Abstract:
PURPOSE: A multiple coating stent for controlling the medicine emission, and a manufacturing method thereof are provided to form three coating layers of different drugs by emitting ultrasonic waves. CONSTITUTION: A manufacturing method of a multiple coating stent for controlling the medicine emission comprises the following steps: ultrasonic wave-spraying a mixed solution of a first drug and a biodegradable polymer on the surface of a stent for forming a first coating layer; ultrasonic wave-spraying a biodegradable polymer solution on the upper side of the first coating layer for forming a second coating layer; ultrasonic wave-spraying a second mixed solution of a second drug and the biodegradable polymer on the upper side of the second coating layer for forming a third coating layer; and forming a fourth coating layer on the third coating layer using a biodegradable polymer. The first or second drug is selected from polyvinyl alcohol, saponin, carboxymethyl cellulose, or mono grylceride.
Abstract:
본 발명은 혈관 및 비혈관계 약물 방출 스텐트의 정밀제어 나노코팅 방법에 관한 것이다. 본 발명은 기존 금속 스텐트에 재협착 및 혈액 응고를 막는 약물을 생분해성 고분자에 혼합하여 초음파 분사기기를 사용하여 코팅하는 방법이다. 나노코팅 조건으로 초음파 분사기기의 분사거리, 스텐트의 회전속도, 고분자의 방출량, 고분자의 농도, 고분자의 분사압력을 조절하고 다양한 생분해성 고분자, 분산 용매 및 약물을 사용하여 최적화하였다. 본 발명은 스텐트에 약물 함유 고분자를 초음파 나노코팅 시 여러 가지 코팅 조건을 정밀 제어함으로서 코팅 두께를 얇게 하고 코팅 시간을 단축시킬 수 있을 뿐만 아니라 스텐트의 코팅 표면을 평활하게 하고 약물 방출을 용이하게 조절할 수 있어서 모든 약물 방출 스텐트에 적용이 가능하다.
Abstract:
본 발명은 반도체 제조에서 미세 패턴 가공 시 노광된 빛의 난반사 억제를 위하여 사용될 수 있으며, 193nm 파장의 원자외선 영역에서 높은 광흡수도를 갖는 N -하이드록시페닐말레이미드 반복 단위 함유 유기 고분자, 이를 포함하는 반사 방지막용 조성물 및 이들의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유기 고분자를 포함하는 바닥 반사 방지막은 기가 비트급 디램(Giga-bit DRAM)의 고집적 반도체 소자 제조에 사용되어 회로의 층간 난반사 및 정재파 현상을 대폭 억제할 수 있으므로, 70nm - 120nm 급의 초고해상도 미세회로를 안정적으로 형성하여 반도체 제품의 생산 수율을 증대시킬 수 있다.
Abstract:
Provided are a polymer, its preparation method, an organic bottom antireflective coating layer composition containing the polymer, and an antireflective coating layer to prevent the reflection of a substrate layer below a photoresist layer for forming a hyperfine circuit during the exposure process using a deep UV of 250 nm or less in the photolithography of a highly integrated semiconductor prepared from the composition. The polymer is represented by the formula 1, wherein R is a benzoin ether, acetophenone or anthracene derivative of an aromatic carbonyl; R1 is H, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxyalkyl group or a C1-C6 hydroxyalkyl group; R2 is a protected maleimide or furyl group; X is H, a carboxyl group, a hydroxyl group, a furoyl group or a cyanato group; Y is a C1-C6 alkyl group or a phenyl group; x is 0.1-0.5; y is 0-0.6; z is 0-0.3; p is 0.01-0.3; x+y+z+p = 1; and q is an integer of 1-6. Preferably the polymer has a weight average molecular weight of 10,000-100,000.
Abstract translation:提供聚合物,其制备方法,含有该聚合物的有机底部抗反射涂层组合物和防反射涂层,以防止在使用深紫外线的曝光过程中形成超精细电路的光致抗蚀剂层下方的基底层反射 在由组合物制备的高度集成的半导体的光刻中为250nm以下。 聚合物由式1表示,其中R是芳族羰基的苯偶姻醚,苯乙酮或蒽衍生物; R1是H,C1-C6烷基,C1-C6烷氧基烷基或C1-C6羟烷基; R2是受保护的马来酰亚胺或呋喃基; X是H,羧基,羟基,糠酰基或氰基; Y是C1-C6烷基或苯基; x为0.1-0.5; y为0-0.6; z为0-0.3; p为0.01-0.3; x + y + z + p = 1; q为1-6的整数。 优选地,聚合物的重均分子量为10,000-100,000。