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公开(公告)号：KR102160817B1
公开(公告)日：2020-09-28
申请号：KR1020190137856
申请日：2019-10-31
Applicant: 한민구
Inventor： 한민구
IPC: G06F16/29 , G06F16/904 , G01C21/36
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公开(公告)号：KR100298488B1
公开(公告)日：2001-11-30
申请号：KR1019980040336
申请日：1998-09-28
Applicant: 한민구
IPC: H01L21/335
Abstract: 본 발명은 박막 트랜지스터의 활성층 제조 방법 및 그 구조에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 기판 상부에 비정질 실리콘막을 형성한 후, 비정질 실리콘을 다결정 실리콘화시킬 수 있을 정도의 에너지를 가지는 빛을 상기 비정질 실리콘에 국부적으로 조사한다. 그 결과, 상기 비정질 실리콘막에는 국부적으로 에너지가 조사된 다결정 실리콘막이 형성되어 비정질 실리콘과 다결정 실리콘의 중간 특성을 지니는 새로운 구조의 도전막이 형성되는데, 이를 박막 트랜지스터의 활성층으로 이용함으로써 박막 트랜지스터의 전기적 특성을 향상시킬 수 있게 된다.
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公开(公告)号：KR100268064B1
公开(公告)日：2000-10-16
申请号：KR1019980014713
申请日：1998-04-24
Applicant: 한민구
IPC: H01L21/31
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing an active layer for a semiconductor device is provided to form the active layer on the substrate with ease and to improve the electrical property such as electron mobility and uniformity of the layer. CONSTITUTION: The method includes following steps. At the first step, an amorphous silicon layer(4) is formed on the substrate(2). At the second step, an electron beam is illuminated with a predetermined pattern on the upper surface of the amorphous silicon layer. At the third step, the whole surface of the amorphous silicon layer is annealed with a laser beam having predetermined energy density and the amorphous silicon layer is converted to a polysilicon layer having a crystal structure based on the predetermined pattern. The substrate is made of glass or silicon material. The laser beam is generated by an excimer laser illuminating laser at an energy density between 255mJ/cm2 and 370mJ/cm2. The semiconductor substrate is thin film transistor.
Abstract translation: 目的：提供一种制造用于半导体器件的有源层的方法，以便容易地在衬底上形成有源层并改善诸如电子迁移率和层的均匀性的电特性。 规定：该方法包括以下步骤。 在第一步骤中，在衬底（2）上形成非晶硅层（4）。 在第二步骤中，在非晶硅层的上表面上以预定图案照射电子束。 在第三步骤中，非晶硅层的整个表面用具有预定能量密度的激光束进行退火，并且非晶硅层被转换成具有基于预定图案的晶体结构的多晶硅层。 基板由玻璃或硅材料制成。 激光束由能量密度为255mJ / cm 2至370mJ / cm 2的准分子激光照射激光产生。 半导体衬底是薄膜晶体管。
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公开(公告)号：KR1020000018593A
公开(公告)日：2000-04-06
申请号：KR1019980036242
申请日：1998-09-03
Applicant: 한민구
IPC: G02F1/136 , G02F1/133 , G02F1/1343
Abstract: PURPOSE: An interconnection structure of a thin film transistor liquid crystal display is provided to reduce dielectric capacity of interconnection in a region where a gate line is overlapped with a data line. CONSTITUTION: An interconnection structure of a thin film transistor liquid crystal display comprises a gate line, a data line which is overlapped with the gate line and passes the gate line, an interlayer insulating film formed between the gate line and the data line, and an air layer(vacuum layer) formed between the interlayer insulating film and the data line. Thin film transistors are formed at each region where the gate line is overlapped with the data line with a matrix shape.
Abstract translation: 目的：提供薄膜晶体管液晶显示器的互连结构，以减少栅极线与数据线重叠的区域中的互连的介质容量。 构成：薄膜晶体管液晶显示器的互连结构包括栅极线，与栅极线重叠并通过栅极线的数据线，形成在栅极线与数据线之间的层间绝缘膜，以及 在层间绝缘膜和数据线之间形成的空气层（真空层）。 在栅极线与矩阵形状的数据线重叠的每个区域处形成薄膜晶体管。
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公开(公告)号：KR1019990080179A
公开(公告)日：1999-11-05
申请号：KR1019980013244
申请日：1998-04-14
Applicant: 한민구
IPC: H01L29/74
Abstract: 에미터 스위치드 사이리스터의 개선된 구조는, 종래의 에미터 스위치드 사이리스터가 갖는 스냅-백 현상을 최소로 억압하기 위하여, p
- 베이스 확산영역이 세그먼트 구조로 설계되고 각각의 세그먼트 p
- 베이스 확산 영역의 측방향 확산 영역이 서로 연결된다. 그 결과 p
- 베이스의 수평 경로상의 저항이 증가되어 래칭 전류가 종래의 구조에 비해 약 20배 정도로 감소된다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100201919B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019960015106
申请日：1996-05-08
IPC: H01L29/78
Abstract: 1. 청구 범위에 기재된 발명이 속한 기술분야:
표면전계를 감소하여 항복전압특성을 향상시키기 위한 전력 트랜지스터 및 그 제조방법에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제:
표면전계를 감소하여 항복전압특성을 향상시키기 위한 전력 트랜지스터 및 그 제조방법을 제공함에있다.
3. 발명의 해결방법의 요지:
반도체 기판상에 제 1도전형의 반도체 영역과, 상기 반도체 영역의 표면상의 소정영역에 형성된 제 2도전형의 제 1도핑영역과, 상기 제 1도핑영역과 드리프트영역을 통하여 이격된 제 1또는 제 2도전형의 제 2도핑영역과, 상기 제 1도핑영역내의 표면상 채널영역을 갖도록 형성된 제 1도전형의 제 3도핑영역과, 상기 채널영역과 이 영역과 접한 상기 드리프트영역의 일부상에 산화막을 통하여 형성된 게이트층을 가지는 전력 트랜지스터에 있어서, 상기 게이트층이 형성된 산화막은 상기 드리프트영역상에서 상기 채널영역에 인접한 부분으로부터 두꺼워지는 소정양의 경사를 가짐으로써 항복전압이 증가됨을 요지로 한다.
4. 발명의 중요한 용도:
전력 트랜지스터 및 그 제조방법에 적합하다.-
公开(公告)号：KR1019950034827A
公开(公告)日：1995-12-28
申请号：KR1019940011788
申请日：1994-05-28
IPC: H01L29/73
Abstract: 본 발명은 절연게이트 바이폴라 트랜지스터에 관한 것으로, 문턱전압의 변동없이 래치업전류를 높이기 위하여, 래치업에 영향을 미치는 소오스영역 하부의 몸체영역에 상기 몸체보다 고농도의 불순물농도를 갖는 매몰영역을 고에너지의 이온주입으로 형성하여 줌으로써, 래치업이 발생되는 임계치전류가 높아지는 절연게이트 바이폴라 트랜지스터를 제공한다.
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公开(公告)号：KR100820313B1
公开(公告)日：2008-04-08
申请号：KR1020070106413
申请日：2007-10-23
Applicant: 한민구
Inventor： 한민구
CPC classification number: B60P3/20 , F16B35/04 , F25B21/02 , F25D17/06 , F25D23/065 , F25D2201/10 , Y02B40/34
Abstract: A refrigerator box for a van is provided to improve stability of the refrigerator box by securely coupling an under frame of the refrigerator box to a lower frame of the refrigerator box. A refrigerator box for a van comprises a refrigerator installed on a van frame. A side panel(130) is vertically installed along a peripheral portion of a bottom panel and an edge of a roof panel is coupled to an upper portion of the side panel. A door is coupled to rear portions of the bottom panel and the roof panel. A low-temperature maintaining unit(160) is installed at the side panel. The low-temperature maintaining unit includes a thermo-electric module(161) having a heating section inserted into a resting groove formed in an inner panel and a cooling section directed toward an interior of the refrigerator box. A heat-insulation member(134) is interposed between an outer panel(131) and an inner panel(133).
Abstract translation: 提供一种用于货车的冰箱，以通过将冰箱的底架牢固地连接到冰箱的下框架来提高冰箱的稳定性。 用于厢式货车的冰箱包括安装在货车架上的冰箱。 侧面板（130）沿着底板的周边部分垂直地安装，顶板的边缘连接到侧板的上部。 门连接到底板和屋顶板的后部。 在侧面板上安装有低温保持单元（160）。 低温保持单元包括热电模块（161），其具有插入形成在内板中的搁置槽中的加热部和朝向冰箱的内部的冷却部。 绝热构件（134）插入在外板（131）和内板（133）之间。
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