公开(公告)号：US06291377B1

公开(公告)日：2001-09-18

申请号：US09150613

申请日：1998-09-10

Applicant: Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

Inventor： Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo

IPC: C03C306

CPC classification number: C03B19/14 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1484 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0142 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/46 ,  G03F7/2004 ,  Y10S65/90

Abstract: A method is provided for manufacturing a silica glass that is substantially free of chlorine. The method includes the step of separately expelling a silicon tetrafluoride gas, a combustion gas, and a combustible gas from a burner made of silica glass, the flow velocity of the silicon tetrafluoride gas being within the range of about 9 slm/cm2 to about 20 slm/cm2. The method further includes the steps of producing minute silica glass particles by reacting the silicon tetrafluoride gas with water produced by a reaction of the combustion gas with the combustible gas, depositing the minute silica glass particles on a target, and producing the silica glass by fusing and vitrifying the minute silica glass particles deposited on the target.

Abstract translation: 提供了一种制造基本上不含氯的石英玻璃的方法。 该方法包括从由石英玻璃制成的燃烧器分别排出四氟化硅气体，燃烧气体和可燃气体的步骤，四氟化硅气体的流速在约9slm / cm 2至约20的范围内 slm / cm2。 该方法还包括以下步骤：通过使四氟化硅气体与通过燃烧气体与可燃气体的反应产生的水反应生成微小的二氧化硅玻璃颗粒，将微小二氧化硅玻璃颗粒沉积在靶材上，并通过熔融制备石英玻璃 并使沉积在靶上的微小二氧化硅玻璃颗粒玻璃化。

公开(公告)号：US06289161B1

公开(公告)日：2001-09-11

申请号：US09198883

申请日：1998-11-23

Applicant: Gerhard Schötz ,  Jan Vydra

Inventor： Gerhard Schötz ,  Jan Vydra

IPC: G02B600

CPC classification number: C03C13/045 ,  C03B37/01446 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  G02B6/02 ,  G02B6/02395 ,  G02B6/443

Abstract: In a known optical component a cylindrical glass core of synthetic quartz glass contains hydroxyl groups, a maximum 200 wt.-ppm of chlorine, and no dopant in the form of a metal oxide. The glass core is axially enveloped by a glass mantle of doped quartz glass which has a lower refractive index than the glass core. Setting out from this, in order to offer an optical component of quartz glass for broad-band transmission, especially for broad-band spectroscopy, which is characterized by low attenuation over a broad range of wavelengths, it is proposed by the invention that the core glass contain less than 5 wt.-ppm of hydroxyl groups.

Abstract translation: 在已知的光学组件中，合成石英玻璃的圆柱形玻璃芯包含羟基，最大为200重量ppm的氯，并且不含金属氧化物形式的掺杂剂。 玻璃芯由掺杂石英玻璃的玻璃罩轴向包围，折射率比玻璃芯低。 从此出发，为了提供用于宽带传输的石英玻璃的光学部件，特别是对于在宽波长范围内具有低衰减特征的宽带光谱，本发明提出了核心 玻璃含有小于5重量ppm的羟基。

公开(公告)号：US06242136B1

公开(公告)日：2001-06-05

申请号：US09397573

申请日：1999-09-16

Applicant: Lisa A. Moore ,  Charlene Smith

Inventor： Lisa A. Moore ,  Charlene Smith

IPC: G03F900

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  G03F1/60 ,  Y02P40/57

Abstract: High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed. The inventive silicon oxyfluoride glass is transmissive at wavelengths around 157 nm, making it particularly useful as a photomask substrate at the 157 nm wavelength region. The inventive photomask substrate is a “dry,” silicon oxyfluoride glass which exhibits very high transmittance in the vacuum ultraviolet (VUV) wavelength region while maintaining the excellent thermal and physical properties generally associated with high purity fused silica. In addition to containing fluorine and having little or no OH content, the inventive silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrate at 157 nm is also characterized by having less than 1×1017 molecules/cm3 of molecular hydrogen and low chlorine levels.

Abstract translation: 公开了适用于在低于190nm的VUV波长区域中用于光刻应用的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不含OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低氯水平。

公开(公告)号：US5106401A

公开(公告)日：1992-04-21

申请号：US544942

申请日：1990-06-28

Applicant: Shinji Ishikawa ,  Yuichi Ohga ,  Ichiro Tsuchiya ,  Hiroo Kanamori ,  Hiroshi Yokota ,  Michihisa Kyoto

Inventor： Shinji Ishikawa ,  Yuichi Ohga ,  Ichiro Tsuchiya ,  Hiroo Kanamori ,  Hiroshi Yokota ,  Michihisa Kyoto

IPC: G02B6/00 ,  C03B37/014

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  Y10S65/16 ,  Y10S65/90

Abstract: The present invention providesa process for the dehydrating and purifying treatment by heating a porous glass preform for an optical fiber by passing the porous glass preform through a muffle tube having a SiC layer at least on its inner surface at a high temperature under an atmosphere containing an inert gas and a silicon halogenide gas;a process for the fluorine-doping treatment by heating a porous glass preform for an optical fiber by passing a porous glass preform through a muffle tube having a SiC layer at least on its inner surface at a high temperature under an atmosphere containing a fluorine compound gas and an inert gas; anda process for the vitrifying treatment by heating a porous glass preform for an opticla fiber by passing the preform, which has been previously dehydrated and purified, through a muffle tube having a SiC layer at least on its inner surface at a high temperature under an atmosphere gas.

公开(公告)号：WO2017103115A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081438

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  LEHMANN, Walter ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WHIPPEY, Nigel Robert ,  GROMANN, Boris ,  KPEBANE, Abdoul-Gafar

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03B37/012 ,  F27D7/02

CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B5/06 ,  C03B17/04 ,  C03B37/01211 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/10

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat in einem Schmelztiegel und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei der Schmelztiegel in einem Ofen enthalten ist und aus mindestens einem Material beinhaltend Wolfram oder Molybdän oder eine Kombination davon besteht. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

Abstract translation:

本发明涉及一种用于制造石英玻璃＆OUML;包括如下工艺步骤：i）提供一Siliziumdioxidgranulats rpers，ii）形成在玻璃从Siliziumdioxidgranulat在坩埚中熔化并iii）形成的石英玻璃与OUML; ... Rpers 从玻璃熔体的至少一部分，其中，所述坩埚被包含在一个炉中，以及至少一种材料，其包含钨或钼BEAR n或是它们的组合。 本发明还涉及一种石英玻璃＆OUML;主体，可以通过此方法获得BEAR是ltlich。 此外，本发明涉及一种光导，发光装置和模制体，其每一个都可以通过进一步处理石英玻璃体

公开(公告)号：WO2013171937A1

公开(公告)日：2013-11-21

申请号：PCT/JP2013/000890

申请日：2013-02-19

Applicant: 信越石英株式会社

Inventor： 山形　茂

IPC: C30B29/06 ,  C03B20/00 ,  C30B15/10

CPC classification number: C03B19/02 ,  C03B19/095 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/54 ,  C03C3/06 ,  C03C8/02 ,  C03C10/0009 ,  C03C21/008 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/54 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 ,  Y02P40/57 ,  Y10T117/1032

Abstract: 　本発明は、内側に透明シリカガラスから成る透明層を有し、外側に気泡を含有する不透明シリカガラスから成る不透明層を有する単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器であって、前記透明層が、前記シリカ容器の内表面側に位置し、ＯＨ基を２００～２０００ｍａｓｓｐｐｍの濃度で含有する高ＯＨ基層と、該高ＯＨ基層よりもＯＨ基濃度が低い低ＯＨ基層とから成り、前記高ＯＨ基層がＢａを５０～２０００ｍａｓｓｐｐｍの濃度で含有するものである単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器である。これにより、単結晶シリコン引き上げ用にシリカ容器を用いた場合に、該容器使用開始後短時間のうちに該容器の透明シリカガラスから成る内側表面の全面が微細結晶化（グラスセラミックス化）することにより、該容器内側表面のシリコン融液に対する耐エッチング性（耐侵食性）を大幅に向上させるようなシリカ容器、及び、そのようなシリカ容器の製造方法が提供される。

Abstract translation: 这种二氧化硅容器用于制造单晶硅，并且在内部具有包括透明石英玻璃的透明层，并且在外部具有包含含有气泡的不透明石英玻璃的不透明层。 透明层位于二氧化硅容器的内表面侧，并且包含OH基浓度为200-2000质量ppm的OH基团和OH基浓度低于OH基浓度的低OH基层的高OH基层。 的高OH基层，高OH基层含有Ba的50-2000质量ppm的浓度。 结果，提供了：二氧化硅容器，使得当二氧化硅容器用于制备单晶硅时，容器内表面相对于熔融硅的耐腐蚀性（耐侵蚀性）通过整个 包含容器的透明石英玻璃的内表面的表面在容器使用开始后的短时间内被微晶化（玻璃化）; 以及这种二氧化硅容器的制造方法。

公开(公告)号：WO2006094877A1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：PCT/EP2006/050954

申请日：2006-02-15

Applicant: DEGUSSA AG ,  OSWALD, Monika ,  MEYER, Jürgen ,  DELLER, Klaus

Inventor： OSWALD, Monika ,  MEYER, Jürgen ,  DELLER, Klaus

IPC: C03B37/012 ,  C03B19/01 ,  C03B19/10 ,  C01B33/18

CPC classification number: C03B37/01291 ,  C03B19/01 ,  C03B19/102 ,  C03B19/106 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12

Abstract: Glass is produced by depositing presintering composition on a preform set into move in front of a plasma torch which moves back and forth substantially parallel to a longitudinal direction of the preform, a first feed duct feeds the plasma with grains of the presintering composition while optionally a second feed duct feeds the plasma with a fluorine or chlorine compound, preferably a fluorine compound, mixed with a carrier gas, whereby the presintering composition consists of granules of metal oxides or metalloid oxides of a pyrogenic silicon dioxide powder with a BET surface area of 30 to 90 m2/g, a DBP index of 80 or less, a mean aggregate area of less than 25000 nm2 and a mean aggregate circumference of less than 1000 nm, wherein at least 70% of the aggregates have a circumference of less than 1300 nm or a high-purity pyrogenically prepared silicon dioxide having metal contents of less than 0.2 μg/g, which is prepared by reacting a silicon tetrachloride having a metal content of less than 30 ppb by means of flame hydrolysis.

Abstract translation: 玻璃是通过将预烧结组合物沉积在等离子体焰炬之前移动的预成型体上制造的，所述等离子体焰炬基本上平行于预成型件的纵向方向前后移动，第一进料管将预烧结组合物的颗粒进料到等离子体， 第二进料管将等离子体与载体气体混合的氟或氯化合物，优选氟化合物进料，其中预烧结组合物由BET表面积为30的热解二氧化硅粉末的金属氧化物或准金属氧化物颗粒组成 至90m 2 / g，DBP指数为80以下，平均聚集面积小于25000nm 2，平均聚集体周长小于1000nm，其中至少70％的聚集体具有小于1300nm的圆周 或金属含量小于0.2μg/ g的高纯度热解法制备的二氧化硅，其通过使金属含量为1的四氯化硅 通过火焰水解30埃以上。

公开(公告)号：WO2005102950A2

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：PCT/EP2005/003549

申请日：2005-04-05

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  SCHREIBER, Andreas ,  KÜHN, Bodo ,  SCHILLING, Franz-Josef ,  ARNOLD, Erich ,  WITZKE, Hans-Dieter

Inventor： SCHREIBER, Andreas ,  KÜHN, Bodo ,  SCHILLING, Franz-Josef ,  ARNOLD, Erich ,  WITZKE, Hans-Dieter

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06

Abstract: Bei einem bekannten Verfahren erfolgt die Herstellung eines Quarzglas-Bauteils für eine für eine UV-Strahlenquelle durch Erschmelzen von SiO 2 -haltiger Körnung. Um hiervon ausgehend ein kostengünstiges Verfahren anzugeben, mittels dem ein Quarzglas-Bauteil erhalten wird, das sich durch hohe Strahlenbeständigkeit auszeichnet, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass synthetisch erzeugte Quarzkristalle zu einem Vorprodukt erschmolzen werden, das aus Quarzglas besteht, das Hydroxylgruppen in einer Anzahl enthält, die größer ist als die Anzahl an SiH-Gruppen, und dass zur Beseitigung von SiH-Gruppen das Vorprodukt einer Temperbehandlung bei einer Temperatur von mindestens 850 °C unterzogen und dabei das Quarzglas-Bauteil erhalten wird. Bei dem erfindungsgemäßen Quarzglas-Bauteil ist das Quarzglas aus synthetisch erzeugten Quarzkristallen erschmolzen, und es weist einen Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 5 x 10 17 Molekülen/cm 3 auf.

Abstract translation: 在已知的方法制备用于UV辐射源的石英玻璃部件的通过SiO 2的含谷物的融化。发生 要指定此基础上具有成本效益的方法，通过其获得石英玻璃元件，其特征是高耐辐射性，本发明提出的是合成产生的熔融石英的晶体，以形成一个初步的产品，它由石英玻璃含有以羟基数 比SiH基团的数量越多，并且进行消除SiH基团，所述前体的退火在至少850℃的温度，而获得石英玻璃元件。 在本发明的石英玻璃元件，合成产生的石英晶体的石英玻璃被熔化并具有小于5×10 <17>分子/ cm <3>的SiH基团的含量。

公开(公告)号：WO2005054139A1

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：PCT/EP2004/013544

申请日：2004-11-30

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO. LTD. ,  KÖPPLER, Rainer ,  KÜHN, Bodo ,  WERDECKER, Waltraud ,  KIRST, Ulrich ,  LEHMANN, Walter

Inventor： KÖPPLER, Rainer ,  KÜHN, Bodo ,  WERDECKER, Waltraud ,  KIRST, Ulrich ,  LEHMANN, Walter

IPC: C03B19/10

CPC classification number: C03C4/0071 ,  C03B19/06 ,  C03B19/063 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1005 ,  C03B19/1065 ,  C03B19/108 ,  C03B19/1095 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/34 ,  C03C1/026 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/3435 ,  C03C2201/3488 ,  C03C2201/36 ,  C03C2203/22 ,  C03C2203/30 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52

Abstract: Es wird ein Verfahren angegeben, das die wirtschaftliche Herstellung eines Roh­lings für ein Bauteil aus laseraktivem Quarzglas in beliebiger Form und Abmes­sung ermöglicht. Das Verfahren umfasst die folgenden Verfahrensschritte: a) Bereitstellen einer Dispersion mit einem Feststoffgehalt von mindestens 40 Gew.-%, die Si0 2 -Nanopulver sowie Dotierstoffe umfassend ein Kation der Seltenerdmetalle und der Übergangsmetalle in einer Flüssigkeit enthält, b) Granulation durch Bewegen der Dispersion unter Entzug von Feuchtigkeit bis zur Bildung eines dotierten Si0 2 -Granulats aus sphärischen, porösen Granu­latkörnern mit einem Feuchtigkeitsgehalt von weniger als 35 Gew.-% und mit einer Dichte von mindestens 0,95 g/cm 3 , c) Trocknen und Reinigen des Si0 2 -Granulats durch Aufheizen auf eine Tempe­ratur von mindestens 1000 °C unter Bildung einer dotierten, porösen Si0 2 ­Körnung mit einem OH-Gehalt von weniger als 10 ppm; und d) Sintern oder Erschmelzen der dotierten SiO 2 -Körnung in einer reduzierend wirkenden Atmosphäre unter Bildung des Rohlings aus dotiertem Quarzglas.

Abstract translation: 本发明提供这使得经济地生产的坯件的用于在任何期望的形状和尺寸的激光活性石英玻璃部件的方法。 该方法包括以下步骤：a）提供具有至少40重量％的固体含量的分散体，所述的SiO 2纳米粉末和掺杂剂，包括含有由与移动分散体中的稀土类金属的阳离子和在液体中的过渡金属，B）造粒 湿气的撤回，直到其具有小于35重量％的水分含量，并且具有的SiO 2的至少0.95克/厘米<3>，c）干燥的密度和清洁的球形多孔粒状颗粒的掺杂的SiO 2-颗粒的形成 颗粒通过加热到至少1000℃的温度下，以形成一个掺杂的多孔Si02Körnung具有小于10 ppm的OH含量; 以及d）烧结或在还原气氛中熔化掺杂的SiO 2颗粒尺寸，以形成掺杂的石英玻璃的坯料。

公开(公告)号：WO2004050570A1

公开(公告)日：2004-06-17

申请号：PCT/JP2003/015272

申请日：2003-11-28

Applicant: 信越石英株式会社 ,  佐藤 龍弘 ,  垣内 孝宏 ,  藤ノ木 朗 ,  加藤 俊幸 ,  瀬川 徹 ,  吉田 宜正

Inventor： 佐藤 龍弘 ,  垣内 孝宏 ,  藤ノ木 朗 ,  加藤 俊幸 ,  瀬川 徹 ,  吉田 宜正

IPC: C03B20/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26

Abstract: 第一に、不純物が少なく且つ天然石英ガラスと同等以上の高温粘度特性を有し、高温環境下にあっても変形し難い合成石英ガラスの製造方法、特に発泡が無く緻密な高耐熱性合成石英ガラスの製造方法を提供する。第二に、本発明の製造方法により容易に得られる高耐熱性合成石英ガラス体、特に、発泡が無く緻密、赤外線吸収率及び放出率が高い、またアルカリ金属拡散防止効果が極めて高い透明又は黒色石英ガラス体を提供する。　２４５ｎｍの吸収係数が０．０５ｃｍ −１ 以上である高耐熱性石英ガラス体を製造する方法であって、シリカ多孔質体を、還元処理した後、焼成して緻密なガラス体とするようにした。

Abstract translation: 一种制造在245nm以上的吸收系数为0.05cm -1以上的合成石英玻璃的制造方法，其特征在于，对多孔二氧化硅材料进行还原处理，然后烧成所得产物，从而形成致密的玻璃 文章; 和具有降低的杂质含量的透明或黑色合成石英玻璃，显示与天然石英玻璃相同或优于其的高温粘度特性即使在高温气氛中也不易变形，显示出高的 对于红外线的吸光度和高发射率，并且对于防止碱金属的扩散，特别是不含气泡的致密且高耐热的合成石英玻璃的扩散具有极高的效果。 该方法容易地生产上述合成石英玻璃。