VEGF 결합 단편 변이체 및 상기 VEGF 결합 단편 변이체 및 항 c-Met 항체를 포함하는 융합 단백질
    12.
    发明公开
    VEGF 결합 단편 변이체 및 상기 VEGF 결합 단편 변이체 및 항 c-Met 항체를 포함하는 융합 단백질 审中-实审
    VEGF结合片段变体和包含所述VEGF结合片段变体和抗c-Met抗体的融合蛋白

    公开(公告)号:KR1020170131194A

    公开(公告)日:2017-11-29

    申请号:KR1020160174791

    申请日:2016-12-20

    Abstract: VEGF 결합단편변이체, 상기 VEGF 결합단편변이체와항-c-Met 항체가연결된융합단백질, 상기융합단백질을포함하는이중특이항체, 상기융합단백질을암호화하는폴리뉴클레오타이드, 상기폴리뉴클레오타이드를포함하는형질전환체, 상기융합단백질또는이중특이항체를유효성분으로포함하는약학조성물, 및항-c-Met 항체에 VEGF 결합단편변이체를연결시키는단계를안정성이증진된 c-Met와 VEGF를동시에표적으로하는이중특이항체의제조방법이제공된다.

    Abstract translation: VEGF结合片段的突变体,含有转化突变体VEGF结合片段,并且其中所述多核苷酸,编码所述双特异性抗体的多核苷酸,所述融合蛋白包含融合蛋白,所述融合蛋白是耦合-c-Met的抗体 融合蛋白或包含所述抗体作为活性成分的双特异性药物组合物,mithang -c-Met抗体的VEGF结合片段,其是变体的连接可靠性提高的步骤c-Met和VEGF同时双特异性抗体靶向 提供。

    디스플레이 장치 및 이를 포함하는 가전기기
    13.
    发明公开
    디스플레이 장치 및 이를 포함하는 가전기기 审中-实审
    显示装置和具有该装置的电器

    公开(公告)号:KR1020170025972A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:KR1020150123145

    申请日:2015-08-31

    Abstract: 디스플레이장치및 이를구비한가전기기가개시된다. 개시된디스플레이장치는디스플레이부; 상기디스플레이부의전면에배치되며, 상기디스플레이부의면적보다더 큰면적으로이루어지는투명보호층; 상기투명보호층의후면에부착되며, 외부의빛을일부반사하고상기디스플레이부의영상표시영역에서발산되는빛을투과시키는하프미러층; 및상기하프미러층의후면에형성되며, 상기디스플레이부를둘러싸는인쇄층;을포함하며, 상기디스플레이부는온 상태에서의상기디스플레이부의영상표시영역에표시되는배경의색상이상기인쇄층의색상과동일한것을특징으로한다.

    Abstract translation: 提供了一种显示装置和包括该显示装置的家用电器。 显示装置包括显示单元,透明保护层,被配置为设置在显示单元的前表面上并且具有比显示单元的区域更宽的区域;半透明层,被配置为粘附在显示单元的背面上 透明保护层,反射外部光的一部分,透射从显示单元的图像显示区域扩散的光;以及印刷层,被配置为形成在半反射镜层的后表面上并覆盖显示单元。 响应于显示单元被打开,在显示单元的图像显示区域中显示的背景颜色等于打印层的颜色。

    나노임프린트 리소그래피를 이용한 미세 패턴의 형성 방법
    14.
    发明授权
    나노임프린트 리소그래피를 이용한 미세 패턴의 형성 방법 有权
    使用纳米压印光刻形成精细图案的方法

    公开(公告)号:KR101555230B1

    公开(公告)日:2015-09-24

    申请号:KR1020090006772

    申请日:2009-01-29

    Abstract: 향상된패턴분산도를가지는미세패턴의형성방법에있어서, 기판상에광경화성코팅막을형성한다. 패턴크기에관하여제1 분산도를갖는복수개의제1 패턴들을제1 면에구비하고적어도일부에광 감쇠부재를포함하는템플레이트의제1 면을광경화성코팅막에접촉시킨다. 템플레이트를통해광경화성코팅막에빛을조사하여제1 패턴들로부터전사되고제1 분산도보다낮은제2 분산도를갖는제2 패턴들을구비하는경화된코팅막을형성한다음, 템플레이트를경화된코팅막으로부터분리한다. 나노임프린트공정에사용되는템플레이트의패턴분산도를광 감쇠부재를통해보정함으로써패턴분산도가개선된미세패턴을제조할수 있다.

    플래어 평가 방법
    15.
    发明授权
    플래어 평가 방법 有权
    FLARE EVLAUATION方法

    公开(公告)号:KR101552689B1

    公开(公告)日:2015-09-14

    申请号:KR1020090030510

    申请日:2009-04-08

    Abstract: 본발명은플래어평가방법에관한것이다. 이방법은 EUV 노광장치에적용될수 있다. 이플레어평가방법은예비측정패턴을포함하는예비측정패턴마스크, 및예비측정패턴이형성된영역이개방된더미마스크을이용하여 DC 플레어기준데이터를추출하는단계, 불투명패드(opaque pad)와불투명패드의중심부에플레어의영향을측정하는측정패턴, 및불투명패드의외각에배치되어플래어를발생하게하는플래어패턴을포함하는복수의플래어게이지세트를제공하는단계, 및플래어게이지세트별로플래어패턴및 측정패턴에의한포토레지스트측정패턴의변화를검출하는단계를포함하되, 플래어게이지세트에따라플래어패턴의외반경은일정한비율로증가할수 있다.

    통신 시스템 및 그의 RRC 접속 방법
    16.
    发明授权
    통신 시스템 및 그의 RRC 접속 방법 有权
    用于连接RRC资源的通信系统和方法

    公开(公告)号:KR101532222B1

    公开(公告)日:2015-06-29

    申请号:KR1020080127720

    申请日:2008-12-16

    Inventor: 이정훈

    CPC classification number: H04L1/189 H04L2001/0092

    Abstract: 본발명은특정셀을관리하기위한기지국과셀 내에위치하는다수개의통신단말기들을구비하는통신시스템및 그의 RRC 패킷통신을위한 RRC 접속방법에관한것으로, 통신단말기에서접속요청메시지수신시, 기지국이통신단말기에접속응답메시지를전송하고, 미리설정된응답대기시간내에통신단말기에서접속완료메시지가수신되지않으면, 기지국이통신단말기에접속응답메시지를재전송하고, 응답대기시간내에통신단말기에서접속완료메시지가수신되면, 기지국이접속응답메시지의재전송을중단하도록구성된다. 본발명에따르면, 기지국이접속완료메시지를통해접속응답메시지의전송이정상적으로이루어졌는지의여부를판단할수 있고, 그판단결과에따라기지국이접속응답메시지를반복하여전송함으로써, 통신시스템에서기지국과통신단말기간 접속성공률을향상시킬수 있다.

    다중 입력 다중 출력 방식을 사용하는 무선 통신 시스템에서 사용자 단말기 선택 및 빔 포밍 동작 수행 장치 및 방법
    17.
    发明公开
    다중 입력 다중 출력 방식을 사용하는 무선 통신 시스템에서 사용자 단말기 선택 및 빔 포밍 동작 수행 장치 및 방법 审中-实审
    使用多路输入多输出方案在无线通信系统中选择用户设备和执行波束形成操作的装置和方法

    公开(公告)号:KR1020150045727A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:KR1020130125358

    申请日:2013-10-21

    Abstract: 본발명은다중입력다중출력(Multiple Input Multiple Output: MIMO) 방식을사용하는무선통신시스템에서신호수신장치가피드백정보(feedback information)를송신하는방법에있어서, 신호송신장치가사용하는안테나그룹들중 적어도하나의안테나그룹에대한안테나그룹식별자(Identifier: ID)와, 상기적어도하나의안테나그룹이사용될경우상기신호수신장치가획득가능한채널품질에관련된정보를포함하는피드백정보를상기신호송신장치로송신하는과정을포함하며, 상기안테나그룹들각각은적어도하나의안테나를포함함을특징으로한다.

    Abstract translation: 本发明涉及信号接收机在无线通信系统中发送反馈信息的方法,并涉及来自信号发射机使用的天线组中的至少一个天线组的天线组标识符(ID),以及 当使用上述天线组中的至少一个时,发送包括与上述信号发射机可以获得的信道质量有关的信息的反馈信息。 上述天线组中的每一个都包括至少一个天线。

    반도체 소자 제조방법
    18.
    发明公开
    반도체 소자 제조방법 审中-实审
    半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:KR1020150043607A

    公开(公告)日:2015-04-23

    申请号:KR1020130121484

    申请日:2013-10-11

    Abstract: 마스크레이아웃에분해능이하의스페이스를갖는패턴들을준비한다. 상기패턴들을분리하여다수의마스크들을형성한다. 상기각각의마스크들에는분해능보다큰 스페이스를갖는패턴들이형성된다. 상기마스크들중 선택된하나에이중패턴을추가한다. 상기마스크들및 상기이중패턴이추가된마스크를사용하여기판상에반도체패턴을형성한다. 반도체소자위에분해능이하의피치를갖는패턴들이형성될수 있다.

    Abstract translation: 提供半导体器件的制造方法,以形成具有与半导体器件的分辨率或更小的间距相同的间距的图案,包括以下步骤:制备具有与分辨率相同或更小的空间的图案 面具布局; 通过分离图案形成多个掩模; 使图案具有比每个掩模上的分辨率更大的空间; 向掩模中选择的一个添加双重图案; 以及通过使用掩模和加有双重图案的掩模在衬底上形成半导体图案。

    수치 연산을 처리하는 장치 및 방법
    19.
    发明公开
    수치 연산을 처리하는 장치 및 방법 审中-实审
    用于处理数值计算的装置和方法

    公开(公告)号:KR1020150041540A

    公开(公告)日:2015-04-16

    申请号:KR1020130120194

    申请日:2013-10-08

    Abstract: 수치연산을처리하는방법및 장치는, 제수(divisor)를나타내는비트들중 쉬프트비트및 인덱스비트를결정하고, 룩업테이블을이용하여인덱스비트에대응되는대체값을획득하고, 우측쉬프트연산을이용하여피제수(dividend)와대체값의승산결과의스케일을보정함으로써나눗셈연산에대응되는값을출력한다.

    Abstract translation: 提供了一种处理数值计算的方法和装置。 该方法包括确定代表除数的比特中的移位比特和索引比特; 通过使用查找表获得与所确定的索引位相对应的替换值; 将股息乘以获得的替换值; 并且通过使用右移位操作校正乘法结果的比例来输出与分割运算相对应的值。

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