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公开(公告)号：KR1020110120675A
公开(公告)日：2011-11-04
申请号：KR1020100040196
申请日：2010-04-29
Applicant: 서울대학교산학협력단
CPC classification number: B82B3/0038 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C23F1/00
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a nano-scale structure is provided to prevent the damage of a substrate while non-uniform roughness is generated on the nano-scale structure based on impurities introduced in a polycrystalline silicon structure forming process. CONSTITUTION: A method for manufacturing a nano-scale structure includes the following: An oxide layer(20) is formed on the surface of a substrate(10). A polycrystalline silicon structure(11) is formed on the upper side of the oxide layer by introducing impurities. Non-uniform roughness(13) is formed on the polycrystalline silicon structure through an etching process. The substrate is a silicon wafer. The etching process is based on XeF_2. The impurities are nitrogen gas.
Abstract translation: 目的：提供一种用于制造纳米级结构的方法，以防止在基于多晶硅结构形成工艺中引入的杂质的纳米尺度结构上产生不均匀粗糙度的基板损坏。 构成：制造纳米级结构的方法包括以下：在基板（10）的表面上形成氧化物层（20）。 通过引入杂质，在氧化物层的上侧形成多晶硅结构（11）。 通过蚀刻工艺在多晶硅结构上形成非均匀粗糙度（13）。 衬底是硅晶片。 蚀刻过程基于XeF_2。 杂质是氮气。
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公开(公告)号：KR101849409B1
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：KR1020110148029
申请日：2011-12-31
Applicant: 서울대학교산학협력단
CPC classification number: C12Q1/6886 , C12Q2600/136 , C12Q2600/154 , G01N33/5011
Abstract: 본발명은폰틴의메틸화를이용한항암제스크리닝방법에관한것으로서,폰틴(pontin)의메틸화을억제하는것이암 발생및 전이를억제하는항암물질인것으로판단하는항암제를스크리닝하는방법을제공한다. 보다상세하게는세포를배양하는단계; 상기세포에잠재적인물질을접촉시키는단계; 상기세포내 폰틴의메틸화를대조구(상기세포에상기잠재적인물질을접촉시키지않은시험구) 대비감소하는것을확인하는단계; 및상기폰틴의메틸화를감소시키는상기잠재성물질을항암제로선택하는단계를포함하는것을특징으로하는항암제스크리닝방법을제공한다.
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公开(公告)号：KR101427400B1
公开(公告)日：2014-08-07
申请号：KR1020130024478
申请日：2013-03-07
Applicant: 서울대학교산학협력단
Abstract: An umbrella for a wheelchair comprises an operating unit; an expansion unit; and an umbrella unit. The operating unit is fixed on the arm of a wheelchair to be rotatable. The expansion unit is fixed on the back of the wheelchair and extends to the upper side of a wheelchair user. At the end of the extension unit, a rotating unit which rotates in the same direction of the operation by the operating unit is fixed. The umbrella unit blocks rain by being fixed on the rotating unit to be detachable.
Abstract translation: 用于轮椅的伞包括操作单元; 扩建单位 和伞单位。 操作单元被固定在轮椅的臂上以便可旋转。 扩展单元固定在轮椅的背面，并延伸到轮椅使用者的上侧。 在延伸单元的端部，固定有沿操作单元的操作方向旋转的旋转单元。 伞形单元通过固定在旋转单元上而可以防雨，以便可拆卸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110120676A
公开(公告)日：2011-11-04
申请号：KR1020100040197
申请日：2010-04-29
Applicant: 서울대학교산학협력단
CPC classification number: B82B3/0038 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C23F1/00
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a nano-scale structure is provided to generate non-uniform roughness on the surface of a micro-scale or nano-scale structure by etching a polycrystalline silicon structure with a porous polymer layer. CONSTITUTION: A method for manufacturing a nano-scale structure includes the following: An oxide layer(20) is formed on the surface of a substrate(10). A polycrystalline silicon structure(11) is formed on the upper side of the oxide layer. A porous polymer layer(30) is formed on the upper side of the polycrystalline silicon structure. Non-uniform roughness(13) is formed on the polycrystalline silicon structure through an etching process. The substrate is a silicon wafer. The polycrystalline silicon structure is formed through a PECVD process or an LPCVD process. A porous polymer for the porous polymer layer is polydimethylsiloane. The porous polymer layer is formed through a coating process. The etching process is based on XeF_2.
Abstract translation: 目的：提供一种制造纳米级结构的方法，通过用多孔聚合物层蚀刻多晶硅结构，在微尺度或纳米尺度结构的表面上产生不均匀的粗糙度。 构成：制造纳米级结构的方法包括以下：在基板（10）的表面上形成氧化物层（20）。 多晶硅结构（11）形成在氧化物层的上侧。 在多晶硅结构的上侧形成有多孔聚合物层（30）。 通过蚀刻工艺在多晶硅结构上形成非均匀粗糙度（13）。 衬底是硅晶片。 通过PECVD工艺或LPCVD工艺形成多晶硅结构。 用于多孔聚合物层的多孔聚合物是聚二甲基硅烷。 多孔聚合物层通过涂布工艺形成。 蚀刻过程基于XeF_2。
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公开(公告)号：KR101443971B1
公开(公告)日：2014-09-29
申请号：KR1020120121222
申请日：2012-10-30
Applicant: 서울대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 형상기억합금 와이어의 길이 조절에 의한 머리 받침의 높낮이 변경을 통해 경추 추간판 탈출증 환자에게 경추 신전 운동을 유도하고, 장기적인 재활치료를 유도하는 베개 장치에 관한 것으로서, 형상기억합금 와이어를 고정 함과 동시에 길이 변화를 통해 수평래크기어에 힘을 제공하는 동력부, 와이어의 길이 변화에 의해 생긴 장력을 직선 운동으로 변환하는 수평래크기어, 수평래크기어의 이와 맞물림으로써 수평래크기어의 움직임을 회전운동으로 변환하는 제1 기어, 제1 기어의 회전운동을 제2 기어와 제3 기어에 전달하는 축, 제2 기어, 제3 기어를 포함한 회전부, 제2 기어의 이와 맞물림으로써 제2 기어의 회전운동을 직선운동으로 변환하는 제1 수직래크기어, 제3 기어의 이와 맞물림으로써 제3 기어의 회전운동을 직선운동으로 변환하는 제2 수직래크기어, 제1 수직래크기어와 제2 수직래크기어에 고정된 머리판으로 이루어져 있는 구동부를 포함한다. 본 발명의 베개 장치는 전류의 흐름을 제어하는 방법으로 사용자가 원하는 경추 신전 운동을 유도할 수 있어 재활치료에 도움이 되는 물리적 자극을 지속적, 주기적으로 줄 수 있고, 또한 기존의 모터를 이용한 구동 방식에서 발생하는 소음과 진동이 없어 사용자가 보다 편안하게 물리치료를 제공받을 수 있도록 한다.
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公开(公告)号：KR101185247B1
公开(公告)日：2012-09-21
申请号：KR1020100089424
申请日：2010-09-13
Applicant: 서울대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 박막을 이용한 트랜스듀서 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 박막에 주름 구조(corrugation) 패턴을 형성하여 외부의 노이즈를 줄이고, 감도를 향상시키기 위한 주름 박막 구조를 가진 트랜스듀서 및 그 제조방법에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR1020100083541A
公开(公告)日：2010-07-22
申请号：KR1020090002980
申请日：2009-01-14
Applicant: 서울대학교산학협력단
Abstract: PURPOSE: A capacitance type load cell, a manufacturing method thereof, and a load gauging method using the same are provided to effectively shield an external stimulus by forming an upper electrode between pillars of an upper substrate. CONSTITUTION: A capacitance type load cell comprises an upper substrate(30) which includes pillars(30A) in which the shape changes according to the delivered load, a lower substrate(31) which supports the upper substrate, and a capacitor(33) which comprises the upper electrode and the lower electrode. The upper electrode is formed on the upper substrate among the adjacent pillar. The lower electrode is formed on the lower substrate while being corresponded to the upper electrode.
Abstract translation: 目的：提供一种电容式测力传感器，其制造方法和使用其的负载测量方法，以通过在上基板的柱之间形成上电极来有效地屏蔽外部刺激。 构成：电容型测力传感器包括上基板（30），其包括根据传送负载而形状变化的柱（30A），支撑上基板的下基板（31）和电容器（33），电容器 包括上电极和下电极。 上电极形成在相邻支柱的上基板上。 下电极形成在下基板上，同时对应于上电极。
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