Abstract:
본 발명은 저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 및 방법에 관한 것으로 크라이오스탯을 사용하여 저온의 샘플에 레이저를 입사하여 발생하는 광전류와 샘플에서 반사된 레이저를 포토다이오드 등을 통해 이미지 전압신호를 샘플 표면에 입사하는 빛의 위치를 이동하여 스캐닝하면서 연속적으로 검출하고, 상기 광전류 및 이미지 전압신호를 데이터화하여 광전류 이미지 및 반사 이미지를 도출하는 것을 특징으로 하는 저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A silicon nanowire biosensor for diagnosing cancer is provided to selectively detect vascular endothelial growth factor(VEGF) and early diagnose various kinds of cancer. CONSTITUTION: A silicon nanowire transistor biosensor contains source, drain, gate, a field effect transistor having a channel area between the source and drain, and an RAN aptamer which selectively binds with fixed VEGF on the surface of silicon nano wire. The RNA aptamer is Pegaptanib Sodium.
Abstract:
본 발명은 니켈 실리사이드 나노 구조체를 포함하는 전자 방출원을 제공한다. 상기 본 발명에 따른 니켈 실리사이드 나노 구조체는 높은 종횡비를 가지며, 선단이 뾰족한 형태로서 우수한 전기적 특성을 갖는다. 따라서 상기 본 발명에 따른 니켈 실리사이드 나노 구조체를 이용한 전자 방출 소자는 구동전압, 전계 방출 특성 등에 있어서 우수한 특성을 구현할 수 있다. 또한, 상기 니켈 실리사이드 나노 구조체는 실리콘 기반 물질로서 실리콘 기반 산업에 접목이 유리하다. 한편, 본 발명에 따른 니켈 실리사이드 나노 구조체 제조 방법은 저온 공정이 가능함에 따라, 공정 단가를 낮추며, 또한 촉매를 사용하는 통상적인 나노 구조체 공정에 비하여 단순화된 것으로서, 양산 가능한 제조 방법이다. 나노 구조체, 니켈 실리사이드, 전자 방출원
Abstract:
본 발명은 금속 실리사이드로 이루어진 나노 선 형상의 코어와 상기 코어의 표면에 실리콘이 덮여진 코어-쉘 구조의 나노 구조체로서 특히 리튬 이온 전지의 음극에 사용되었을 때 고보존력(high retention)과 고충방전(high capacity) 특성을 나타낼 수 있는 나노 구조체와 이의 형성 방법 및 상기 나노 구조체를 적용한 리튬 이온 전지에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 황반변성 치료에 사용되며 혈관성장인자를 특이적으로 인식하는 anti-VEGF 압타머를 실리콘 나노와이어 전계효과 트랜지스터에 적용함으로써, 조기에 암 진단을 가능하게 하는 바이오센서와 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 바이오센서는 소스, 드레인 및 게이트를 포함하며 상기 소스와 드레인 사이의 채널영역이 실리콘 나노와이어로 이루어진 전계효과 트랜지스터와, 상기 실리콘 나노와이어의 표면에 고정된 혈관성장인자(VEGF)와 선택적으로 결합하는 RNA 압타머(aptamer)를 포함하며, 상기 압타머에 혈관성장인자가 결합될 때 발생하는 화학적 게이트 현상을 이용하여 혈관성장인자를 감지하는 것을 구성적 특징으로 한다. 바이오센서, 혈관성장인자, 암, 조기진단
Abstract:
PURPOSE: A method and an apparatus for low-temperature and high-speed depositing a silicon thin film are provided to obtain the light temperature gradient between a substrate and a chamber by cooling the substrate in a silicon thin film depositing process. CONSTITUTION: A silicon source gas is introduced in a chamber(10). A chamber heating part(12) heats the chamber by being installed in the chamber. A substrate supporting part is mounted in the chamber. The substrate supporting part supports a substrate on which a silicon thin film is deposited. The silicon thin film is deposited on the substrate by heating and thermally decomposing the silicon source gas.
Abstract:
PURPOSE: A method for forming nickel silicide nano structure through oxide-reduction reaction of nickel thin film catalyst is provided to apply on various areas having different densities. CONSTITUTION: A method for forming a nickel silicide nano structure comprises: a step of forming a nickel layer(33) on a substrate(31); a step of regulating the amount of oxide film(34) formed on the nickel layer through oxidation or reduction; and a step of reacting reaction vapor containing the silicon with nickel layer and oxide film to synthesize the nickel silicide. The amount of oxide film is regulated by controlling oxidation time. The substrate is quartz substrate, ITO substrate, glass substrates or SiO2/Si substrate.
Abstract:
PURPOSE: A nanostructure is provided to improve electron conductivity and structural stability and to obtain high capacity and high retention for the negative electrode of a lithium secondary battery. CONSTITUTION: A nanostructure consists of a core/shell structure that a core is made of a metal silicide and is covered with silicon. A manufacturing method of the nanostructure comprises a step of forming a metal thin film on a substrate(11); a step of forming an oxide film by oxidizing a part of the metal thin film; a step of injecting silicon-containing reaction gas into an oxide film and forming a metal silicide nanostructure(14); a step of injecting the silicon-containing reaction gas into the metal silicide nanostructure and forming silicon on the surface of the metal silicide nanostructure.
Abstract:
본 발명은 저온에서 비정질 실리콘의 결정화가 가능하도록 하고 결정화된 다결정 실리콘의 결정립 크기가 조대하며 한 방향으로 잘 정렬된 결정립 구조를 형성시킴으로써 전자 이동도가 매우 우수한 다결정 실리콘 박막 및 이에 의한 트랜지스터를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은, (a) 복수의 단결정 실리콘 나노와이어를 기판에 배열하는 단계, (b) 상기 단결정 실리콘 나노와이어의 배열 위에 비정질 실리콘 박막을 증착하는 단계 및 (c) 열처리를 통해 상기 단결정 실리콘 나노와이어로부터 증착된 비정질 실리콘의 고상 에피탁시를 유도하여 비정질 실리콘을 결정화시키는 단계를 포함하는 다결정 실리콘 박막의 형성방법을 제공한다. 다결정 실리콘 박막, 저온, 트랜지스터