用于半导体处理的掩膜对准系统

    公开(公告)号:CN104969340A

    公开(公告)日:2015-10-07

    申请号:CN201380072416.8

    申请日:2013-12-11

    CPC classification number: H01L21/266 H01L21/682

    Abstract: 一种用于在离子注入掩模与工件之间提供精确且可重复的对准的掩模对准系统。所述系统包含掩模框架,掩模框架具有松散地连接到掩模框架的多个离子注入掩模。掩模框架设有多个框架对准空腔,且每一掩模设有多个掩模对准空腔。所述系统还包含用于固持工件的压板。压板可设有多个掩模对准销和框架对准销,多个掩模对准销和多个框架对准销经配置以分别啮合掩模对准空腔和框架对准空腔。掩模框架可降低到压板上,其中框架对准空腔移动成与框架对准销对齐以在掩模与工件之间提供粗略对准。掩模对准空腔可接着移动成与掩模对准销对齐,进而将每一个别掩模移位成与相应工件精确对准。

    掩膜对准系统及掩膜对准方法

    公开(公告)号:CN104969340B

    公开(公告)日:2017-06-06

    申请号:CN201380072416.8

    申请日:2013-12-11

    CPC classification number: H01L21/266 H01L21/682

    Abstract: 本发明提供一种掩模对准系统及掩膜对准方法。所述系统包含掩模框架,掩模框架具有松散地连接到掩模框架的多个离子注入掩模。掩模框架设有多个框架对准空腔,且每一掩模设有多个掩模对准空腔。所述系统还包含用于固持工件的压板。压板可设有多个掩模对准销和框架对准销,多个掩模对准销和多个框架对准销经配置以分别啮合掩模对准空腔和框架对准空腔。掩模框架可降低到压板上,其中框架对准空腔移动成与框架对准销对齐以在掩模与工件之间提供粗略对准。掩模对准空腔可接着移动成与掩模对准销对齐,进而将每一个别掩模移位成与相应工件精确对准。所述掩模对准系统及掩模对准方法用于在离子注入掩模与工件之间提供精确且可重复的对准。

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