公开(公告)号：KR1020060057928A

公开(公告)日：2006-05-29

申请号：KR1020040097125

申请日：2004-11-24

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 하민우 ,  이승철 ,  한민구

IPC: H01L29/778 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L29/66462 ,  H01L21/268 ,  H01L21/324

Abstract: 본 발명은 후처리 어닐링 (post annealing) 기술에 관한 것으로, GaN 소자의 드레인 전류 증가, 트랜스 컨덕턴스(transconductance) 증가, 누설 전류 감소 및 항복 전압 (breakdown voltage) 증가를 위하여 GaN 소자가 제작된 뒤 소자에 엑시머 레이저 펄스 (excimer laser pulse)를 가하는 것이다. 본 발명에 다른 엑시머 레이저 펄스를 이용한 후처리 어닐링 방법은 공정이 용이하며 쇼트키 게이트 (Schottky gate)의 열화 없이 GaN 소자의 전기적 특성 개선을 개선할 수 있다.
후처리 어닐링, 엑시머 레이저, GaN, 높은 전자이동도 트랜지스터

公开(公告)号：KR100463028B1

公开(公告)日：2004-12-23

申请号：KR1020020016134

申请日：2002-03-25

Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 한민구 ,  최연익 ,  오재근 ,  이유상 ,  전병철 ,  이승철

IPC: H01L29/74

Abstract: PURPOSE: A MOS(Metal-Oxide-Semiconductor) controlled thyristor is provided to be capable of increasing the maximum controllable current of the MOS controlled thyristor and restraining the snap-back phenomenon of the MOS controlled thyristor by using a trench gate structure. CONSTITUTION: A MOS controlled thyristor is provided with a trench gate(203) for simultaneously forming a finger gate and a main gate by etching a plurality of trenches to the vertical direction of the trench gate before forming the trench gate and a P-type base(201) self-aligned by using the trench gate as a mask. At this time, the channel width of the main gate is increased through the trench gate. Preferably, a plurality of trenches are formed at the trench gate.

Abstract translation: 目的：提供MOS（金属氧化物半导体）控制晶闸管，以便能够通过使用沟槽栅极结构来增加MOS控制晶闸管的最大可控电流并抑制MOS控制晶闸管的回跳现象。 本发明的MOS控制晶闸管具有沟槽栅极（203），用于在形成沟槽栅极和P型基极之前，通过在沟槽栅极的垂直方向上蚀刻多个沟槽来同时形成指栅极和主栅极 （201）通过使用沟槽栅作为掩模来自对准。 此时，主栅极的沟道宽度通过沟槽栅极增加。 优选地，在沟槽栅极处形成多个沟槽。