基板处理装置以及基板处理方法

    公开(公告)号:CN113228233A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN201980086584.X

    申请日:2019-12-19

    Abstract: 提供一种利用药液适当地剥离固贴在旋转的基板的表面的对象物的技术。基板处理装置1具有处理单元2。处理单元2一边使基板W以水平姿势围绕旋转轴线A1旋转,一边从SPM喷嘴18供给药液。喷嘴移动单元20使SPM喷嘴18在第一方向D1上移动。相机153将基板W的上表面包含于拍摄对象区域。图像处理部3B在由相机153所获得的拍摄图像PI1中检测剥离了抗蚀剂的剥离区域R1与固贴有抗蚀剂的未剥离区域R2之间的边界B1。喷嘴移动控制装置3D控制喷嘴移动单元20,从而根据上述边界B1的位置使SPM喷嘴18在第一方向D1上移动。

    基板处理装置和基板处理方法

    公开(公告)号:CN108461423A

    公开(公告)日:2018-08-28

    申请号:CN201810141286.3

    申请日:2018-02-11

    Inventor: 墨周武 远藤亨

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法,能够将从处理液产生的凝结固体烟雾高效排出。基板处理装置具备基板的保持部件、使保持部件以旋转轴为中心旋转的旋转机构、处理液供给机构、内侧保护件、设置于内侧保护件的外侧的外侧保护件、以及包含与流路连通的排气口并将该流路内的气体引导至外部的排气导管,流路的通风阻力在排气口侧比相对于旋转轴而言与排气口相反的一侧小,内侧保护件和外侧保护件设置为使得基板的上方的部分中的位于与内侧保护件的上端相比的上方并且位于比外侧保护件的上端相比的下方的部分的气体主要从基板的上方朝向排气口侧流动。

    基板处理方法及基板处理装置

    公开(公告)号:CN110364431B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN201910150857.4

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明提供一种向基板供给通过将硫酸与双氧水按照第一混合比混合而生成的第一SPM的基板处理方法及基板处理装置。在停止供给第一SPM后向基板供给第二SPM,该第二SPM是通过将硫酸与双氧水按照大于第一混合比的第二混合比混合而生成的。使从基板排出的第一SPM流入排液管道。并且使从基板排出的第二SPM流入回收管道。通过将双氧水与由回收管道引导的第二SPM中含有的硫酸混合来生成SPM。

    基板处理方法以及基板处理装置
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116490956A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202180076552.9

    申请日:2021-10-29

    Abstract: 基板处理方法包括:基板保持工序,将基板保持在被筒状的防护罩包围的保持位置;处理液供给工序,一边使被保持在所述保持位置的所述基板绕穿过所述基板的中央部的旋转轴线旋转,一边将处理所述基板的被处理面的处理液供给至所述基板的被处理面;图像取得工序,在对所述基板的被处理面供给处理液的期间,取得所述基板的被处理面的图像以及所述防护罩的内壁面的图像;以及检测工序,监视在所述图像取得工序中取得的图像的亮度值,并检测处理结束时间点,所述处理结束时间点为处理液对于所述基板的被处理面的处理结束的时间点。

    基板处理装置及筒状护罩的加工方法

    公开(公告)号:CN114944349A

    公开(公告)日:2022-08-26

    申请号:CN202210134253.2

    申请日:2022-02-14

    Abstract: 本发明提供基板处理装置及筒状护罩的加工方法。基板处理装置具备:旋转保持部件,其在保持基板的同时使上述基板绕着规定的旋转轴线旋转;液体供给部件,其向保持于上述旋转保持部件的基板供给液体;和树脂制的筒状护罩,其包围保持于上述旋转保持部件的基板。上述筒状护罩具有内周面和设于上述内周面的凹凸部。上述凹凸部具有多个凹部和位于彼此相邻的上述凹部彼此之间的多个凸部。上述凹部具有比从保持于上述旋转保持部件的基板飞散的液滴的直径小的宽度、和在上述液滴与多个上述凸部接触的状态下使上述液滴不与上述凹部的底部接触的深度。上述凸部具有比上述液滴的直径小且比上述凹部的宽度小的宽度。

    基板处理方法以及基板处理装置

    公开(公告)号:CN110364452A

    公开(公告)日:2019-10-22

    申请号:CN201910144390.2

    申请日:2019-02-27

    Abstract: 本发明提供基板处理方法,包括:由基板保持单元保持基板的基板保持工序;一边使上述基板绕通过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向上述基板的主面供给药液的药液供给工序;与上述药液供给工序并行地检测从上述基板排出的药液中所含的异物的异物检测工序;以及基于上述异物检测工序的异物的检测,在上述药液供给工序中将从基板排出的药液的流通目的地从排液配管切换至回收配管的流通目的地切换工序。

    基板处理装置以及基板处理方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119856255A

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202380063625.X

    申请日:2023-07-24

    Abstract: 基板处理装置(100)具有:基板保持部(20),保持基板(W)并使基板(W)旋转;以及混合液供给部(50),向通过基板保持部(20)旋转的基板(W)供给混合了硫酸以及双氧水的硫酸双氧水混合液。混合液供给部(50)在第一期间中以第一流量向基板供给硫酸双氧水混合液,在第一期间之后的第二期间中以比第一流量小的第二流量向基板供给硫酸双氧水混合液。在第二期间中硫酸双氧水混合液的硫酸的比例比在第一期间中硫酸双氧水混合液的硫酸的比例小。

    基板处理装置以及基板处理方法
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118872032A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202380028060.1

    申请日:2023-03-17

    Abstract: 在基板处理装置(100)中,控制部(102)基于第一流量计(112b)的测量结果计算从第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)而供给至贮存槽(116)的第一成分液体的第一供给量,基于第二流量计(114b)的测量结果计算从第二成分液体供给部(114)经由第二配管(114a)而供给至贮存槽(116)的第二成分液体的第二供给量;在成分液体供给期间中基于第一供给量以及第二供给量来控制第一成分液体供给部(112)以及第二成分液体供给部(114),成分液体供给期间为第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)供给第一成分液体的期间以及第二成分液体供给部(114)经由第二配管(114a)供给第二成分液体的期间中的至少一个期间。

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