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公开(公告)号：KR1020130091992A
公开(公告)日：2013-08-20
申请号：KR1020120013407
申请日：2012-02-09
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: H01B13/0026 , G06F3/0412
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a touch panel electrode is provided to form an electrode by using an ion bombardment phenomenon through physical ion-etching, thereby manufacturing an electrode having high transparency and uniformity with a simple process and at low cost. CONSTITUTION: A conductive material layer (15) and a polymer layer (20) are successively formed on a substrate. A patterned polymer structure is formed at the polymer layer through a lithography process. A conductive-material/polymer composite structure (25), to which an ion-etched conductive material is attached, is formed on the outer circumferential surface of the polymer structure by ion-etching the conductive material layer. An electrode pattern is formed on the substrate by removing the polymer of the conductive-material/polymer composite structure.
Abstract translation: 目的：提供触摸面板电极的制造方法，通过物理离子蚀刻使用离子轰击现象形成电极，从而以简单的工艺和低成本制造具有高透明度和均匀性的电极。 构成：在衬底上依次形成导电材料层（15）和聚合物层（20）。 通过光刻工艺在聚合物层处形成图案化的聚合物结构。 通过对导电材料层进行离子蚀刻，在聚合物结构体的外周面上形成有导电材料/聚合物复合结构（25），其上附着有离子蚀刻导电材料。 通过除去导电材料/聚合物复合结构的聚合物，在基板上形成电极图案。
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公开(公告)号：KR101249981B1
公开(公告)日：2013-04-05
申请号：KR1020110064090
申请日：2011-06-29
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B22F7/04 , B81C1/00031 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/006 , C03C2217/42 , C03C2218/34 , C23C14/221 , G03F7/0002 , G03F7/0037 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612
Abstract: 본 발명은 3차원 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 패턴화된 고분자 구조체의 외주면에 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 적용하여 목적물질을 부착시킨 목적물질-고분자 복합구조체를 형성시킨 다음, 상기 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자를 제거하여 나노구조체를 제조함으로써, 대면적으로 고 종횡비와 균일성을 가지는 다양한 형상의 3차원 나노 구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 3차원 나노구조체의 제조방법은 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 제조됨으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 높은 종횡비와 균일성을 가지는 3차원 나노구조체를 제조할 수 있고, 고분자 구조체의 패턴 및 형상을 조절함으로써 다양한 형상의 구조체 제조가 용이한 동시에 대면적으로 두께가 10nm 이하인 균일한 미세 나노구조를 형성할 수 있어 나노전자소자, 광학소자, 바이오소자, 에너지소자 등과 같은 미래의 나노소자의 높은 성능을 구현할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020170110186A
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：KR1020160033779
申请日：2016-03-22
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01M4/1397 , H01M4/04 , H01M4/80 , H01M4/13 , H01M10/0525
CPC classification number: H01M4/04 , H01M4/13 , H01M4/1397 , H01M4/80 , H01M10/0525 , H01M4/0438 , H01M4/806 , Y02E60/122
Abstract: 본발명은리튬이차전지용황화니켈전극의제조방법에관한것으로, (i) 3차원집전체를제조하는단계; (ii) 상기 3차원집전체에니켈을무전해도금하는단계; (iii) 상기니켈이도금된 3차원집전체에황화처리하는단계; 를포함하는것을특징으로하는리튬이차전지용황화니켈전극제조방법을제공한다. 상기본 발명에따른전극을이용하여제조된리튬이차전지는높은방전용량과높은에너지밀도를얻을수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种制造用于锂二次电池的硫化镍电极的方法，该方法包括以下步骤：（i）制备三维集电器; （ii）在三维集电器上无电镀镍; （iii）硫化镀镍三维集电器; 本发明还提供一种制造用于锂二次电池的硫化镍电极的方法， 通过使用根据上述基本发明的电极制造的锂二次电池可以获得高放电容量和高能量密度。
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公开(公告)号：KR101356800B1
公开(公告)日：2014-01-28
申请号：KR1020110121435
申请日：2011-11-21
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B81C1/00111 , B82Y40/00
Abstract: 본 발명은 연속적으로 패턴화된 구조를 가지는 ３차원 다성분 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 이용하여 목적물질-고분자 복합구조체를 형성한 다음, 형성된 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자만을 제거하는 일련의 과정을 반복적으로 수행함으로써 제조되는, 연속적으로 패턴화된 구조를 가지는 ３차원 다성분 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 제조됨으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 높은 종횡비와 균일성을 가지는 3차원 나노구조체를 제조할 수 있고, 고분자 구조체의 패턴 및 형상을 반복적으로 조절함으로써 연속적으로 패턴화된 다양한 형상의 구조를 가지는 구조체의 제조가 용이한 동시에 대면적으로 두께가 10nm 이하인 균일한 미세 나노구조를 형성할 수 있어 나노전자소자, 광학소자, 바이오소자, 에너지소자 등과 같은 미래의 나노소자의 높은 성능을 구현할 수 있는 효과가 있다.Abstract translation: 本发明涉及具有连续图案化结构的三维多组分纳米结构及其制备方法，更具体地涉及具有连续图案化结构的三维多组分纳米结构，其通过反复进行一系列以下步骤制备 ：通过物理离子蚀刻使用离子轰击现象形成靶材料 - 聚合物复合结构; 并且仅除去所形成的靶材料 - 聚合物复合结构体的聚合物及其制备方法。
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公开(公告)号：KR1020130066138A
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：KR1020110132845
申请日：2011-12-12
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: PURPOSE: A sensor with a nanochannel structure and a manufacturing method thereof are provided to manufacture a channel for the sensor by applying an ion bombardment phenomenon caused by physical ion etching, thereby manufacturing the ultra-fine nanochannel structure having various line widths and shapes at low costs through a simple process simultaneously with a line width of a maximum 10nm level. CONSTITUTION: A manufacturing method of a sensor with a nanochannel structure is as follows. A target material layer and a polymer layer are successively formed on a substrate(10). A lithographic process is performed on the polymer layer so that a patterned polymer structure is formed. The target material layer is ion-etched so that a target material-polymer composite structure(25) in which the ion-etched target material is attached on the outer circumference of the polymer structure. A polymer of the target material-polymer composite structure is removed so that the nanochannel structure is manufactured on the substrate.
Abstract translation: 目的：提供具有纳米通道结构的传感器及其制造方法，通过施加由物理离子蚀刻引起的离子轰击现象来制造用于传感器的通道，从而制造具有低线宽和形状的超细纳米通道结构 成本通过简单的过程同时线宽最大为10nm级。 构成：具有纳米通道结构的传感器的制造方法如下。 目标材料层和聚合物层依次形成在基板（10）上。 在聚合物层上进行平版印刷工艺，从而形成图案化的聚合物结构。 对靶材料层进行离子蚀刻，使得在聚合物结构的外周附着有离子蚀刻的目标材料的靶材料 - 聚合物复合结构（25）。 去除目标材料 - 聚合物复合结构的聚合物，使得在基底上制造纳米通道结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101231898B1
公开(公告)日：2013-02-08
申请号：KR1020110059506
申请日：2011-06-20
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G02F1/13439 , B82Y30/00 , G02F1/13378 , G02F2202/36
Abstract: 본 발명은 나노구조 패턴이 형성된 투명전극 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 이용하여 투명전극상에 고 분해능(high resolution)과 고 종횡비(high aspcet ratio)를 가지는 나노구조 패턴을 형성시킴으로써, 투명전극의 전도성 및 광투과성의 저하 없이 우수한 액정 배향특성을 나타내는 나노구조 패턴이 형성된 투명전극 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 나노구조 패턴이 형성된 투명전극의 제조방법은 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 제조됨으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 높은 다양한 종횡비와 균일성을 가지는 액정의 프리틸트가 형성된 투명전극을 제조할 수 있고, 투명전극으로 직접 액정을 배향시킴으로써 광 투과성이 높을 뿐만 아니라, 저항값 또한 낮아 액정 배향 특성 및 안정성을 향상시켜 제품 성능을 개선할 수 있을 뿐만 아니라, 본 발명에 따른 투명전극이 형성된 두 개의 기판의 배열로 액정의 배향을 원하는 방향으로 정밀하게 조절할 수 있어 다양한 디스플레이 소자에 응용할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020120139948A
公开(公告)日：2012-12-28
申请号：KR1020110059506
申请日：2011-06-20
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G02F1/13439 , B82Y30/00 , G02F1/13378 , G02F2202/36
Abstract: PURPOSE: A transparent electrode, on which a nanostructure pattern is formed, and a manufacturing method thereof are provided to improve optical permeability using an ion bombardment phenomenon through a physical ion etching process. CONSTITUTION: A transparent electrode layer is formed on a substrate. A polymer is coated on the transparent electrode layer and a polymer layer is formed. The patterned polymer structure is formed on the polymer layer. A polymer composite structure is formed by ion-etching the transparent electrode layer. A polymer material is removed from the polymer composite structure. [Reference numerals] (a) Pattern transfer from PDMS mold to PS; (AA) Mold; (b) Removal of PS on bottom by RIE; (BB) Polymer; (c) Attach ITO on PS wall by SSL; (CC) Transparent electrode forming material; (d) Removal of residual PS→ITO line pattern; (DD) Substrate; (e-1) Assemble ECB cell; (e-2) Assemble TN cell; (f) Introduce LC molecules to the cell
Abstract translation: 目的：提供其上形成有纳米结构图案的透明电极及其制造方法，以通过物理离子蚀刻工艺使用离子轰击现象来提高光学透过性。 构成：在基板上形成透明电极层。 在透明电极层上涂布聚合物，形成聚合物层。 图案化的聚合物结构形成在聚合物层上。 通过离子蚀刻透明电极层形成聚合物复合结构。 聚合物材料从聚合物复合结构中除去。 （附图标记）（a）从PDMS模具到PS的图案转印; （AA）模具; （b）RIE底部移除PS; （BB）聚合物; （c）通过SSL将PS贴在PS墙上; （CC）透明电极形成材料; （d）去除残留的PS→ITO线图案; （DD）基材; （e-1）装配ECB电池; （e-2）组装TN细胞; （f）向细胞引入LC分子
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18.发明公开전기방사 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조장치 및 이를 이용한 나노/마이크로 섬유 네트를 포함하는 나노구조체 필름 제조방법 审中-实审包括静电纺丝纳米/微米纤维网的纳米结构薄膜制造设备和使用其的纳米/微米纤维网制造纳米结构薄膜的方法
公开(公告)号：KR1020170123504A
公开(公告)日：2017-11-08
申请号：KR1020160053178
申请日：2016-04-29
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B82B3/0004 , B82B3/0028 , B82Y40/00 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/14 , C23C16/06 , C23C16/40 , C23C16/407 , H01B13/0026
Abstract: 본발명의일실시예는고분자물질을이용한전기방사와이에대한증착공정을수행하므로, 나노구조체필름두께, 밀도등의성질에대한제어가용이하고공정이비교적간단하며, 또한전기방사법을연속적으로사용하여섬유네트를제조한후 증착하여구조체를형성시키므로, 섬유구조체간접촉성을향상시켜전도성물질증착시접촉저항을효과적으로감소시킬수 있는나노구조체필름제조장치및 나노구조체필름제조방법을제공한다. 본발명의실시예에따른전기방사나노/마이크로섬유네트를포함하는나노구조체필름제조장치는, 고분자용액을전기방사(electrospinning)하는실린지(syringe)부, 실린지부의하부에이격되어설치되며실린지부에서방사된섬유가배열되어섬유네트를형성하는컬렉터(collector) 기능을수행하는프레임부, 및프레임부를지지하도록설치되며프레임부를상하이동및 회전운동시키는지그(jig)부를포함한다.
Abstract translation: 本发明的一个实施例中，并促进纳米结构薄膜厚度，密度等的性能的控制，因为执行该沉积工艺和使用聚合物材料静电，并且处理是相对简单的，并且随后在电纺丝过程中使用的 因为制造纤维网形成结构之后沉积的，改善了纤维结构间接迫使提供所述纳米结构薄膜制造设备，其能够降低接触电阻，有效地纳米结构薄膜生产过程期间沉积的导电材料。 产生装置包括：根据本发明的一个实施方式的电纺丝纳米/微米纤维网的纳米结构薄膜，安装并隔开的电纺丝（静电）注射器（注射器）部分的下部分上的聚合物溶液中，圆柱形的筒状部 以及用于支撑框架部件并用于上下移动框架部件并旋转光纤部件的夹具部件。
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公开(公告)号：KR1020170095054A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：KR1020160016559
申请日：2016-02-12
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01B13/00 , H01B5/14 , H01B1/02 , H01B3/08 , H01L21/027 , H01L21/3213
Abstract: 본발명은희생층이형성되어있는기판위에매크로프리패턴을형성하고, 메탈을증착하거나메탈을증착한다음매크로프리패턴을형성한후에, 이온식각공정을통해메탈을매크로프리패턴의측면에재증착시켜패턴을형성하고에칭을통해프리패턴의잔여층을제거한다음, 유연기판물질을도포및 경화시키고희생층을제거하여메탈투명전극을제조하는방법에관한것으로서, 이와같이제조된유연메탈투명전극은높은종횡비, 전도성및 투과도를확보하여고성능의투명전극의제작이가능하고, 또한높은해상도의선폭으로인해, 높은메쉬밀도구성이가능하여소자구현시전자의이동효율을향상시킬수 있고, 탁도(haze)와모아레현상과같은시인성문제, 기계적유연성, 표면거칠기및 기판과의접착성문제를해결할수 있다.
Abstract translation: 本发明沉积形成，其形成有牺牲层在基板上的自由宏观图案的金属材料，沉积金属或沉积金属在宏hanhue形成预图案，在自由宏观图案的侧离子蚀刻工艺 如通过蚀刻去除所述预图案的剩余层施加和固化，然后在柔性基板材料和用于制造金属透明电极去除牺牲层的方法，以这种方式形成的图案所产生的柔性金属透明电极是高纵横比 担保，电导率和磁导率，使生产的高性能的透明电极的，并且还由于该高分辨率的线宽度，并sikilsu高网格密度配置的，以提高电子的移动效率时，该设备的实现中，浊度（雾度）和莫尔 可以解决诸如显影，机械柔韧性，表面粗糙度和对基材的粘附性等可视性问题。
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公开(公告)号：KR101284274B1
公开(公告)日：2013-07-08
申请号：KR1020110132845
申请日：2011-12-12
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 나노채널 구조체를 구비하는 센서 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 패턴화된 고분자 구조체의 외주면에 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 적용하여 목적물질을 부착시킨 목적물질-고분자 복합구조체를 형성시킨 다음, 상기 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자를 제거하여 나노채널 구조체를 제조하고, 상기 제조된 나노채널 구조체를 적용함으로써 센서의 감응성을 향상시킨 나노채널 구조체를 구비하는 센서 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 물리적 이온 식각을 통한 이온 봄바드먼트 현상을 적용하여 센서용 채널을 제조함으로써 간단한 공정과 저렴한 비용으로 다양한 선폭과 형태를 가지는 동시에 최대 10nm 수준의 선폭을 가지는 극미세 나노채널 구조체를 제조할 수 있어 뛰어난 감응성을 요하는 센서에 유용하게 사용할 수 있다.
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