公开(公告)号：DE102020208670A1

公开(公告)日：2021-04-08

申请号：DE102020208670

申请日：2020-07-10

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： FUKUDA MASATO ,  ITO MASAHITO ,  MATSUSHITA MIYUKI ,  HASHIMOTO MAKOTO

IPC: G01N35/02 ,  G01N30/02

Abstract: [Aufgabe] Eine Autosampler-Steuerung, die es ermöglicht, auf Halteposition-Information, die die tatsächliche Halteposition darstellt, den Stand der Messung einer Probe mühelos einzustellen bzw. zu ändern und zudem den Stand der Messung einfach zu erfassen, sowie ein automatisches Messsystem bereitzustellen, welches sie umfasst.[Lösung] Autosampler-Steuerung 7 mit einer Steuereinheit 9 und einem Speicherelement 8 zur Verwendung für einen Autosampler 3, welcher einen Probenhalter 3a, der eine Mehrzahl von Proben 201a bis 201c aneinandergereiht hält, und einen Probengeber 3b umfasst, der je eine der Proben in die Messvorrichtung 6 einführt, wobei die Steuereinheit auf einer vorgegebenen Anzeige 10 Halteposition-Information 300 anzeigt, die die Haltepositionen der Proben in dem Probenhalter darstellt; wenn auf der Halteposition-Information durch einen Nutzer einer von mehreren vorgegebenen Messstatus definiert wird, die den Stand der Messung der Probe darstellen, die Position 302 der definierten Probe und den Messstatus einander zugeordnet in dem Speicherelement speichert; und auf der Halteposition-Information die Probe, bei welcher der Messstatus definiert ist, farblich differenziert bzw. hervorgehoben anzeigt.

公开(公告)号：DE102020211687A1

公开(公告)日：2021-03-25

申请号：DE102020211687

申请日：2020-09-17

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： KOYAMA YOSHIHIRO ,  ASAHATA TATSUYA ,  KIYOHARA MASAHIRO ,  YANG TSUNGHAN

IPC: H01J37/08 ,  H01J7/20 ,  H01J27/26 ,  H01J37/26 ,  H01J37/30

Abstract: Vorgesehen sind eine Flüssigmetallionenquelle, die in der Lage ist, einen Ionenstrahl über einen langen Zeitraum stabil zu emittieren, und eine Vorrichtung mit fokussiertem Ionenstrahl. Eine Flüssigmetallionenquelle (50) schließt ein: ein Reservoir (10), das so konfiguriert ist, um ein ein Flüssigmetall bildendes Ionenmaterial (M) aufzunehmen; eine Nadelelektrode (20) mit einer Oberfläche, die mit dem aus dem Reservoir zugeführten Ionenmaterial zu bedecken ist; eine Extraktionselektrode (22), die so konfiguriert ist, dass sie bewirkt, dass ein Ion des Ionenmaterials von einem distalen Ende der Nadelelektrode emittiert wird; eine Strahlblende (24), die auf einer stromabwärtigen Seite der Extraktionselektrode angeordnet und so konfiguriert ist, um einen Ionenstrahldurchmesser zu begrenzen; und eine Vakuumkammer (30), die so konfiguriert ist, um das Reservoir, die Nadelelektrode, die Extraktionselektrode und die Strahlblende aufzunehmen und im Vakuum zu halten, wobei die Flüssigmetallionenquelle ferner einen Einführungsabschnitt (40) für oxidierendes Gas aufweist, und wobei der Einführungsabschnitt für oxidierendes Gas mit der Vakuumkammer in Verbindung steht und so konfiguriert ist, um ein oxidierendes Gas in eine Peripherie der Nadelelektrode einzuführen.

公开(公告)号：DE102020211686A1

公开(公告)日：2021-03-25

申请号：DE102020211686

申请日：2020-09-17

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： IWAHORI TOSHIYUKI

IPC: H01J37/20 ,  G01N23/00 ,  G01N23/2206 ,  H01J37/26

Abstract: Es werden Probenhalter und eine Ladungsteilchenstrahlvorrichtung zur Verfügung gestellt, die in der Lage sind, die Position und die Lage einer Probe auf einfache Weise zu verändern und gleichzeitig die Komplexität einer Vorrichtungskonfiguration zu unterdrücken. Ein Probenhalter (19) weist einen Basisabschnitt (41), einen Probenaufnahmeabschnitt (42), einen Drehführungsabschnitt (43), eine Kühlstufe (46), ein Verbindungselement (47), einen ersten Stützabschnitt und einen Befestigungsführungsabschnitt (48) auf. Der Basisabschnitt (41) ist so konfiguriert, dass er an einem Objekttisch (12) befestigt werden kann, der so konfiguriert ist, dass er durch einen =Objekttischantriebsmechanismus (13) zur Drehung angetrieben werden kann. Der Drehführungsabschnitt (43) ist so konfiguriert, dass er die synchrone Drehung des Basisabschnitts (41) und des Probenträgerabschnitts (42) führt. Die Kühlstufe (46) ist so konfiguriert, dass sie eine Probe (S) kühlt. Das Verbindungselement (47) ist so konfiguriert, dass es mit der Kühlstufe (46) verbunden werden kann. Der erste Stützabschnitt ist so konfiguriert, dass er den Basisabschnitt (41) stützt, der so konfiguriert ist, dass er von dem Objekttisch (12) zur Drehung angetrieben wird. Der Befestigungsführungsabschnitt (48) ist über den ersten Stützabschnitt mit dem Basisabschnitt (41) verbunden und so konfiguriert, dass er die Befestigung des Verbindungselements (47) unabhängig vom Basisabschnitt (41)

公开(公告)号：DE102013102777B4

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：DE102013102777

申请日：2013-03-19

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： SUGIYAMA YASUHIKO ,  AITA KAZUO ,  ARAMAKI FUMIO ,  KOZAKAI TOMOKAZU ,  MATSUDA OSAMU ,  YASAKA ANTO

IPC: H01J37/30

Abstract: Verfahren zum Herstellen eines angespitzten, nadelförmigen Emitters, wobei das Verfahren umfasst:elektrolytisches Polieren eines End-Abschnittes von einem elektrisch leitfähigen Emitter-Material, derart, dass er in Richtung zu einem Spitzen-Abschnitt davon spitz zuläuft;Durchführen eines ersten Ätzens, bei welchem der elektrolytisch polierte Abschnitt des Emitter-Materials mit einem fokussierten Ionenstrahl derart bestrahlt wird, dass pyramidenförmige Flächen erstellt werden, um einen pyramidenförmigen, angespitzten Abschnitt auszubilden, welcher eine Spitze hat, welche den Spitzen-Abschnitt umfasst; undDurchführen eines zweiten Ätzens, bei welchem der Spitzen-Abschnitt des angespitzten Abschnitts durch feldunterstütztes Gas-Ätzen weiter angespitzt wird, während ein Kristall-Aufbau am Spitzen-Abschnitt des angespitzten Abschnitts durch ein Feld-Ionen-Mikroskop beobachtet wird, und die Anzahl von Atomen an einer Vorderkante des Spitzen-Abschnitts des angespitzten Abschnitts auf eine vorbestimmte Anzahl oder weniger beibehalten wird.

公开(公告)号：DE102012108788B4

公开(公告)日：2020-10-01

申请号：DE102012108788

申请日：2012-09-18

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： YAMAMOTO YO ,  MAN XIN ,  ASAHATA TATSUYA

IPC: H01J37/30 ,  G01N1/32 ,  G01N23/225

Abstract: Zusammengesetzte Ladungsteilchenstrahlvorrichtung, umfassend:eine FIB Säule (1);eine SEM Säule (2), die im Wesentlichen senkrecht in einem rechten Winkel bezüglich der FIB Säule (1) angeordnet ist;einen Probentisch (3) zum Befestigen einer Probe (4);einen Detektor (5) zum Detektieren eines aus der Probe (4) erzeugten Sekundärteilchens;ein Beobachtungsbild-Entwicklungsteil (8) zum Formen eines FIB Bildes (56) und eines SEM Bildes (55) auf der Basis eines Erkennungssignals des Detektors (5); undein Sichtanzeigeteil (9) zum Darstellen des FIB Bildes (56) und des SEM Bildes (55), bei dem eine horizontale Richtung der Probe (4) in dem FIB Bild (56) und eine horizontale Richtung der Probe (4) in dem SEM Bild (55) dieselben sind; undein Dreidimensionalbild-Entwicklungsteil (15) zum Umkehren von horizontalen Richtungen einer Vielzahl der SEM Bilder (55), die gewonnen werden, indem eine Beobachtungsebenenbildung durch FIB Bestrahlung und SEM Bildgewinnung der Beobachtungsebene wiederholt werden, undzum Formen eines dreidimensionalen Bildes aus der umgekehrten Vielzahl der SEM Bilder (55).

公开(公告)号：DE102019108116A1

公开(公告)日：2019-10-02

申请号：DE102019108116

申请日：2019-03-28

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： SUZUKI MASATO ,  TOMIMATSU SATOSHI ,  SATO MAKOTO ,  ASAHATA TATSUYA

IPC: G01N1/28

Abstract: Um einen Betrieb des Isolierens eines Probenstücks, welches durch Bearbeiten einer Probe mit einem Ionenstrahl gebildet wird, und des Überführens des Probenstücks zu einem Probenstückhalter automatisch zu wiederholen, umfasst eine Vorrichtung mit geladenem Partikelstrahl einen Computer, welcher dafür ausgelegt ist, eine Steuerung durchzuführen, so dass ohne Drehen einer Nadel, mit welcher das Probenstück an dem Probenstückhalter befestigt ist eine auf der Nadel abgelagerte Ablagerungsschicht mit einem geladenen Partikelstrahl aus einem optischen Bestrahlungssystem für geladenen Partikelstrahl bestrahlt wird.

公开(公告)号：CZ2017837A3

公开(公告)日：2019-07-03

申请号：CZ2017837

申请日：2017-12-22

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： SUZUKI HIDEKAZU

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/304

Abstract: Zařízení pro vyzařování svazků paprsků s nabitými částicemi obsahuje: vyzařovací jednotku, která ozařuje vzorek pomocí svazku paprsků s nabitými částicemi, sekci pro vytváření obrazu, která detekuje nabité částice, generované ze vzorku v důsledku ozařování svazkem paprsků s nabitými částicemi a vytváří obraz na základě signálu, získávaného prostřednictvím detekování nabitých částic, vstupní přijímací jednotku, která přijímá pozorovací podmínky, derivační sekci, která odvozuje druhé pozorovací parametry, vhodné pro pozorovací podmínky, na základě přijímaných pozorovacích podmínek, a první pozorovací parametry, uložené v paměťové jednotce, a řídicí jednotku, která řídí vyzařovací jednotku na základě druhých pozorovacích parametrů.

公开(公告)号：DE102018130252A1

公开(公告)日：2019-06-06

申请号：DE102018130252

申请日：2018-11-29

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： OSHIMA CHUHEI ,  TOMITORI MASAHIKO ,  YASAKA ANTO ,  SHIMODA TATSUYA

IPC: H01J37/073 ,  G01N27/00 ,  H01J9/02 ,  H01J37/30

Abstract: Bereitgestellt wird eine Spitze, welche in der Lage ist, eine Einzelatomabschlussstruktur, bei welcher ein abgelegenes Ende von nur einem Atom gebildet wird, wiederholt zu regenerieren. Eine Spitze (1) mit einer Einzelatomabschlussstruktur umfasst: ein dünnes Linienelement (2), welches aus einem ersten Metallmaterial hergestellt ist; einen vorstehenden Abschnitt (4), welcher aus einem zweiten Metallmaterial hergestellt ist, welcher an zumindest einem abgelegenen Endabschnitt (2a) des dünnen Linienelements (2) gebildet ist und ein abgelegenes Ende aufweist, welches mit nur einem Atom abgeschlossen ist; und einen Zuführabschnitt (5), welcher aus dem zweiten, dem vorstehenden Abschnitt (4) zuzuführenden Metallmaterial hergestellt ist, welcher in der Nähe des abgelegenen Endabschnitts (2a) des dünnen Linienelements (2) ausgebildet ist.

公开(公告)号：DE102010034666B4

公开(公告)日：2019-03-28

申请号：DE102010034666

申请日：2010-08-18

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： TAKAHARA TOSHIYUKI

IPC: G01N23/223

Abstract: Röntgenanalysevorrichtung, mit:einer Strahlungsquelle (2), die zum Bestrahlen eines Bestrahlungspunktes (P1) auf einer Probe (S) mit Strahlung konfiguriert ist;einem Röntgenstrahldetektor (3), der zum Erfassen eines von der Probe (S) emittierten charakteristischen Röntgenstrahls und eines Streu-Röntgenstrahls und zur Ausgabe eines Signals konfiguriert ist, das Energieinformationen über den charakteristischen Röntgenstrahl und den Streu-Röntgenstrahl enthält;einem zum Analysieren des Signals konfigurierten Analysator (4);einem Probentisch (1), der so konfiguriert ist, dass die Probe (S) darauf angeordnet werden kann;einem Schiebemechanismus (8), der die Probe (S) auf dem Probentisch (1) und die Strahlungsquelle (2) sowie den Röntgenstrahldetektor (3) relativ zueinander verschieben kann;einem Höhenmessmechanismus, der die Höhe des Bestrahlungspunktes (P1) auf der Probe (S) messen kann und einen Laserversatzsensor (7) enthält;einem Probenbeobachtungssystem (5), das zum Beobachten der Probe (S) konfiguriert ist;einer Steuerung (9), die zum Steuern des Schiebemechanismus (8) auf Basis der gemessenen Höhe des Bestrahlungspunktes (P1) auf der Probe (S) und zum Einstellen des Abstands der Probe (S) bezüglich der Strahlungsquelle (2) und des Röntgenstrahldetektors (3) konfiguriert ist; undeinem Antriebsmechanismus (6), der zum Ändern des Brennpunktes des Probenbeobachtungssystems (5) konfiguriert ist, wobei die Brennpunktposition des Probenbeobachtungssystems (5) durch Ansteuern des Antriebsmechanismus (6) zum Ändern des Brennpunktes auf Basis der vom Höhenmessmechanismus gemessenen Höhe des Bestrahlungspunktes (P1) auf der Probe (S) eingestellt wird für ein Bild der Probe (S), die durch eine Beleuchtungseinheit beleuchtet ist;wobei die optische Achse der von der Strahlungsquelle (2) abgestrahlten Strahlung (X1), die optische Achse des Laserversatzsensors (7) und die optische Achse des Probenbeobachtungssystems (5) koaxial sind, und die Probe (S) mit der Strahlung (X1) der Strahlungsquelle (2) und einem vom Laserversatzsensor (7) emittierten Laserstrahl (L1) bestrahlt wird.

公开(公告)号：DE102018107282A1

公开(公告)日：2018-11-15

申请号：DE102018107282

申请日：2018-03-27

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： IWAHORI TOSHIYUKI

IPC: H01J37/20 ,  C23C4/134

Abstract: Hier wird eine Ladungsteilchenstrahlvorrichtung (10) offenbart, die enthält: eine Probenkammer (11); einen Probentisch (31); eine Elektronenstrahlsäule (13), die eine Probe S mit einem Elektronenstrahl bestrahlt; und eine Säule (14) für einen fokussierten Ionenstrahl, die die Probe S mit einem fokussierten Ionenstrahl bestrahlt. Die Vorrichtung (10) enthält ein Verschiebungselement (45), das aufweist: einen Öffnungs-/Schließabschnitt, der vorgesehen ist, so dass er zwischen einer Einsetzposition zwischen einem Strahlemissionsendabschnitt der Elektronenstrahlsäule (13) und dem Probentisch (31) und einer Rückzugsposition entfernt von der Einsetzposition verschiebbar ist; und einen Kontaktabschnitt, der an einer Kontaktposition vorgesehen ist und während des Betriebs des Probentischs (31) vor dem Strahlemissionsendabschnitt mit der Probe S in Kontakt gelangen kann. Die Vorrichtung (10) enthält: eine Antriebseinheit 42, die das Verschiebungselement (45) verschiebt; und einen Leitungssensor (24), der detektiert, ob sich die Probe mit dem Kontaktabschnitt in Kontakt befindet.