公开(公告)号：KR101435124B1

公开(公告)日：2014-08-29

申请号：KR1020080039789

申请日：2008-04-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박상현 ,  장상돈 ,  백동석 ,  김기현 ,  이상민 ,  김동민

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7069 ,  G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7015 ,  G03F9/7019 ,  G03F9/7088

Abstract: 노광 장치의 정렬 방법, 이를 이용한 감광막의 노광 방법 및 감광막의 노광 방법을 수행하기 위한 노광 장치에서, 현미경 및 노광 헤드는 베이스에 대해 고정되며, 스테이지는 베이스에 대해 움직인다. 제1 방향으로 직렬 배열된 복수의 기준 마스크의 기준 마크가 스테이지에 의해 현미경의 중심점에 일치하도록 이송된다. 현미경의 중심점들 중 하나에는 원점이 부여되며, 나머지 중심점들에는 중심점 좌표들이 부여된다. 기준 마스크의 빔 위치 검출 마크로 노광 헤드들의 빔 좌표를 검출하며, 현미경의 화상을 통해 피처리 기판의 기판 좌표가 연산된다. 노광 점들은 화상 데이터에 따라 선택적으로 온 및 오프되어 노광 빔들을 피처리 기판에 스캔한다. 좌표 정렬이 쉽고 정확해지며, 장치의 대형화에 부합할 수 있다.
노광, 디지털, 좌표, 정렬, 대형화

公开(公告)号：KR1020100050635A

公开(公告)日：2010-05-14

申请号：KR1020080109624

申请日：2008-11-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최호석 ,  장상돈 ,  백동석 ,  박상근 ,  김명호 ,  김덕겸 ,  김중현 ,  홍상일

IPC: G02B26/08 ,  G02B26/10

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70508

Abstract: PURPOSE: After mixing a part among a plurality of exposure data and being created new exposure data, the compression method of exposure data and exposure apparatus is compressed. The compression efficiency of exposure data can be improved. CONSTITUTION: Image data is transformed to a plurality of exposure data. A part is mixed among a plurality of exposure data and new exposure data becomes. The new exposure data as described above is compacted. The input unit(60) inputs image data changing the image of two dimension into the bitmap form to the MICOM(Microcomputer)(70). MICOM controls the overall operation of the exposure apparatus.

Abstract translation: 目的：在多个曝光数据中混合一部分并创建新的曝光数据之后，压缩曝光数据和曝光装置的压缩方法。 可以提高曝光数据的压缩效率。 构成：将图像数据变换为多个曝光数据。 在多个曝光数据中混合了一部分，并且新的曝光数据变为。 如上所述的新的曝光数据被压实。 输入单元（60）输入将二维图像变换成位图形式的图像数据到MICOM（微机）（70）。 MICOM控制曝光装置的整体操作。

公开(公告)号：KR1020100042864A

公开(公告)日：2010-04-27

申请号：KR1020080102056

申请日：2008-10-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김을태 ,  장상돈 ,  이희국 ,  박상현 ,  백동석

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70725

Abstract: PURPOSE: A maskless exposure device and a method for measuring straightness are provided to implement repeatability and reproducibility by measuring the final exposure straightness. CONSTITUTION: A stage(18) moves a substrate. An optical unit(24) generates a plurality of beams irradiated to the substrate. The optical unit irradiates the plurality of beams in a vertical direction to the stage. The optical unit modulates the emitted beam according to a pattern and irradiates the modulated optical beam to an exposure surface. The controller measures the straightness of the stage by exposing the plurality of beams to the exposure surface of the substrate while moving the stage.

Abstract translation: 目的：提供无掩模曝光装置和测量平直度的方法，以通过测量最终的曝光直度来实现重复性和再现性。 构成：阶段（18）移动底物。 光学单元（24）产生照射到基板的多个光束。 光学单元在垂直方向上照射多个光束。 光学单元根据图案调制发射的光束，并将调制的光束照射到曝光表面。 控制器通过在移动平台的同时将多个光束暴露于基板的曝光表面来测量平台的平直度。

公开(公告)号：KR100807254B1

公开(公告)日：2008-02-28

申请号：KR1020070020429

申请日：2007-02-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김영환 ,  최창훈 ,  백동석 ,  주재철 ,  최승민

IPC: H01L21/66

Abstract: An apparatus for inspecting defects is provided to simplify the structure of a defect inspection apparatus by installing an illumination apparatus for generating a transmission light image in a manner that the illumination apparatus transfers together with a stage. A stage(20) transfers an object to be inspected to a desired position. A holder(30) has a support unit on which the inspected object is mounted, transfers together with the stage. An optical microscope(40) has a light source for irradiating light to the upper surface of the inspected object mounted on the holder. An illumination apparatus(80) irradiates light to the lower surface of the inspected object mounted on the holder, transferring together with the stage. An electron microscope(50) irradiates an electron beam to the inspected object mounted on the holder to generate an image. The illumination apparatus can be formed of a plate type so that light is irradiated to the entire region of the lower surface of the inspected object.

Abstract translation: 提供了一种用于检查缺陷的装置，通过以照明装置与舞台一起传送的方式安装用于产生透射光图像的照明装置来简化缺陷检查装置的结构。 阶段（20）将要检查的对象传送到期望的位置。 保持器（30）具有安装被检查对象的支撑单元，与台架一起传送。 光学显微镜（40）具有用于将光照射到安装在保持器上的被检查物体的上表面的光源。 照明装置（80）将光照射到安装在保持器上的被检查物体的下表面，与台一起转印。 电子显微镜（50）将电子束照射到安装在保持器上的检查对象以产生图像。 照明装置可以由板式形成，使得光被照射到被检查物体的下表面的整个区域。

公开(公告)号：KR100782368B1

公开(公告)日：2007-12-07

申请号：KR1020070007469

申请日：2007-01-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백동석 ,  편희수 ,  이정배 ,  강성욱 ,  이준성

IPC: H01L21/02

Abstract: A semiconductor manufacturing apparatus is provided to simplify configuration by serving a sub-chamber as a load lock chamber and transfer chamber at the same time. A semiconductor manufacturing apparatus includes a main chamber(1) and a sub-chamber(2). The main chamber is maintained in vacuum. The sub-chamber is selectively connected to external space and the main chamber so as to convey substrates into the main chamber. By receiving the vacuum from the main chamber, the sub-chamber is decompressed to vacuum corresponding to the main chamber. The sub-chamber includes a robot, which carries the substrates between the sub-chamber and the main chamber.

Abstract translation: 提供了一种半导体制造装置，用于通过将副室作为负载锁定室和传送室同时进行简化来简化配置。 半导体制造装置包括主室（1）和副室（2）。 主室保持真空。 子室选择性地连接到外部空间和主室，以将基板输送到主室中。 通过从主室接收真空，将副室减压至与主室对应的真空。 子室包括机器人，该机器人承载在子室和主室之间的基板。

公开(公告)号：KR100713851B1

公开(公告)日：2007-05-04

申请号：KR1020060001103

申请日：2006-01-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 백동석 ,  서제완 ,  편희수 ,  전병환 ,  최용호

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은, 검사장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 검사장치는, 작업물을 지지하는 스테이지와; 상기 스테이지에 접근 이격 가능하게 마련되며, 상기 작업물을 검사하는 대물렌즈를 갖는 광학현미경과; 소정의 곡률반경을 가지며 상기 작업물과 상기 대물렌즈 사이에 설치된 뷰포트렌즈를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 비교적 선명한 화상을 얻을 수 있으며, 검사시 정확한 위치정보 및 데이터를 얻을 수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种检查设备及其方法，其中根据本发明的检查设备包括：用于支撑工件的台; 一种具有物镜的光学显微镜，所述物镜设置成可接近所述台并检查所述工件; 以及具有预定曲率半径并设置在工件和物镜之间的视口透镜。 因此，可以获得相对清晰的图像，并且在检查时可以获得准确的位置信息和数据。

公开(公告)号：KR100630937B1

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：KR1020050080474

申请日：2005-08-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최용호 ,  편희수 ,  송근철 ,  황충정 ,  백동석 ,  차병규 ,  임상규

IPC: G06F1/16 ,  G06F3/02

公开(公告)号：KR1020060059306A

公开(公告)日：2006-06-01

申请号：KR1020040098198

申请日：2004-11-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이진석 ,  김정욱 ,  백동석

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: B05B7/222 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32935 ,  H01L21/67069

Abstract: 본 발명은 플라즈마 공정장비의 뷰포트 구조에 관한 것으로, 챔버 벽면에서 접지의 연속성을 확보하여 공정의 균일성을 향상시키기 위한 것이다.
본 발명에 따른 플라즈마 공정장비의 뷰포트(200)에는 챔버 벽면(100)에 전기적으로 접속되어 있는 그라운드 커버(230)가 구비되고, 이 그라운드 커버(230)는 챔버 벽면(100)과 접촉하는 면이 베어면(231a,231b)으로 구성되어 있다. 따라서 뷰포트(200) 근방에서 접지의 연속성이 유지되고, 챔버(100) 내부의 전기장 및 플라즈마 분포가 균일하게 된다.
플라즈마 공정장비, 뷰포트, 접지

Abstract translation: 本发明涉及等离子体处理设备的视口结构，并且旨在确保腔室壁表面处的接地的连续性以改进处理均匀性。

公开(公告)号：KR1020050009808A

公开(公告)日：2005-01-26

申请号：KR1020030048881

申请日：2003-07-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이진석 ,  김동철 ,  이재봉 ,  최인호 ,  김정욱 ,  백동석

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01J37/32082 ,  H01J37/3244

Abstract: PURPOSE: An etching apparatus is provided to control a density, a deposition rate, an etch rate and uniformity of plasma by adjusting a gas density and gas speed on a wafer in a chamber. CONSTITUTION: A gas supply part(22) has at least a pair of gas supply holes. At least one gas distribution part(2) is separated from the gas supply part by an isolated space, including an upper partition wall and a lower partition wall. The upper partition wall is of a loop type, protruding from the center region of the upper plate of the gas distribution part. The lower partition wall is of a loop type, protruding from the center region of the lower plate of the gas distribution part. A shower head injects process gas into a chamber(1), separated from the gas distribution part by an isolated space.

Abstract translation: 目的：提供蚀刻装置，通过调节腔室中的晶片上的气体密度和气体速度来控制密度，沉积速率，等离子体的蚀刻速率和均匀性。 构成：气体供给部（22）具有至少一对气体供给孔。 至少一个气体分配部分（2）通过包括上分隔壁和下分隔壁的隔离空间与气体供应部分分离。 上分隔壁是从气体分配部的上板的中心区域突出的环状。 下分隔壁是从气体分配部的下板的中心区域突出的环状。 淋浴头将处理气体注入到室（1）中，与气体分配部分隔开隔离空间。

公开(公告)号：KR1020110072630A

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：KR1020090129642

申请日：2009-12-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김의석 ,  블라디미르프로토포포브 ,  백동석

IPC: G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/70383

Abstract: PURPOSE: A beam location measuring apparatus using a beam extension device, and a method thereof are provided to maintain intervals among each beam for increasing the number of beams to be measured. CONSTITUTION: A beam location measuring method comprises the following steps: passing a beam generated from a beam generator through a beam extension device for radiating the beam with the extended area to a bean measuring sensor(200,202); measuring the intensity of the beam radiated to each pixel of the bean measuring sensor(204); and calculating the central location of the beam(206). A beam location measuring apparatus includes the beam generator, the bean measuring sensor, and the beam extension device.

Abstract translation: 目的：提供使用光束延伸装置的光束位置测量装置及其方法，以保持每个光束之间的间隔，以增加待测光束的数量。 构成：光束位置测量方法包括以下步骤：将由光束发生器产生的光束通过光束延伸装置传送，以将具有延伸区域的光束辐射到豆类测量传感器（200,202）; 测量辐射到豆测量传感器（204）的每个像素的光束的强度; 并计算光束（206）的中心位置。 光束位置测量装置包括光束发生器，豆测量传感器和光束延伸装置。