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公开(公告)号:KR1019990058718A
公开(公告)日:1999-07-15
申请号:KR1019970078867
申请日:1997-12-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: 본 발명은 이온 주입 장치의 전원 공급부에 관한 것으로, 전원 공급부 내부에 설치되는 냉각 팬의 동작 상태를 외부에서 확인할 수 있는 냉각 팬 감지부를 갖는 이온 주입 장치의 전원 공급부를 제공한다. 본 발명에 따른 전원 공급부는 전원 공급부 내부에서 발생되는 열을 방출하는 냉각 팬과, 냉각 팬이 방출하는 열풍 방향으로 설치된 감지부와, 감지부와 연결되어 냉각 팬의 동작 상태를 표시하며, 냉각 팬의 동작 상태에 따른 정보를 제어부에 전송하는 냉각 팬 제어부를 갖는 냉각 팬 감지부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号:KR1019970052130A
公开(公告)日:1997-07-29
申请号:KR1019950049328
申请日:1995-12-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 웨이퍼에 주입되는 이온에 의하여 발생되는 2차전자 발생억제용 패러데이전압을 피드백(Feed-Back)상태에 따라 제어하고 피드백되는 패러데이전압을 모니터링하는 이온주입설비의 패러데이컵 어셈블리에 관한 것이다.
본 발명에 따른 이온주입설비의 패러데이컵 어셈블리는, 패러데이텁과 바이어스플레이트 및 접지플레이트를 구비하고, 상기 바이어스플레이트에 상기 패러데이컵에서의 2차전자 발생억제를 우히나 패러데이전압이 인가되도록 바이어스 전원이 구성된 이온주입설비에서, 상기 바이어스플레이트에 인가된 페러데이전압을 피드백(Feed-Back)하여 상기 바이어스전원의 패러데이전압공급을 제어하는 피드백수단 및 상기 피드백 패러데이전압을 모니터링 하는 모니터링수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 패러데이전압의 인가상태를 정확히 확인할 수 있고 또 제어할 수 있으므로 웨이퍼의 불량을 줄여서 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号:KR1019970030592A
公开(公告)日:1997-06-26
申请号:KR1019950040543
申请日:1995-11-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 픽 아암이 카세트로부터 웨이퍼를 핸들링하여 플랫 존 센서와 공정 챔버 사이인 플랫 존 확인위치로 이동시키고, 이 플랫 존 확인위치에서 웨이퍼의 플랫 존 위치를 확인하기 위해 웨이퍼를 소정의 속도로 회전시키는 오리엔터 구동방법에 관한 것으로, 상기 웨이퍼가 픽 아암의 고정부에 부딪칠때 공정 챔버의 대향측인 플랫 존 센서쪽으로 이동되도록 오리엔터의 회전방향을 설정하여 된 것이다.
따라서 웨이퍼가 플랫 존 센서에 걸려 오리엔터로부터 떨어지지 않게 되는 것이고, 이로써 웨이퍼가 깨지는 등의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号:KR1020000026271A
公开(公告)日:2000-05-15
申请号:KR1019980043735
申请日:1998-10-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F04F5/54
Abstract: PURPOSE: A venturi pump is provided to reduce errors due to instantaneous stoppage by improving the change of the pressure flowed into a venturi pump despite the change of the primary pressure by installing a pressure regulator in an air line of a venturi pump. CONSTITUTION: A venturi pump is composed of an air input unit(100) to flow air into a venturi pump(180), an air line(220) which is the channel of air flow connecting the air input unit and the venturi pump, many pneumatic units(140) connected to the air line and a pressure regulator(160) formed in the air line. Herein, the pressure is not changed according to the installation of the pressure regulator even though the pressure of the air flowed into the venturi pump from the air input unit is changed due to the pneumatic units or air leakage(120).
Abstract translation: 目的:尽管通过在文丘里泵的空气管路中安装压力调节器来改变初级压力,但通过提高流入文丘里泵的压力变化,可以提供文丘里泵来减少由于瞬时停止引起的误差。 构成:文丘里泵由空气输入单元(100)组成,以将空气流入文丘里泵(180),空气管线(220),其是连接空气输入单元和文丘里泵的空气流通道,许多 连接到空气管路的气动单元(140)和形成在空气管路中的压力调节器(160)。 这里,即使由气动单元或空气泄漏(120)改变从空气输入单元流入文丘里泵的空气的压力,也可以根据压力调节器的安装来改变压力。
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公开(公告)号:KR1019990031280A
公开(公告)日:1999-05-06
申请号:KR1019970051934
申请日:1997-10-10
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/26
Abstract: 본 발명은 이온 주입 장치의 엔드스테이션 모듈(Endstation Module)에 관한 것으로, 엔드스테이션 모듈의 트랜스퍼 챔버와 프로세스 챔버 및 빔라인 챔버의 소모성 부품을 교체하거나 수리하기 위하여 각각의 챔버를 격리시킬 수 있는 엔드스테이션 모듈을 제공하기 위하여, 좌우 트랜스퍼 챔버와 프로세스 챔버 사이와, 빔라인 챔버와 프로세스 챔버 사이에 격리 밸브가 설치된 이온 주입 장치의 엔드스테이션 모듈을 제공한다. 특히, 본 발명의 엔드스테이션 모듈은 각 챔버 중에서 작업이 필요한 챔버만을 격리시켜 진공 상태에서 대기압 상태로 만들어 작업을 진행하며, 작업이 완료된 이후에 격리된 챔버만을 진공 상태로 만든 상태에서 격리된 상태를 해제함으로써 작업에 따른 시간적 손실을 줄일 수 있는 것을 특징으로 한다. 이때, 챔버의 격리 및 해제는 챔버 주위에 설치된 격리 밸브의 개폐로서 조절하게 된다.
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公开(公告)号:KR1020000030993A
公开(公告)日:2000-06-05
申请号:KR1019980046769
申请日:1998-11-02
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: PURPOSE: A device for supplying source gas in an equipment for injecting ion is provided to prevent the damage in the equipment for injecting ion and the generation of fire caused by supplying high voltage. CONSTITUTION: A terminal(10) is installed between an upper main body(12) and a lower main body(14) of an equipment for injecting ion, and the lower main body and the terminal are connected by an insulating body such as an insulator(20) for supporting. And the upper main body and the terminal are connected by an outlet pipe(18), and an insulating wrinkled pipe(24) is installed between a gas box(22) installed in the terminal and the terminal for insulating. Then, a supplying pipe(16) is extended from the wrinkled pipe for connecting to the upper main body and the terminal. Moreover, the lower side of the gas box is insulated from the terminal by using the insulator.
Abstract translation: 目的:提供一种用于在离子注入设备中供应源气体的装置,以防止设备中注入离子的损坏和由高压引起的火灾产生。 构成:端子(10)安装在用于注射离子的设备的上主体(12)和下主体(14)之间,下主体和端子通过绝缘体(例如绝缘体)连接 (20)支持。 并且上主体和端子通过出口管(18)连接,并且绝缘皱纹管(24)安装在安装在端子中的气箱(22)和用于绝缘的端子之间。 然后,供给管(16)从起皱管延伸,连接到上主体和终端。 此外,通过使用绝缘体,气体箱的下侧与端子绝缘。
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公开(公告)号:KR1019990039620A
公开(公告)日:1999-06-05
申请号:KR1019970059769
申请日:1997-11-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 반도체소자를 제조하는 데 사용되는 이온주입 장비의 픽크 암이 개시되어 있다. 본 발명은 스크루에 의해 이동되는 이온주입 장비의 픽크 암에 있어서, 일부분이 개구된 "O"링 형태의 웨이퍼 지지부 및 웨이퍼 지지부로부터 연장되어 스크루와 접촉하는 고정부로 구성되고 세라믹 물질로 형성된 몸체와, 웨이퍼 지지부의 앞면에 복수의 패드를 부착시키기 위하여 형성된 복수의 앞면 패드 홈과, 웨이퍼 지지부의 뒷면에 복수의 패드를 부착시키기 위하여 형성된 복수의 뒷면 패드 홈과, 고정부의 소정영역을 관통하는 복수의 홀을 포함하는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号:KR2019980009694U
公开(公告)日:1998-04-30
申请号:KR2019960021817
申请日:1996-07-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: 공정설비의온도항하용및 절연용으로사용되는순수를공급하는순소긍급원과공정설비사이의순수공급라인에설치된필터의교체작업후 백업(Back up)tl시간을감소시키는반도체제조설비의순수공급장치에관한것이다. 본발명은, 순수공급원에서공급되는순수가펌프의펌핑에의해서공급라인상에순차적으로위치한복수의필터를통과하여진공펌프의펌핑동작에의해서특정진공상태가형성되는공정설비로공급되도록구성된반도체제조설비의순수공급장치에있어서, 상기복수의필터전단및 후단에제1밸브및 제2밸브가 설치되고, 상기제1밸크브및 펌크사이에서분기되어상기제2밸크브및 상기진공펌프사이에서합쳐지는분기라인상에제3밸브가설치됨을특징으로한다. 따라서, 진공펌프의펌핑동작을멈추지않고핀터교체작업을실시할수 있으므로필터교체작업후 백업시간을감소시킬수 있는효과가있다.
Abstract translation: 处理设备更换安装在净sogeung来源和工艺设备之间的净化水供给管线中的过滤器,用于提供用于和的(备份)纯化的半导体生产设备的供水绝缘温度hangha用于减少TL时间的纯水之后备份的 它涉及一种装置。 本发明中,被配置为供应到处理设备的特定的真空,其通过由所述泵的泵从纯水供给源供给的纯水通过多个位于序列在供给线到真空泵的抽吸动作滤波器形成的半导体制造 在纯水供给植物,和一个第一阀和设置在所述多个过滤器前端和后端的第二阀之间的分支,所述第一阀keubeu和所述间peomkeu在一起第二阀keubeu和真空泵 它的特征在于,第三阀设置在所述分支线。 因此,在不停止真空泵的抽吸动作,因为它可以进行替换品特存在可以过滤器更换后减少备份时间的效果。
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公开(公告)号:KR2019970046671U
公开(公告)日:1997-07-31
申请号:KR2019950038101
申请日:1995-12-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본고안은반도체제조공정의웨이퍼가공에적용되어웨이퍼상에이온을주입시키기위한이온주입설비의오리엔트라인에관한것으로서, 특히웨이퍼의각도유지를위해서마련되는오리엔트모터에접속되는각종의전원라인을신축성이우수하게코일링으로구성한이온주입설비의개선된오리엔트라인에관한것으로웨이퍼의오리엔트가가능하도록설치된오리엔트모터와, 상기오리엔트모터의구동을위하여모터파워라인과엔코더라인이접속된이온주입설비에있어서, 상기파워라인과엔코더라인이충분한신축성을보유할수 있도록코일형상의꼬임구조로이루어짐을특징으로하는이온주입설비의개선된오리엔트라인.
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公开(公告)号:KR1019970052178A
公开(公告)日:1997-07-29
申请号:KR1019950056600
申请日:1995-12-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/268
Abstract: 본 발명은 이온 빔 등을 가속시키기 위한 반도체소자 제조설비의 고에너지 가속장치에 관한 것으로, 1차 가속된 음이온을 양이온으로 전환시키기 위해 터미널 내의 스트립퍼로 N
2 를 공급하고 음이온과의 반응 후 배출된 N
2 를 스트립퍼로 재공급하는 N
2 공급수단이, 외부로부터 전원을 직접 공급받을 수 있도록 탱크의 외측에 설치된 터보 펌프와, 상기 터보 펌프가 터미널내의 N
2 를 흡입할 수 있도록 탱크 내부로 관통하여 터보 펌프와 터미널을 연결하는 흡입관과, 상기 흡입관을 통해 흡입된 N
2 를 터미널내의 스트립퍼로 재공급할 수 있도록 탱크와 터미널을 관통하여 터보 펌프와 스트립퍼를 연결하는 공급관으로 구성된 것이다.
따라서 터보 펌프가 탱크의 외측에 설치되고, 외부로부터 전원을 직접 공급받는 것이므로 터보 펌프를 구동시키기 위한 구성이 매우 간소화되고, 종전에 사용되었던 부품이 제거됨으로써 설비비용이 절감되는 효과가 있으며, 고전압이 인가되는 탱크 내부에서 쇼트발생의 우려가 전혀 없어 안전성이 향상되는 효과가 있다.
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