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公开(公告)号：KR100161625B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950040543
申请日：1995-11-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 픽 아암이 카세트로부터 웨이퍼를 핸들링하여 플랫 존센서와 공정 챔버 사이인 플랫 존 확인위치로 이동시키고, 이 플랫 존 확인위치에서 웨이퍼의 플랫 존 위치를 확인하기 위해 웨이퍼를 소정의 속도로 회전시키는 오리엔터 구동방법에 관한 것으로, 상기 웨이퍼가 픽 아암의 고정부에 부딪칠 때 공정 챔버의 대향측인 플랫 존 센서쪽으로 이동되도록 오리엔터의 회전방향을 설정하여 된 것이다.
따라서 웨이퍼가 플랫 존 센서에 걸려 오리엔터로부터 떨어지지 않게 되는 것이고, 이로써 웨이퍼가 깨지는 등의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100156319B1
公开(公告)日：1998-12-01
申请号：KR1019950040881
申请日：1995-11-11
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 반도체 이온주입장비 이온발생장치가 개시되어 있다.
본 발명은 아크 챔버내의 상측에 위치하는 아노드 링과, 상기 아크 챔버의 바닥면에 형성된 개구부로 일부가 수용되어 상기 아노드 링을 지지하며 아크전압을 인가해주는 아노드 포스트와, 상기 아노드 링과 상기 아크 챔버의 바닥면 사이에 위치하는 필라멘트와, 상기 아노드 포스트와 상기 아크 챔버를 절연시키며 상기 개구부를 밀폐시키는 절연판을 구비하며, 상기 아크 챔버에는 가스유입구가 형성되어 이루어지는 반도체 이온주입장비의 이온발생장치에 있어서, 상기 아크 챔버 바닥면의 개구부를 상측으로부터 덮어줄 수 있는 덮개가 더 구비되어 있는 것을 특징으로 한다.
따라서, 이온주입장비의 이온발생장치에서 아노드와 아크 챔버 벽체와의 절연파괴를 방지하여 이온주입장비의 수명을 증가시키는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019970030306A
公开(公告)日：1997-06-26
申请号：KR1019950040133
申请日：1995-11-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 이온주입장비에 사용되는 오리엔트 페데스탈이 개시되어 있다. 본 발명의 오리엔트 페데스탈은 페데스탈의 웨이퍼가 놓이는 상면에 접촉하는 면이 평면을 이루는 평면패드가 설치된 것을 특징으로 한다. 본 발명의 오리엔트 페데스탈은 페데스탈에 놓여진 웨이퍼가 회전중 정확한 위치를 유지하고 작업중 다른 웨이퍼에 손상을 줄 염려가 없어 웨이퍼 폐기율을 낮추는 효과를 가진다.
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公开(公告)号：KR1020150076054A
公开(公告)日：2015-07-06
申请号：KR1020140019120
申请日：2014-02-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/336
Abstract: 핀형트랜지스터제조방법이제공된다. 핀형트랜지스터제조방법은, XY평면에배치되는기판으로부터 Z축방향으로돌출되고, Y축방향으로연장되며, 제1 영역과제2 영역을포함하는핀을형성하고, X축방향으로상기제1 영역을가로지르는제1 게이트를형성하고, 상기제1 영역의적어도일부에제1 이온주입공정을수행하고, 상기핀을상기 XY평면에서제1 각도로회전시키고, 상기제1 영역의적어도일부에제2 이온주입공정을수행하고, 상기핀을상기 XY평면에서상기제1 각도와는다른제2 각도로회전시키는것을포함한다.
Abstract translation: 提供一种制造鳍式晶体管的方法。 制造鳍式晶体管的方法包括以下步骤：形成从在Z轴方向上布置在XY平面上的基板突出并且包括第一区域和第二区域的翅片; 形成与X轴方向上的第一区域交叉的第一栅极; 在所述第一区域的至少一部分上执行第一离子注入过程; 在第一角度旋转XY平面上的翅片; 在所述第一区域的至少一部分上执行第二离子注入过程; 并且以与XY平面上的第一角度不同的第二角度旋转翅片。
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公开(公告)号：KR1020080004817A
公开(公告)日：2008-01-10
申请号：KR1020060063605
申请日：2006-07-06
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송호기
IPC: H01L21/687 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/6833 , H01L21/68742 , H02N13/00
Abstract: A chucking and dechucking apparatus of a semiconductor substrate, and a chucking and dechucking method of the semiconductor substrate using the same are provided to prevent damage of the substrate by using a control unit for stopping a transfer of the semiconductor substrate when strong sticking is generated between the semiconductor substrate and a support plate. Electrodes(34) are arranged in a substrate supporting plate(32). A power supplying unit(56) is electrically connected to the electrodes. A residual voltage detecting unit(60) is electrically connected to the electrodes. A gripper(52) moves up the substrate received on the substrate supporting plate. A gripper driving unit(54) is electrically connected to the gripper. A control unit(64) controls drive of the gripper and power supply of the power supplying unit. The control unit is electrically connected to the residual voltage detecting unit.
Abstract translation: 提供一种半导体衬底的夹紧和脱扣装置以及使用其的半导体衬底的夹紧和脱扣方法，以通过使用用于在半导体衬底之间产生强烈粘附时停止半导体衬底的转移的控制单元来防止衬底损坏 半导体衬底和支撑板。 电极（34）布置在基板支撑板（32）中。 供电单元（56）电连接到电极。 剩余电压检测单元（60）电连接到电极。 夹持器（52）将接收在基板支撑板上的基板向上移动。 夹持器驱动单元（54）电连接到夹具。 控制单元（64）控制夹持器的驱动和供电单元的电源。 控制单元电连接到残余电压检测单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020040078349A
公开(公告)日：2004-09-10
申请号：KR1020030013257
申请日：2003-03-04
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 송호기
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: A wafer mapping apparatus of semiconductor fabrication equipment is provided to detect a breaking state of a wafer by sensing an inserting state of the wafer to a diagonal direction of a slot of a cassette. CONSTITUTION: A cassette(102) is installed in an inside of a load lock chamber and includes a slot for receiving a plurality of wafers. A door(106) is installed at one side of the load lock chamber performing an opening operation and a shutting operation. A plurality of light emitting sensors(108,110) are installed at a left side and a right side of the inside of the load lock chamber. A plurality of light receiving sensors(112,114) are installed at a left side and a right side of the inside of the door.
Abstract translation: 目的：提供一种半导体制造设备的晶片测绘装置，用于通过将晶片的插入状态感测到盒的槽的对角线方向来检测晶片的断裂状态。 构成：盒（102）安装在负载锁定室的内部，并且包括用于容纳多个晶片的槽。 门（106）安装在负载锁定室的一侧，执行打开操作和关闭操作。 多个发光传感器（108,110）安装在负载锁定室内部的左侧和右侧。 多个光接收传感器（112,114）安装在门内侧的左侧和右侧。
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公开(公告)号：KR1020000025215A
公开(公告)日：2000-05-06
申请号：KR1019980042205
申请日：1998-10-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: PURPOSE: An indicator is provided to prevent errors in advance, realize work easily, and enhance the productivity by indicating the number of wafers to be ion-injected as a series number. CONSTITUTION: An indicator(20) is mounted to indicate a start slot for a wafer(16) to be progressed and the number of wafers(16) to be ion-injected as series numbers corresponding to color indications of a wafer map(12). A corresponding number of the indicator(20) is indicated through turning-on and turning-off of light emitting diodes. The light emitting diodes are lit when a control part(24) receiving a signal from a mapping sensor(22) of a load lock chamber outputs a turn-on signal to a corresponding light emitting diode through a decoder(26).
Abstract translation: 目的：提供指示器，以预防错误，轻松实现工作，并通过指示要作为序列号离子注入的晶片数量来提高生产率。 构成：安装指示器（20）以指示要进行的晶片（16）的起始槽和要与晶片图（12）的颜色指示对应的序列号离子注入的晶片（16）的数量， 。 指示器（20）的相应数量通过点亮和关闭发光二极管来指示。 当从负载锁定室的映射传感器（22）接收信号的控制部分（24）通过解码器（26）向对应的发光二极管输出接通信号时，点亮发光二极管。
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公开(公告)号：KR100156322B1
公开(公告)日：1998-12-01
申请号：KR1019950040133
申请日：1995-11-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 이온주입장비에 사용되는 오리엔트 페데스탈이 개시되어 있다.
본 발명의 오리엔트 페데스탈은 페데스탈의 웨이퍼가 놓이는 상면에 웨이퍼와 접촉하는 면이 평면을 이루는 평면패드가 설치된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 오리엔트 페테스탈은 페데스탈에 놓여진 웨이퍼가 회전중 정확한 위치를 유지하고 작업중 다른 웨이퍼에 손상을 줄 염려가 없어 웨이퍼 폐기율을 낮추는 효과를 가진다.-
公开(公告)号：KR1019980036776A
公开(公告)日：1998-08-05
申请号：KR1019960055398
申请日：1996-11-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L23/36
Abstract: 본 발명은 반도체소자 및 각종 전자부품들이 탑재된 전원공급장치(power supply) 또는 컨트롤러 등의 내부에서 발생하는 열을 외부로 방출하기 위해 냉각팬을 구비한 냉각 시스템에서 상기 냉각팬의 동작여부를 감지하는 수단을 갖는 냉각팬의 동작감지가 가능한 반도체소자 냉각 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 의하면, 반도체소자가 장착된 기판상에서 발생하는 열을 방출하기 위한 냉각팬을 구비한 반도체소자 냉각 시스템에 있어서, 상기 냉각팬의 동작상태를 감지하기 위한 수단을 포함하는 반도체소자 냉각 시스템이 개시된다.-
公开(公告)号：KR1019970072074A
公开(公告)日：1997-11-07
申请号：KR1019960010623
申请日：1996-04-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 이온주입설비에서는 모든 이온들이 존재하는 경로에 진공상태를 유지하기 위하여 진공 장치가 이용된다.
진공장치는 드라이 펌프와 여러개의 관으로 구성되어 있는데 소정의 관은 소스 헤드와 연결되어 진공 상태를 유지하도록 하는 역할을 하며 배기관은 고열을 배출하는 역할을 한다. 이때 배기관의 구조를 변형하여 트랩을 설치함으로써 완전한 배출이 이루어지도록 한다.
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