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公开(公告)号:TWI650044B
公开(公告)日:2019-02-01
申请号:TW103128168
申请日:2014-08-15
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
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公开(公告)号:TWI643418B
公开(公告)日:2018-12-01
申请号:TW104102119
申请日:2015-01-22
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 張 凱文 , ZHANG, KEVIN , 里班伯格 克里斯托 , LIEBENBERG, CHRISTO , 史查夫甘斯 亞歷山大 , SCHAFGANS, ALEXANDER
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公开(公告)号:TWI643243B
公开(公告)日:2018-12-01
申请号:TW102133983
申请日:2013-09-18
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 , VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS , 參格 提姆瑟 法蘭西斯 , SENGERS, TIMOTHEUS FRANCISCUS , 范倫丁 克力斯坦 路易斯 , VALENTIN, CHRISTIAAN LOUIS , 凡 迪及西爾當克 安東尼爾斯 喬漢尼司 喬瑟夫司 , VAN DIJSSELDONK, ANTONIUS JOHANNES JOSEPHUS
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
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14.用於形成極紫外光源的經定形標靶之方法、形成發射極紫外光的電漿之方法及極紫外光源 有权
Simplified title: 用于形成极紫外光源的经定形标靶之方法、形成发射极紫外光的等离子之方法及极紫外光源公开(公告)号:TWI643209B
公开(公告)日:2018-12-01
申请号:TW103144295
申请日:2014-12-18
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 陶 業爭 , TAO, YEZHENG , 史圖華特 約翰T , STEWART, JOHN TOM , 布朗 丹尼爾J W , BROWN, DANIEL J. W.
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公开(公告)号:TWI643025B
公开(公告)日:2018-12-01
申请号:TW104119469
申请日:2015-06-16
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 克歇梅克斯 山德 , KERSSEMAKERS, SANDER , 丹 邦伊 威海明司 派特斯 , DE BOEIJ, WILHELMUS PETRUS , 德 蘭奇 葛本 法蘭克 , DE LANGE, GERBEN FRANK , 胡甄丹 克莉絲汀娜 艾利珊卓 , HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER , 凡 吉斯 比卓斯 法新克司 , VAN GILS, PETRUS FRANCISCUS , 卡敏加 吉而摩 馬修斯 , 庫特 簡 傑彼 , KUIT, JAN JAAP , 斯庫爾曼斯 卡羅斯 裘漢斯 凱薩琳娜 , SCHOORMANS, CAROLUS JOHANNES CATHARINA
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号:TWI641917B
公开(公告)日:2018-11-21
申请号:TW105103051
申请日:2016-01-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 柳星蘭 , LIU, XING LAN , 史密德 韓卓克 真 海德 , SMILDE, HENDRIK JAN HIDDE , 彭玥霖 , PENG, YUE LIN , 希可利 哈奇 爾金 , 佩羅 裘瑟林 , PELLO, JOSSELIN , 凡 哈倫 理查 喬哈奈 法蘭西卡斯 , VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号:TWI641821B
公开(公告)日:2018-11-21
申请号:TW105112331
申请日:2016-04-20
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
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公开(公告)号:TWI636709B
公开(公告)日:2018-09-21
申请号:TW103108131
申请日:2014-03-10
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 拉法斯 羅伯特J , RAFAC, ROBERT J. , 陶業爭 , TAO, YEZHENG
IPC: H05G2/00
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公开(公告)号:TWI635369B
公开(公告)日:2018-09-11
申请号:TW105118034
申请日:2016-06-07
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
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公开(公告)号:TWI633395B
公开(公告)日:2018-08-21
申请号:TW105133392
申请日:2016-10-17
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 譚 伯格 彼德 , TEN BERGE, PETER , 摩斯 艾佛哈德斯 柯奈利斯 , MOS, EVERHARDUS CORNELIS , 凡 哈倫 理查 喬哈奈 法蘭西卡斯 , VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS , 沃爾登尼爾 彼得 韓森 , WARDENIER, PETER HANZEN , 傑森 艾瑞克 , JENSEN, ERIK , 凱斯川普 伯納多 , KASTRUP, BERNARDO , 庫必司 麥克 , KUBIS, MICHAEL , 馬肯斯 喬納斯 凱瑟尼斯 哈伯特斯 , MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS , 戴克司 大衛 法蘭斯 賽門 , DECKERS, DAVID FRANS SIMON , 漢克 沃夫甘 哈慕特 , HENKE, WOLFGANG HELMUT , 李 鍾哲 , LEE, JOUNGCHEL
IPC: G03F7/20
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