公开(公告)号：KR100125295B1

公开(公告)日：1997-12-10

申请号：KR1019930029353

申请日：1993-12-23

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 박병선 ,  오용호 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: A structure and method of transform unresolution diffraction mask is provided to improve resolution of main mask and focusing depth. The mask comprises: an unite-type transform unresolution diffraction mask including a half-tone PSM(phase shift mask) pattern(2) made of Cr formed on a main mask of a quartz substrate(1) and an unresolution diffraction layer(3) formed on the surface of the half-tone PSM; and a separate-type transform unresolution diffraction mask including a Cr layer(2) for forming a half-tone PSM formed on the main mask of a quartz substrate(1) and an unresolution diffraction mask(3) separately form the half-tone PSM on the quartz substrate(1).

Abstract translation: 提供变换非分辨率衍射掩模的结构和方法，以提高主掩模的分辨率和聚焦深度。 该掩模包括：包含由在石英基板（1）的主掩模上形成的由Cr制成的半色调PSM（相移掩模）图案（2）和非分辨率衍射层（3）的单元型变换非分辨率衍射掩模， 形成在半色调PSM的表面上; 以及分别形成用于形成在石英基板（1）的主掩模上的半色调PSM的Cr层（2）和非分辨率衍射掩模（3）的单独型变换非分辨率衍射掩模，分别形成半色调PSM 在石英基板（1）上。

公开(公告)号：KR1019930024107A

公开(公告)日：1993-12-21

申请号：KR1019920023361

申请日：1992-12-04

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 오용호 ,  전영진 ,  차재현 ,  김효중

IPC: G03F1/36 ,  G03F1/54 ,  G03F1/58

Abstract: 본 발명은 광노광장치를 이용하여 반도체장치의 미세패턴을 형성하는데 사용되는 미해상회절마스크에 관한 것으로, 광노광장비를 이용하여 리쏘그래피 공정을 수행함에 있어서, 주마스크와 보조적으로 사용하되 웨이퍼에 전혀 상이 전달되지 않는 미세 반복패턴으로 구성되고, 변형조명이나 초해상필터를 사용한 노광장비를 사용함에 있어서, 주마스크와 보조적으로 사용하되, 웨이퍼에 전혀 상이 전달되지 않는 미세 반복패턴으로 구성된 미해성회절층을 갖는다.