mogi ,  Michihisa Kyoto

Inventor： Akira Urano ,  Toshio Danzuka ,  Tatsuhiko Saito ,  Yasuhiko Shishido ,  Masaharu Mogi ,  Michihisa Kyoto

IPC: C03C306

CPC classification number: G02B6/102 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/14 ,  C03B37/15 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C13/045 ,  C03C23/002 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/003 ,  C03C23/0035 ,  C03C23/0095 ,  C03C25/6208 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/50 ,  G02B6/02 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/905

Abstract: A process of manufacturing a silica glass article comprising the steps of: (1) irradiating a silica glass article with electromagnetic waves to generate defects therein; and (2) immersing the thus irradiated silica glass article in an atmosphere comprising a hydrogen gas, thereby providing the resulting silica glass article with a characteristic that is effective for preventing it substantially from increasing its absorption within an ultraviolet region due to ultraviolet ray irradiation. Also disclosed are a silica glass article or a glass fiber produced according to the manufacturing process.

Abstract translation: 一种制造石英玻璃制品的方法，包括以下步骤：（1）用电磁波照射石英玻璃制品以在其中产生缺陷; 和（2）将这样照射的二氧化硅玻璃制品浸入包括氢气的气氛中，从而使得到的石英玻璃制品具有有效地防止紫外线辐射在紫外线区域内大幅吸收的特征。 还公开了根据制造方法制造的石英玻璃制品或玻璃纤维。