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公开(公告)号：CN107636818A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680026696.2
申请日：2016-04-26
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 摩根·D·艾文斯 , 杰森·M·夏勒 , D·杰弗里·里斯查尔 , 阿拉·莫瑞迪亚 , 威廉·T·维弗 , 罗伯特·布然特·宝佩特
CPC classification number: F26B3/30 , H01L21/67115 , H01L21/68
Abstract: 揭露一种当衬底在负载锁室与平台之间传送时用于加热衬底的系统。所述系统包括发光二极管的阵列，其配置于对准站上方。发光二极管可为GaN或GaP发光二极管，其发出具有易于被硅吸收的波长的光，因此有效且快速地加热衬底。发光二极管可排列为使得对准期间的衬底旋转产生衬底的均匀温度分布。此外，对准期间的加热也可提高生产力以及省略目前与处理室连结的预加热站。
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公开(公告)号：CN106165122B
公开(公告)日：2017-12-26
申请号：CN201580018131.5
申请日：2015-02-10
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 尼可拉斯·PT·贝特曼 , 班哲明·里欧丹 , 威廉·T·维弗
IPC: H01L31/18
CPC classification number: H01L31/18 , H01J2237/31711
Abstract: 本发明揭示一种用来植入工件表面的掩模组以及处理工件的方法。揭示一种处理太阳能电池的方法，进行连锁图案化离子植入以产生具有较重掺杂区域的轻掺杂表面的工件。此种配置可以用在多种实施例中，例如用于选择性射极太阳能电池。此外，也揭示用来产生于所需图案的多种掩模组。掩模组可包括一或多个具有开口部分和图案化部分的掩模，其中该些开口部分的总合构成被植入表面的整体。该些掩模的该些图案化部分合并产生重掺杂区域的所需图案。
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公开(公告)号：CN107112187A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580068755.8
申请日：2015-11-18
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 摩根·D·艾文斯 , 凯文·安葛林 , D·杰弗里·里斯查尔 , 威廉·T·维弗 , 杰森·M·夏勒 , 罗伯特·布仁特·宝佩特
IPC: H01J37/317 , H01L21/265 , H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67115 , H01J37/3171 , H01L21/6776 , H01L21/265 , H01L21/324
Abstract: 本发明公开一种用以在处理期间动态加热工件的系统及方法。系统包括离子源及被排列成阵列的多个发光二极管，多个发光二极管射向工件的表面的一部分处。发光二极管被选择成使其发出处于易于由工件吸收的频率范围内的光，从而加热工件。在某些实施例中，发光二极管恰好在工件的一部分经离子束处理之前加热所述部分。在另一实施例中，发光二极管在工件的一部分正进行处理时加热所述部分。发光二极管可被排列成阵列，阵列可具有至少与离子束的宽度一样宽的宽度。阵列还具有垂直于其宽度的长度，长度具有一行或多行发光二极管。
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公开(公告)号：CN103415919A
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201280012699.2
申请日：2012-03-09
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/68 , B65G49/07 , H01L21/67769 , H01L21/67775 , H01L21/67781 , H01L21/681 , Y10T29/49764 , Y10T29/49829 , Y10T29/53022 , Y10T29/53539
Abstract: 一种对准装置，其具有支架；支架上的二轨条，经组态以使工件通过轨条之间；以及指状物，由支架突出一段距离。指状物经组态以配置于用于工件的载具上。工件可以是太阳能电池且可在输送带上通过所述轨条。当工件承载至载具中时，工件对准装置可移动以将工件对准。
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公开(公告)号：CN104798190B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201380060451.8
申请日：2013-07-17
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/673 , H01L21/687 , C23C14/04
CPC classification number: H01L21/67333 , C23C14/042 , C23C14/48 , C23C14/50 , H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68778 , Y10T29/49899
Abstract: 揭示一种固持工件用的系统和承载器及对准承载器内的工件的方法。揭示一种能够固持一个或一个以上工件的承载器。承载器包含沿着承载器中的每一单元的边定位的可移动突起。此承载器结合独立对准设备使用多步对准过程相对于若干对准销来对准相应单元内的每一工件，以保证单元中的工件的恰当定位。首先，使工件朝所述单元的一侧边移动。一旦工件已相对于此边对准，工件便接着朝邻近正交边移动，以使得工件与单元的两侧边对准。一旦对准，工件便由沿着每一单元的每一侧边定位的突起固持于适当位置。另外，对准销还用以对准相关联的罩幕，进而保证罩幕与工件恰当地对准。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106165122A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201580018131.5
申请日：2015-02-10
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 尼可拉斯·PT·贝特曼 , 班哲明·里欧丹 , 威廉·T·维弗
IPC: H01L31/18
CPC classification number: H01L31/18 , H01J2237/31711
Abstract: 揭示一种处理太阳能电池的方法，进行连锁图案化离子植入以产生具有较重掺杂区域的轻掺杂表面的工件。此种配置可以用在多种实施例中，例如用于选择性射极太阳能电池。此外，也揭示用来产生于所需图案的多种掩模组。掩模组可包括一或多个具有开口部分和图案化部分的掩模，其中该些开口部分的总合构成被植入表面的整体。该些掩模的该些图案化部分合并产生重掺杂区域的所需图案。
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公开(公告)号：CN102668057B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201080055596.5
申请日：2010-11-09
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/687 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/67739 , G21K5/10 , H01L21/67742 , H01L21/67766 , H01L21/68707
Abstract: 一种系统，用以将工件装载至处理腔室而在矩阵配置中处理的系统，包括输送机、工件旅舍、选取片。配置输送机而以线性方式运输多个工件；配置工件旅舍以从输送机接收多工件。此工件旅舍包括以N行M层排列的单元矩阵；配置选取片以插入旅舍并自旅舍退回，以将多个基材从第一层卸载至选取片的单一列上，并重复此卸载操作以形成矩阵，此矩阵包括多个列而配置在选取片上的基材。在一例中，此工件旅舍具有交错的配置，此交错的配置提供了各个旅舍单元的各别可达性。
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公开(公告)号：CN102439693B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201080022632.8
申请日：2010-06-15
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01J37/317 , H01L21/266
CPC classification number: H01L21/67213 , C23C14/48 , H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/20292 , H01J2237/204 , H01J2237/31711 , H01L21/266 , H01L21/67769 , H01L31/022425 , H01L31/022441 , H01L31/068 , H01L31/0682 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
Abstract: 一种工作件处理系统(100)包含：处理腔室(114)，其经组态以支撑工作件用于离子植入；第一遮罩(172、174、176)，其储存于所述处理腔室(114)外部且处于遮罩台(170)中；以及机器人系统(106)，其经组态以自所述遮罩台(170)撷取所述第一遮罩(172、174、176)，且将所述第一遮罩定位于所述工作件上游，使得所述工作件经由所述第一遮罩而接收第一选择性植入。一种方法包含：将第一遮罩(172、174、176)储存于处理腔室(114)外部且处于遮罩台(170)中；自所述遮罩台(170)撷取所述第一遮罩；将所述第一遮罩定位于已定位在所述处理腔室(114)中的工作件上游以用于离子植入；以及经由所述第一遮罩而执行第一选择性植入。
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公开(公告)号：CN103988290A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201280059757.7
申请日：2012-11-02
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
CPC classification number: B65G49/00 , B65G47/918 , B65G49/061 , B65G2203/041 , H01L21/67213 , H01L21/67733 , H01L21/67736 , H01L21/67754
Abstract: 此工件处理系统的一实施例包括输送带与加载互锁区，第一交换机械臂在建造台与加载互锁区之间持有并传送工件，支架机械臂在每个输送带与第一交换机械臂之间传送工件。在一实例中，利用支架机械臂，将已加工工件从第一交换机械臂传送至第一输送带，并将未加工工件从第二输送带传送至第一交换机械臂。第二交换机械臂可与第一交换机械臂一起用来从加载互锁区负载并卸载工件。
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公开(公告)号：CN102668057A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080055596.5
申请日：2010-11-09
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/687 , B65G49/06
CPC classification number: H01L21/67739 , G21K5/10 , H01L21/67742 , H01L21/67766 , H01L21/68707
Abstract: 一种系统，用以将工件装载至处理腔室而在矩阵配置中处理的系统，包括输送机、工件旅舍、选取片。配置输送机而以线性方式运输多个工件；配置工件旅舍以从输送机接收多工件。此工件旅舍包括以N行M层排列的单元矩阵；配置选取片以插入旅舍并自旅舍退回，以将多个基材从第一层卸载至选取片的单一列上，并重复此卸载操作以形成矩阵，此矩阵包括多个列而配置在选取片上的基材。在一例中，此工件旅舍具有交错的配置，此交错的配置提供了各个旅舍单元的各别可达性。
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