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    微光刻曝光装置中照明掩模的照明系统
    11.
    发明公开
    微光刻曝光装置中照明掩模的照明系统 有权

    公开(公告)号：CN101669071A

    公开(公告)日：2010-03-10

    申请号：CN200880013453.0

    申请日：2008-04-25

    Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

    Inventor： 马库斯·德冈瑟 ,  保罗·格劳普纳 ,  于尔根·费希尔

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70216 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70158

    Abstract: 一种在微光刻曝光装置(10)中照明掩模的照明系统，其具有光轴(60；460)以及光瞳表面(70；470)。该系统包括诸如镜(M ij )的反射或透明光束偏转元件的光束偏转阵列(46；446)。其中每一偏转元件(M ij )适配成将打入光线以响应于控制信号可变的偏转角偏转。光束偏转元件(M ij )布置在第一平面(40；440)中。该系统还包括具有多个微透镜和/或衍射结构的光学光栅元件(34；434)。布置在第一平面(40；440)中的光束偏转元件(M ij )和布置在第二平面(34；434)中的光学光栅元件(34；434)共同产生两维远场强度分布(C)。光学成像系统(40，41；440，441)光学上共轭第一平面(40；440)到第二平面(34；434)。

    具有光瞳镜的反射折射投影物镜、投影曝光设备和方法
    15.
    发明公开
    具有光瞳镜的反射折射投影物镜、投影曝光设备和方法 有权

    公开(公告)号：CN101523294A

    公开(公告)日：2009-09-02

    申请号：CN200780038336.5

    申请日：2007-08-10

    Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

    Inventor： A·埃普尔

    IPC: G03F7/20

    Abstract: 一种用于将来自布置在投影物镜(100)的物体表面(05)中的物场(07)的图案成像到布置在投影物镜的图像表面(IS)中的像场(IF)上的反射折射投影物镜(100)具有：第一物镜部分(LG1)，该第一物镜部分(LG1)配置成将来自物体表面的图案成像到第一中间图像(IMI1)中并且具有第一光瞳表面(P1)；第二物镜部分(HG)，该第二物镜部分(HG)配置成将第一中间图像(IMI1)成像到第二中间图像(IMI2)中并且具有与第一光瞳表面(P1)在光学上共轭的第二光瞳表面(P2)；以及第三物镜部分(LG2，LG3，LG4)，该第三物镜部分(LG2，LG3，LG4)配置成将第二中间图像(IMI2)成像到图像表面(IS)中并且具有与第一和第二光瞳表面在光学上共轭的第三光瞳表面(P3)。光瞳镜(113)具有定位于第一、第二和第三光瞳表面之一处或者在第一、第二和第三光瞳表面之一附近的反射光瞳镜表面。以操作方式连接到光瞳镜(113)并且配置成改变光瞳镜的反射表面形状的光瞳镜操纵器允许动态地校正源自透镜加热、压实的成像像差以及在投影物镜的操作过程中出现的其它辐射诱发成像像差。

    确定光学表面的实际形状偏离理想形状的偏差的方法和装置
    16.
    发明公开
    确定光学表面的实际形状偏离理想形状的偏差的方法和装置 有权

    公开(公告)号：CN101495833A

    公开(公告)日：2009-07-29

    申请号：CN200780027739.X

    申请日：2007-07-26

    Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

    Inventor： F·席尔科 ,  R·弗赖曼 ,  M·德雷埃尔

    IPC: G01B11/24 ,  G01M11/02

    CPC classification number: G01B11/2441 ,  G01B9/02039

    Abstract: 一种确定光学表面(12；103)的实际形状偏离理想形状的偏差的方法，包括如下步骤：提供入射电磁测量波(20；113)，提供两个衍射结构(47，49；145，146，141，143)，在每种情况下，所述两个衍射结构被设计为重塑入射波的波前，通过辐射入射测量波(20；113)到至少一个待标定的衍射结构，标定两个衍射结构(47，49；145，146，141，143)中的至少其中之一，以及在测量波和至少一个待标定的衍射结构(47；49；145，146，141，143)相互作用后，确定测量波(20；113)的实际波前偏离理想波前的标定偏差，将两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)设置于入射测量波(20；113)的光路中，从而测量波的各条光线辐射通过两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)，以及通过两个衍射结构(47；49；145，146，141，143)将入射测量波(20；113)重塑为匹配的测量波(64；114)，其波前匹配光学表面(12；103)的理想形状，在匹配的测量波(64；114)的光路中设置光学表面(12；103)，从而匹配的测量波(64；114)和光学表面(12；103)相互作用，以及在匹配的测量波(64；114)和光学表面(12；103)相互作用之后，测量匹配的测量波(64；114)的波前。

    具有中间图像的反射折射投影物镜
    17.
    发明授权
    具有中间图像的反射折射投影物镜 失效

    公开(公告)号：CN100483174C

    公开(公告)日：2009-04-29

    申请号：CN200580023994.8

    申请日：2005-05-13

    Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

    Inventor： A·多多克 ,  W·乌尔里希 ,  A·埃普勒

    IPC: G02B17/08 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70058 ,  G02B17/06 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

    Abstract: 一种反射折射投影物镜，用于将布置在投影物镜的物面上的图案成像在投影物镜的像面上，具有用于物场的成像以形成第一真实的中间图像的第一物镜部分，利用来自第一物镜部分的辐射产生第二真实的中间图像的第二物镜部分；以及将第二真实的中间图像成像在像面上的第三物镜部分。第二物镜部分是具有凹面镜的反射折射物镜部分。提供沿凹面镜的方向偏转来自物面的辐射的第一折叠式反射镜和沿像面的方向偏转来自凹面镜的辐射的第二折叠式反射镜。在接近于第一中间图像的场的区域中，具有正折射本能的场透镜布置在第一中间图像和/或第一折叠式反射镜和凹面镜之间。

    用于测量光学成像系统的图像质量的系统
    18.
    发明公开
    用于测量光学成像系统的图像质量的系统 失效

    公开(公告)号：CN1973246A

    公开(公告)日：2007-05-30

    申请号：CN200580018031.9

    申请日：2005-06-02

    Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

    Inventor： M·门格尔 ,  U·维格曼 ,  A·厄尔曼 ,  W·埃默 ,  R·克莱门特 ,  L·马蒂杰森

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G01M11/0257 ,  G01M11/0214 ,  G01M11/0271 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70958 ,  Y10T428/31

    Abstract: 一种用于光学成像系统(150)的光学测量的测量系统(100)，提供该光学成像系统以使设置在成像系统的目标表面(155)的图案成像到成像系统的图像表面(156)，该测量系统包括，具有目标侧测量结构(111)的目标侧结构载体(110)，其设置于成像系统的目标侧上；具有图像侧测量结构(121)的图像侧结构载体(120)，其设置于成像系统的图像侧上；该目标侧测量结构和该图像侧测量结构以这种方式彼此匹配：当目标侧测量结构借助于成像系统成像到图像侧测量结构上时，产生叠加图案；和用于叠加图案的局部分辨采集的检测器(130)。该成像系统设计为用于借助浸液(171)成像的浸液系统。给设置在浸液区域中的结构载体分配保护系统(125)，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此，在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面，可能不受浸液的有害影响。

    反射折射投影物镜
    19.
    发明公开
    反射折射投影物镜 失效

    公开(公告)号：CN1910494A

    公开(公告)日：2007-02-07

    申请号：CN200580002499.9

    申请日：2005-01-13

    Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

    Inventor： D·谢弗 ,  W·乌尔里希 ,  A·多多克 ,  R·冯比瑙 ,  H·-J·曼 ,  A·埃普勒

    IPC: G02B17/00 ,  G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70958 ,  G02B13/22 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70966

    Abstract: 一种反射折射投影物镜(200)，用于将提供在投影物镜的物面(201)中的图形成像在投影物镜的像面(202)上，包括：第一物镜部分(210)，用于将提供在物面中的图形成像为第一中间图像；第二物镜部分(220)，用于将第一中间图像成像为第二中间图像；第三物镜部分(230)，用于将第二中间图像直接成像到像面上；其中具有第一连续镜面的第一凹面镜(221)和具有第二连续镜面的至少一个第二凹面镜(222)布置在第二中间图像的上游；光瞳面形成在物面和第一中间图像之间，形成在第一和第二中间图像之间，并且形成在第二中间图像和像面之间；所有凹面镜布置成光学远离光瞳面。该系统在适度透镜材料物质消耗的情况下具有非常高的数值孔径。

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