저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치
    11.
    发明授权
    저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 有权
    显微镜在低温下扫描光电流和光电压。

    公开(公告)号:KR101493837B1

    公开(公告)日:2015-02-17

    申请号:KR1020130144711

    申请日:2013-11-26

    Abstract: 본 발명은 저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 및 방법에 관한 것으로 크라이오스탯을 사용하여 저온의 샘플에 레이저를 입사하여 발생하는 광전류와 샘플에서 반사된 레이저를 포토다이오드 등을 통해 이미지 전압신호를 샘플 표면에 입사하는 빛의 위치를 이동하여 스캐닝하면서 연속적으로 검출하고, 상기 광전류 및 이미지 전압신호를 데이터화하여 광전류 이미지 및 반사 이미지를 도출하는 것을 특징으로 하는 저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 및 방법에 관한 것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及在低温下的光电流和光电压的显微镜和扫描。 作为激光产生的光电流使用低温恒温器在低温下被射入样品,并且通过光电二极管等从来自样品的反射激光产生的图像电压信号被连续地检测为入射光在样品表面上的位置 被传送和扫描。 将光电流和图像电压信号转换为数据,从而产生光电流图像和反射图像。

    실리콘 박막의 저온 고속 증착 방법 및 장치
    16.
    发明公开
    실리콘 박막의 저온 고속 증착 방법 및 장치 失效
    低温快速成型薄膜的方法及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020100135532A

    公开(公告)日:2010-12-27

    申请号:KR1020090053969

    申请日:2009-06-17

    Abstract: PURPOSE: A method and an apparatus for low-temperature and high-speed depositing a silicon thin film are provided to obtain the light temperature gradient between a substrate and a chamber by cooling the substrate in a silicon thin film depositing process. CONSTITUTION: A silicon source gas is introduced in a chamber(10). A chamber heating part(12) heats the chamber by being installed in the chamber. A substrate supporting part is mounted in the chamber. The substrate supporting part supports a substrate on which a silicon thin film is deposited. The silicon thin film is deposited on the substrate by heating and thermally decomposing the silicon source gas.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于低温高速沉积硅薄膜的方法和设备,以通过在硅薄膜沉积工艺中冷却衬底来获得衬底和室之间的光温梯度。 构成:将硅源气体引入室(10)中。 腔室加热部件(12)通过安装在腔室中来加热腔室。 衬底支撑部件安装在腔室中。 基板支撑部分支撑沉积有硅薄膜的基板。 通过加热和热分解硅源气体将硅薄膜沉积在衬底上。

    니켈 박막 촉매의 산화 환원 반응을 이용한 니켈실리사이드 나노 구조체의 형성방법
    17.
    发明公开
    니켈 박막 촉매의 산화 환원 반응을 이용한 니켈실리사이드 나노 구조체의 형성방법 失效
    使用镍薄膜再氧化制备镍硅酸盐纳米结构的方法

    公开(公告)号:KR1020100000541A

    公开(公告)日:2010-01-06

    申请号:KR1020080060078

    申请日:2008-06-25

    Inventor: 조문호 강기범

    Abstract: PURPOSE: A method for forming nickel silicide nano structure through oxide-reduction reaction of nickel thin film catalyst is provided to apply on various areas having different densities. CONSTITUTION: A method for forming a nickel silicide nano structure comprises: a step of forming a nickel layer(33) on a substrate(31); a step of regulating the amount of oxide film(34) formed on the nickel layer through oxidation or reduction; and a step of reacting reaction vapor containing the silicon with nickel layer and oxide film to synthesize the nickel silicide. The amount of oxide film is regulated by controlling oxidation time. The substrate is quartz substrate, ITO substrate, glass substrates or SiO2/Si substrate.

    Abstract translation: 目的:提供通过镍薄膜催化剂的氧化还原反应形成镍硅化物纳米结构的方法,以应用于具有不同密度的各种区域。 构成:形成硅化镍纳米结构的方法包括:在衬底(31)上形成镍层(33)的步骤; 通过氧化还原来调节形成在镍层上的氧化膜(34)的量的步骤; 以及使含有硅的反应蒸气与镍层和氧化物膜反应以合成硅化镍的步骤。 通过控制氧化时间来调节氧化膜的量。 衬底是石英衬底,ITO衬底,玻璃衬底或SiO 2 / Si衬底。

    층간 배향 기반 광 흡수 및 발광 특성을 가진 반도체 스택
    18.
    发明公开
    층간 배향 기반 광 흡수 및 발광 특성을 가진 반도체 스택 审中-实审
    具有层间取向光吸收和发射特性的半导体叠层

    公开(公告)号:KR1020170000318A

    公开(公告)日:2017-01-02

    申请号:KR1020160002593

    申请日:2016-01-08

    CPC classification number: Y02E10/52 Y02P70/521

    Abstract: 본발명은층간배향기반광 흡수및 발광특성을가진반도체스택의분석방법을공개한다. 이방법은 (a) 화학기상증착법을이용하여결정방향이일치하는전이금속-칼코겐화합물의제1 스택이제조되는단계; (b) 물리적전사를이용하여회전각조절에의해결정방향이불일치하는전이금속-칼코겐화합물의제2 스택이제조되는단계; (c) 상기제1 및제2 스택각각의원자층간 광의흡수및 발광양상이측정되는단계; 및 (d) 상기측정된광의흡수및 발광양상을동역학분석하여천이밴드갭이판별되는단계;를포함하는것을특징으로한다. 본발명에의할경우, 2차원반도체적층구조의상대적인결정방향을선택적으로일치또는불일치시키는조절이가능하여새로운전자구조를인공적으로형성할수 있고, 종래에보고되지않은새로운인공저 차원반도체구조를실현할 수있게된다. 또한, 2차원원자층물질간의상호작용이원자층간 회전각도에따라새로이결정되어다양한광 물리현상연구가가능해지고, 이를통한물질특성제어를통하여 2차원물질발광체, 레이저, 광검출기등으로실제산업상에폭넓게응용이가능하게된다.

    코어 쉘 구조를 갖는 나노 구조체, 이의 제조 방법 및 리튬 이온 전지
    19.
    发明公开
    코어 쉘 구조를 갖는 나노 구조체, 이의 제조 방법 및 리튬 이온 전지 有权
    核壳纳米结构,其制造方法和锂离子电池

    公开(公告)号:KR1020130033251A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:KR1020110103114

    申请日:2011-10-10

    Abstract: PURPOSE: A nanostructure is provided to improve electron conductivity and structural stability and to obtain high capacity and high retention for the negative electrode of a lithium secondary battery. CONSTITUTION: A nanostructure consists of a core/shell structure that a core is made of a metal silicide and is covered with silicon. A manufacturing method of the nanostructure comprises a step of forming a metal thin film on a substrate(11); a step of forming an oxide film by oxidizing a part of the metal thin film; a step of injecting silicon-containing reaction gas into an oxide film and forming a metal silicide nanostructure(14); a step of injecting the silicon-containing reaction gas into the metal silicide nanostructure and forming silicon on the surface of the metal silicide nanostructure.

    Abstract translation: 目的:提供纳米结构以提高电子传导性和结构稳定性,并为锂二次电池的负极获得高容量和高保留性。 构成:纳米结构由芯/壳结构组成,核心由金属硅化物制成并被硅覆盖。 纳米结构的制造方法包括在基板(11)上形成金属薄膜的工序。 通过氧化金属薄膜的一部分来形成氧化膜的步骤; 将含硅反应气体注入氧化膜并形成金属硅化物纳米结构(14)的步骤; 将含硅反应气体注入到金属硅化物纳米结构中并在金属硅化物纳米结构的表面上形成硅的步骤。

    단결정 실리콘 나노와이어를 템플레이트로 이용한 다결정실리콘 박막과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 제조방법

    公开(公告)号:KR101024080B1

    公开(公告)日:2011-03-22

    申请号:KR1020080075152

    申请日:2008-07-31

    Inventor: 조문호 우윤성

    Abstract: 본 발명은 저온에서 비정질 실리콘의 결정화가 가능하도록 하고 결정화된 다결정 실리콘의 결정립 크기가 조대하며 한 방향으로 잘 정렬된 결정립 구조를 형성시킴으로써 전자 이동도가 매우 우수한 다결정 실리콘 박막 및 이에 의한 트랜지스터를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
    상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은, (a) 복수의 단결정 실리콘 나노와이어를 기판에 배열하는 단계, (b) 상기 단결정 실리콘 나노와이어의 배열 위에 비정질 실리콘 박막을 증착하는 단계 및 (c) 열처리를 통해 상기 단결정 실리콘 나노와이어로부터 증착된 비정질 실리콘의 고상 에피탁시를 유도하여 비정질 실리콘을 결정화시키는 단계를 포함하는 다결정 실리콘 박막의 형성방법을 제공한다.
    다결정 실리콘 박막, 저온, 트랜지스터

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