기판 처리 장치
    13.
    发明公开
    기판 처리 장치 审中-实审
    基板处理设备

    公开(公告)号:KR1020170040841A

    公开(公告)日:2017-04-14

    申请号:KR1020150139727

    申请日:2015-10-05

    Abstract: 본발명은기판처리장치에관한것으로, 내부에기판을처리하는공간을제공하는챔버, 상기챔버내에배치되고, 기판을지지하는지지부재; 및상기기판을가열하는가열부재를포함하고, 상기처리공간은상기지지부재에의해상부공간과하부공간으로분리되되, 상기지지부재는상기기판을수납하는지지플레이트, 상기지지플레이트를지지하며그의하면을노출하는베이스, 상기베이스는가장자리부분에형성된절개부를포함하고및 상기절개부내에삽입되어상기베이스에결합되는조절블록을포함하고, 상기절개부는상기상부공간과상기하부공간을연결시키는통풍구를정의하되, 상기통풍구는상기조절블록에의해복수개로형성되는기판처리장치를제공한다.

    Abstract translation: 衬底处理设备技术领域本发明涉及一种衬底处理设备,包括:用于在其中提供用于处理衬底的空间的腔室;设置在腔室中并支撑衬底的支撑构件; 以及用于加热所述基板的加热构件,其中所述处理空间通过所述支撑构件被分成上部空间和下部空间,所述支撑构件包括:用于接收所述基板的支撑板; 其中基座包括形成在边缘部分中的切口和插入切口中以与基座联接的调节块,切口限定用于连接上部空间和下部空间的通风口, 其中多个通气孔由调节块形成。

    세정 조성물 및 이를 이용한 막 세정 방법
    14.
    发明公开
    세정 조성물 및 이를 이용한 막 세정 방법 审中-实审
    清洁组合物和使用其的膜清洁方法

    公开(公告)号:KR1020140076884A

    公开(公告)日:2014-06-23

    申请号:KR1020120145413

    申请日:2012-12-13

    Abstract: Provided is a cleaning composition that is used to remove a contaminant from a membrane, and contains micropores and a structure which is reformed so that surfaces inside the micropores have pH responsive residues at least in an end section thereof. The composition contains an acidic compound and a polyelectrolyte, and the acidic compound adjusts the pH of the composition so that the polyelectrolyte is ionically coupled with the pH responsive residues.

    Abstract translation: 提供了一种用于从膜去除污染物并且包含微孔和重组结构的清洁组合物,使得微孔内部的表面至少在其端部具有pH响应性残留物。 该组合物含有酸性化合物和聚电解质,酸性化合物调节组合物的pH,使得聚电解质与pH响应性残留物离子结合。

    온도 감응성 코폴리머 및 이를 이용한 정삼투 수처리 장치와 정삼투 수처리 방법
    15.
    发明公开
    온도 감응성 코폴리머 및 이를 이용한 정삼투 수처리 장치와 정삼투 수처리 방법 审中-实审
    热敏共聚物和前向处理水处理装置及其使用方法

    公开(公告)号:KR1020130106296A

    公开(公告)日:2013-09-27

    申请号:KR1020130024638

    申请日:2013-03-07

    CPC classification number: C08G69/42 B01D61/002 C02F1/445 C08G73/10

    Abstract: PURPOSE: A temperature-sensitive copolymer provides a solution which has high osmotic pressure and low backward diffusion of solute and of which the solute can be easily recovered and collected. CONSTITUTION: A temperature-sensitive copolymer comprises a first repeating unit in which a temperature-sensitive oligomer is grafted; and a second repeating unit including an ionic moiety and the counter ion of the ionic moiety. The temperature-sensitive oligomer is an oligomer including a repeating unit derived from an unsaturated monomer which has a moiety represented by chemical formula 1: *-C(=O)N(R2)(R3) or a moiety represented by chemical formula 2 or an oligomer including a repeating unit derived from a heterocyclic compound which contains C, N, and O in the ring and has C=N bonds.

    Abstract translation: 目的:一种温敏共聚物提供了一种具有高渗透压和低溶质向后扩散的溶液,其溶质易于回收和收集。 构成:温度敏感性共聚物包含其中接枝温度敏感性低聚物的第一重复单元; 和包括离子部分和离子部分的抗衡离子的第二重复单元。 温度敏感性低聚物是包含衍生自不饱和单体的重复单元的低聚物,其具有由化学式1表示的部分:* -C(= O)N(R 2)(R 3)或由化学式2表示的部分或 包含衍生自在环中含有C,N和O并具有C = N键的杂环化合物的重复单元的低聚物。

    리튬 이차 전지용 세퍼레이터 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지
    20.
    发明授权
    리튬 이차 전지용 세퍼레이터 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지 有权
    用于锂二次电池的隔板和包括其的锂二次电池

    公开(公告)号:KR101754915B1

    公开(公告)日:2017-07-06

    申请号:KR1020150045454

    申请日:2015-03-31

    CPC classification number: H01M2/1653 H01M2/166 H01M2/1686 H01M10/052

    Abstract: 기재, 그리고상기기재의적어도일면에위치하고가교바인더를포함하는내열다공층을포함하고, 상기가교바인더는실록산화합물을포함하는가교성화합물로부터가교된구조를가지고, 상기실록산화합물은하기화학식 1로표시되는 T형단위를포함하는실록산수지를포함하는리튬이차전지용세퍼레이터및 이를포함하는리튬이차전지가제공된다. [화학식 1] RSiO(상기화학식 1에서, R은경화가능한반응성기, 또는경화가능한반응성기를가지는유기기이다.)

    Abstract translation: 衬底,并且不位于至少一个表面上包括具有交联的粘合剂的耐热性多孔层,所述基体材料的交联粘合剂包括具有由交联性化合物,由硅氧烷化合物表示的交联结构的硅氧烷化合物是式I 包含含有T型单元的硅氧烷树脂的锂二次电池用隔膜和含有该隔膜的锂二次电池。 其中R是具有可固化反应性基团或可固化反应性基团的有机基团。

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