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公开(公告)号:KR101917438B1
公开(公告)日:2018-11-09
申请号:KR1020160169956
申请日:2016-12-13
Applicant: 고려대학교 산학협력단 , 한국전자통신연구원
IPC: H01L27/32 , H01L51/52 , H01L51/00 , H01L21/3065 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01J37/32
Abstract: 본발명의일 실시예에따른칼라필터제조방법은기판(110) 상에광추출층(120), 상기광추출층(120) 상에포토레지스트막(130)를차례로형성하고상기포토레지스트막(130)을패터닝하여주기적인포토레지스트패턴(131)을포함하는제1 포토레지스트층(130a)을형성하는단계; 플라즈마식각공정을사용하여상기제1 포토레지스트층(130a)의표면모폴로지를변화시키어랜덤요철구조(132)를제2 포토레지스트층(130b)에형성하고상기주기적인포토레지스트패턴(131)을식각마스크로플라즈마식각공정에의하여주기적인광추출패턴(121)을구비한제1 광추출층(120a)을제공하는단계; 상기제2 포토레지스트층(130b)의상기랜덤요철구조(132)를마스크로사용하여상기제1 광추출층(120a)을과식각(over-etch)하여랜덤패턴(122)을형성한제2 광추출층(120b)을제공하는단계; 및상기제2 포토레지스트층(130b)을제거하고제2 광추출층(120b) 상에평탄층(140)을형성하는단계를포함한다.
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公开(公告)号:KR101906591B1
公开(公告)日:2018-10-12
申请号:KR1020120144284
申请日:2012-12-12
Applicant: 한국전자통신연구원
Inventor: 안준태 , 이정익 , 문제현 , 박승구 , 조남성 , 조두희 , 한준한 , 황주현 , 신진욱 , 임종태 , 주철웅 , 허진우 , 황치선 , 류호준 , 구재본 , 추혜용
CPC classification number: H01L27/3232
Abstract: 본발명의일 실시예에따른이중모드디스플레이는기판, 및상기기판상의복수의세부화소를포함하고, 상기세부화소각각은자발광형소자, 상기자발광형소자의일측면에배치된반사형광필터, 및상기자발광형소자의타측면에배치된광셔터를포함한다.
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公开(公告)号:KR1020180068239A
公开(公告)日:2018-06-21
申请号:KR1020160169956
申请日:2016-12-13
Applicant: 고려대학교 산학협력단 , 한국전자통신연구원
IPC: H01L27/32 , H01L51/52 , H01L51/00 , H01L21/3065 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01J37/32
CPC classification number: H01L27/322 , G03F7/0007 , H01J37/321 , H01L21/0273 , H01L21/3065 , H01L51/0018 , H01L51/5262 , H01L51/5275 , H01L2251/301
Abstract: 본발명의일 실시예에따른칼라필터제조방법은기판(110) 상에광추출층(120), 상기광추출층(120) 상에포토레지스트막(130)를차례로형성하고상기포토레지스트막(130)을패터닝하여주기적인포토레지스트패턴(131)을포함하는제1 포토레지스트층(130a)을형성하는단계; 플라즈마식각공정을사용하여상기제1 포토레지스트층(130a)의표면모폴로지를변화시키어랜덤요철구조(132)를제2 포토레지스트층(130b)에형성하고상기주기적인포토레지스트패턴(131)을식각마스크로플라즈마식각공정에의하여주기적인광추출패턴(121)을구비한제1 광추출층(120a)을제공하는단계; 상기제2 포토레지스트층(130b)의상기랜덤요철구조(132)를마스크로사용하여상기제1 광추출층(120a)을과식각(over-etch)하여랜덤패턴(122)을형성한제2 광추출층(120b)을제공하는단계; 및상기제2 포토레지스트층(130b)을제거하고제2 광추출층(120b) 상에평탄층(140)을형성하는단계를포함한다.
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公开(公告)号:KR1020170107140A
公开(公告)日:2017-09-25
申请号:KR1020160030466
申请日:2016-03-14
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: C09K11/06 , C07D235/06 , C07C15/28 , H01L51/00 , H01L51/50
Abstract: 본발명은유기전계발광소자의전자수송층용조성물에관한것으로, 보다상세하게는신규한안트라센유도체를포함하는전자수송층용조성물에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及用于有机电致发光器件的电子传输层的组合物,并且更具体地涉及包含新型蒽衍生物的用于电子传输层的组合物。
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16.
公开(公告)号:KR1020160068634A
公开(公告)日:2016-06-15
申请号:KR1020150086837
申请日:2015-06-18
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본발명은주름구조를갖는필름형성용조성물, 및주름구조를갖는필름의제조방법에관한것이다. 보다구체적으로, 본발명에따른조성물은광경화제, 및상기광경화제에용해된광개시제를포함할수 있다. 이때, 상기광경화제의컷 오프광투과파장은상기광개시제의컷 오프흡광파장보다크다. 이로써, 본발명에따른조성물은초기광경화시조성물막 상부에광경화박막의형성을유도할수 있다. 이어서, 계속되는광경화로인한막의수축으로인해, 먼저형성된상부광경화박막이주름을형성하여주름구조를갖는필름이형성될수 있다. 필름의주름구조는조성물을구성하는광경화제의컷 오프광투과파장과광개시제의컷 오프흡광파장과의관계, 조성물의광경화속도, 및광 경화전조성물로부터구성된막 두께에의해조절될수 있다. 주름구조를갖는필름은광산란효과에의해 LED, OLED의발광효율을높이고, 필름의표면적의증가로센서의센싱효율을높일수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及具有皱纹结构的膜的制造用组合物及其制造方法。 更具体地,本发明的组合物可以包含溶解在光固化剂中的光固化剂和光引发剂,其中光固化剂的透射截止波长大于光引发剂的吸光度截止波长。 因此,本发明的组合物可以在光固化过程开始时在组合物的顶部诱导形成光固化薄层。 此后,随着光固化过程的继续,光固化薄层在已经形成在其上的光固化薄层上收缩并产生褶皱,从而形成具有皱纹结构的膜。 可以通过光固化剂的透射截止波长与构成组合物的光引发剂的吸光度截止波长,组合物的光固化速率和层的厚度之间的关系来控制膜的皱纹结构 由光固化过程之前的组合物组成。 具有褶皱结构的这种膜可以通过光散射效应提高LED和OLED的发光效率,并且可以通过增加膜的表面积来增加传感器的感测效率。
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公开(公告)号:KR1020160044643A
公开(公告)日:2016-04-26
申请号:KR1020140138915
申请日:2014-10-15
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L51/52
CPC classification number: H01L51/5262
Abstract: 본발명에따른유기발광소자는제1 발광소자, 제1 발광소자상의제2 발광소자를포함할수 있다. 제1 발광소자는차례로적층되는제1 기판, 제1 투명전극, 제1 발광층, 제2 투명전극및 캐핑층을포함할수 있다. 제2 발광소자는제2 기판, 제3 투명전극, 제2 발광층및 반사전극을포함할수 있다. 제1 발광소자는제1 기판또는제1 투명전극상에형성된제1 광추출층을더 포함할수 있다. 제2 발광소자는제2 기판또는제3 투명전극상에형성된제2 광추출층을더 포함할수 있다.
Abstract translation: 根据本发明,有机发光器件可以包括在第一发光器件上的第一发光器件和第二发光器件。 第一发光器件可以包括依次层叠的第一衬底,第一电极,第一发光层,第二透明电极和覆盖层。 第二发光层可以包括第二基板,第三透明电极,第二发光层和反射电极。 第一发光器件还可以包括形成在第一衬底或第一透明电极上的第一光提取层。 第二发光器件还可以包括形成在第二衬底或第三透明电极上的第二光提取层。 本发明的目的是提供具有改进的光提取效率的可变色发光器件。
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公开(公告)号:KR1020160025681A
公开(公告)日:2016-03-09
申请号:KR1020140112399
申请日:2014-08-27
Applicant: 한국전자통신연구원
CPC classification number: H01L51/5268 , G02B5/021 , G02B5/0268
Abstract: 본발명의실시예에따른광산란층의제조방법은기판의제 1 면상에나노구조체를도포하는것, 및상기나노구조체를식각마스크로사용하여상기나노구조체에노출된상기기판을식각하여상기기판의상기제 1 면이리세스되어상기기판의상기제 1 면으로부터돌출된제 1 격벽들을형성하는것을포함한다.
Abstract translation: 根据本发明的实施例,光散射层的制造方法包括:将纳米结构施加到基板的第一表面上的步骤; 以及使用纳米结构作为蚀刻掩模来蚀刻暴露于纳米结构的衬底以允许结构的第一表面凹陷以形成从表面的第一表面突出的第一侧壁的步骤。 本发明的目的是提供一种具有简化制造工艺的光散射层的制造方法。
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19.
公开(公告)号:KR1020140081921A
公开(公告)日:2014-07-02
申请号:KR1020120144284
申请日:2012-12-12
Applicant: 한국전자통신연구원
Inventor: 안준태 , 이정익 , 문제현 , 박승구 , 조남성 , 조두희 , 한준한 , 황주현 , 신진욱 , 임종태 , 주철웅 , 허진우 , 황치선 , 류호준 , 구재본 , 추혜용
CPC classification number: H01L27/3232 , H01L51/5271 , H01L2251/5323
Abstract: A dual-mode display according to one embodiment of the present invention includes a substrate and a plurality of fine pixels. Each fine pixel includes an emissive device, a reflective optical filter which is arranged on one side of the emissive device, and an optical shutter which is arranged on the other side of the emissive device.
Abstract translation: 根据本发明的一个实施例的双模式显示器包括基板和多个精细像素。 每个精细像素包括发射装置,布置在发射装置的一侧上的反射式滤光器和布置在发射装置的另一侧的光学快门。
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公开(公告)号:KR1020130084848A
公开(公告)日:2013-07-26
申请号:KR1020120005744
申请日:2012-01-18
Applicant: 한국전자통신연구원
CPC classification number: H01L51/5268 , B82Y20/00 , H01L51/0096 , H01L2251/105 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , H01L51/5281 , H01L51/5203 , H05B33/10 , H05B33/22
Abstract: PURPOSE: An organic light emitting device and a manufacturing method of the organic light emitting device are provided to improve light extraction by suppressing the reflected light at a boundary surface between a substrate and a first electrode. CONSTITUTION: A substrate (111), a first electrode, an organic light emitting layer (113), and a second electrode are laminated on a light emitting unit (110). A nanostructure (120) includes a first opening (121) randomly distributed between the substrate and the first electrode. The nanostructure includes at least one of polyimide having a refractive index of 1.3 to 1.5, epoxy, polycarbonate, PVC, PVP, polyethylene, polyacryl, and parylene.
Abstract translation: 目的:提供有机发光器件和有机发光器件的制造方法,以通过抑制衬底和第一电极之间的边界面处的反射光来改善光提取。 构成:在发光单元(110)上层压基板(111),第一电极,有机发光层(113)和第二电极。 纳米结构(120)包括随机分布在基板和第一电极之间的第一开口(121)。 纳米结构包括折射率为1.3至1.5的聚酰亚胺中的至少一种,环氧树脂,聚碳酸酯,PVC,PVP,聚乙烯,聚丙烯和聚对二甲苯。
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