질산의 농도 측정 방법
    182.
    发明授权
    질산의 농도 측정 방법 有权
    测定硝酸浓度的方法

    公开(公告)号:KR101439901B1

    公开(公告)日:2014-09-12

    申请号:KR1020127023509

    申请日:2011-02-10

    CPC classification number: G01N21/33 G01N2201/129

    Abstract: 본원 발명은 실리콘 기판의 습식 화학적 처리와 관련된다. 본원 발명은 특히 실리콘으로 만든 것과 같은 기판의 처리를 위해 사용되는 수성 공정 용액 중의 질산의 농도를 측정하는 방법과 관련된다. 상기 방법은 다른 물질에 의해 야기되는 방해 흡수를 효과적으로 제거하는 제거 용액의 도입과 함께 UV 분광기 측정의 방법에 의한 질산염의 측정에 기초한다. 여기에서, 질산염의 농도는 질산의 농도에 상응한다.
    본원 발명에 따르면, 산 혼합물 중의 질산의 함량이 매우 정확하게 측정될 수 있는 튼튼한 방법이 제안되고, 사실상 이는 의도한 목적에 따라 사용된 산 혼합물에서와 마찬가지로 신선한 산 혼합물에서도 동등했다.

    복잡성이 감소된 고분광 프로세싱에 기반을 둔 실시간 타겟검출 방법
    185.
    发明授权
    복잡성이 감소된 고분광 프로세싱에 기반을 둔 실시간 타겟검출 방법 有权
    基于降低复杂度高光谱处理的实时目标检测方法

    公开(公告)号:KR100963797B1

    公开(公告)日:2010-06-17

    申请号:KR1020080017674

    申请日:2008-02-27

    Abstract: 복잡성이 감소된 고분광 프로세싱에 기반을 둔 실시간 타겟 검출 방법이 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 실시간 타겟 검출 방법은 프리프로세싱된 임의의 픽셀에 대해 라이브러리에 근거하여 타겟 및/또는 백그라운드로 검출하는 단계 및 상기 타겟 및/또는 상기 백그라운드로부터 타겟 샘플들 및/또는 백그라운드 샘플들을 추출하여, 상기 라이브러리를 리파인하는 단계를 구비한다. 본 발명에 따른 고분광 영상 프로세싱을 위한 실시간 타겟 검출 아키텍처는, 실시간 어플리케이션들을 위해 라이브러리 리파인먼트 (library refinement) 과정이 간소화되고 분광 밴드의 개수가 최소화되는 감소된 복잡성 알리고즘에 근거한다. 그리고, 데이터 분할을 활용함으로써 효율적인 파이프라인 프로세싱 성분 아키텍처가 제안되고, 스케일러블한(난조가 발생하지 아니하는) 복합적인 프로세싱 성분 아키텍처가 개시된다. 따라서, 본 발명에 따른 고분광 영상 프로세싱을 위한 실시간 타겟 검출 아키텍처는 빠르고 정확하게 타겟을 검출할 수 있는 장점이 있다.

    液体培地中の物質濃度または物質を判断するための方法および装置

    公开(公告)号:JP2018526644A

    公开(公告)日:2018-09-13

    申请号:JP2018510867

    申请日:2016-07-06

    Abstract: 液体培地(3)中の少なくとも1つの物質濃度(c)または少なくとも1つの物質を判断するための方法および装置であって、方法は、 − 液体培地(3)が予め規定された流速で、公知の形状を有する容器(1)へ導入されるステップと、 − 予め規定された波長を有し、または予め規定された波長帯を有する電磁波が、容器(1)に含まれる液体培地(3)へ結合されるステップとを含み、電磁波(8)は、容器(1)内の液体培地(3)の充填水位(x i )に依存する、液体培地における経路長をカバーし、方法はさらに、 − 液体培地(3)における経路長をカバーした後に、電磁波の強度(Φ i )が、少なくとも2つの予め規定された時点(t i )で、および/または、容器(1)の少なくとも2つの予め規定された充填水位(x i )で測定されるステップと、 − 最後の強度測定後に、少なくとも1つの物質濃度(c)または少なくとも1つの物質が、測定された強度(Φ i )と、少なくとも2つの予め規定された時点(t i )または少なくとも2つの予め規定された充填水位(x i )とを使用してそれぞれ判断されるステップとを含む。

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