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公开(公告)号：TWI554847B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW103137484
申请日：2014-10-29
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 亨奇 史蒂芬 , HUNSCHE, STEFAN , 凡 可拉吉 馬可斯 傑拉度 馬堤司 瑪麗亞 , VAN KRAAIJ, MARKUS GERARDUS MARTINUS MARIA
CPC classification number: G03F7/70683 , G03F7/213 , G03F7/22 , G03F7/70466 , G03F7/70616 , G03F7/70633
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公开(公告)号：TWI522750B
公开(公告)日：2016-02-21
申请号：TW102136624
申请日：2013-10-09
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 尼梅捷 捷瑞特 喬漢斯 , NIJMEIJER, GERRIT JOHANNES , 克魯瑟 賈斯汀 洛依德 , KREUZER, JUSTIN LLOYD , 卓斯奇衛茲 史坦利 , DRAZKIEWICZ, STANLEY
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70141 , G01B11/14 , G03F9/7069 , G03F9/7088
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公开(公告)号：TWI587102B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW104123449
申请日：2015-07-20
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 克魯瑟 賈斯汀 洛依德 , KREUZER, JUSTIN LLOYD , 提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F9/7065 , G03F9/7069
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公开(公告)号：TWI583917B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW103117390
申请日：2014-05-16
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 班捷恩 法蘭西斯科 哥登法蘭德斯 凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
CPC classification number: G03F7/70483 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/656 , G03F7/70625
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公开(公告)号：TW201610615A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104123449
申请日：2015-07-20
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 克魯瑟 賈斯汀 洛依德 , KREUZER, JUSTIN LLOYD , 提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS
CPC classification number: G03F9/7088 , G03F9/7065 , G03F9/7069
Abstract: 一種用於微影裝置之對準感測器，其經配置及建構以量測微影裝置之可移動部件相對於該微影裝置之靜止部件的對準。對準感測器包含：光源，其經組態以產生處於光學波長及脈衝重複頻率之脈衝串；非線性光學元件，其配置於脈衝串之光學傳播路徑中，非線性光學元件經組態以將處於光學波長之脈衝串變換成在光學波長範圍內之經變換脈衝串；光學成像系統，其經組態以將經變換脈衝串投影至包含繞射光柵之對準標記上；偵測器，其用以偵測如由繞射光柵繞射之繞射圖案；及資料處理器件，其經組態以自如由偵測器偵測之經偵測繞射圖案導出對準資料。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于微影设备之对准传感器，其经配置及建构以量测微影设备之可移动部件相对于该微影设备之静止部件的对准。对准传感器包含：光源，其经组态以产生处于光学波长及脉冲重复频率之脉冲串；非线性光学组件，其配置于脉冲串之光学传播路径中，非线性光学组件经组态以将处于光学波长之脉冲串变换成在光学波长范围内之经变换脉冲串；光学成像系统，其经组态以将经变换脉冲串投影至包含绕射光栅之对准标记上；侦测器，其用以侦测如由绕射光栅绕射之绕射图案；及数据处理器件，其经组态以自如由侦测器侦测之经侦测绕射图案导出对准数据。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201502467A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103117390
申请日：2014-05-16
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 寶賈特 艾瑞克 威廉 , BOGAART, ERIK WILLEM , 班捷恩 法蘭西斯科 哥登法蘭德斯 凱司柏 , BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
CPC classification number: G03F7/70483 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/656 , G03F7/70625
Abstract: 一種基板，其具備元件結構及度量衡結構(800)。該等元件結構包括展現一或多個波長之激發輻射之非彈性散射的材料。該等元件結構包括在一或多個尺寸方面足夠小而使得該非彈性散射之特性受到量子侷限顯著地影響的結構。該等度量衡結構(800)包括在組成物及尺寸方面相似於該等元件特徵之似元件結構(800b)，及校準結構(800a)。該等校準結構在組成物方面相似於該等元件特徵，但在至少一個尺寸方面不同。在使用實施拉曼光譜法之一檢測裝置及方法的情況下，可藉由比較自該似元件結構及該校準結構非彈性地散射之輻射的光譜特徵來量測該等似元件結構之該等尺寸。
Abstract in simplified Chinese: 一种基板，其具备组件结构及度量衡结构(800)。该等组件结构包括展现一或多个波长之激发辐射之非弹性散射的材料。该等组件结构包括在一或多个尺寸方面足够小而使得该非弹性散射之特性受到量子局限显着地影响的结构。该等度量衡结构(800)包括在组成物及尺寸方面相似于该等组件特征之似组件结构(800b)，及校准结构(800a)。该等校准结构在组成物方面相似于该等组件特征，但在至少一个尺寸方面不同。在使用实施拉曼光谱法之一检测设备及方法的情况下，可借由比较自该似组件结构及该校准结构非弹性地散射之辐射的光谱特征来量测该等似组件结构之该等尺寸。
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公开(公告)号：TWI460559B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW101130525
申请日：2012-08-22
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G01B9/02007 , G01B9/02015 , G01B11/0675 , G03F9/7034
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公开(公告)号：TW201441775A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW103110545
申请日：2014-03-20
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
CPC classification number: G03F7/70141 , G01B11/14 , G03F9/7046 , G03F9/7076 , G03F9/7088 , G03F9/7092
Abstract: 一種微影裝置，其包括一對準感測器，該對準感測器包括用於讀取包含一週期性結構之一標記之位置的一自參考干涉計。一照明光學系統將不同色彩及偏振之輻射聚焦成掃描該結構之一光點(406)。在一偵測光學系統中偵測(430A、430B)多個位置相依信號IA(G,R,N,F)、IB(G,R,N,F)，且對其進行處理(PU)以獲得多個候選位置量測。每一標記包含一大小小於該光學系統之一解析度的子結構。每一標記係在該等子結構與較大結構之間存在一位置位移的情況下形成，該位置位移為已知(d1、d2)分量及未知(Δd)分量兩者之一組合。使用來自一對標記(702-1、702-2)之信號連同關於該等已知位移之間的差之資訊來計算至少一標記之一測定位置，以便校正該位置位移之該未知分量。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备，其包括一对准传感器，该对准传感器包括用于读取包含一周期性结构之一标记之位置的一自参考干涉计。一照明光学系统将不同色彩及偏振之辐射聚焦成扫描该结构之一光点(406)。在一侦测光学系统中侦测(430A、430B)多个位置相依信号IA(G,R,N,F)、IB(G,R,N,F)，且对其进行处理(PU)以获得多个候选位置量测。每一标记包含一大小小于该光学系统之一分辨率的子结构。每一标记系在该等子结构与较大结构之间存在一位置位移的情况下形成，该位置位移为已知(d1、d2)分量及未知(Δd)分量两者之一组合。使用来自一对标记(702-1、702-2)之信号连同关于该等已知位移之间的差之信息来计算至少一标记之一测定位置，以便校正该位置位移之该未知分量。
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19.发明专利
公开(公告)号：TW201423286A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102140163
申请日：2013-11-05
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 , TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7069 , G03F9/7088
Abstract: 一種微影裝置，其包括一感測器，諸如，包括一自參考干涉計之一對準感測器，該感測器經組態以判定包含一週期性結構之一對準目標之位置。一照明光學系統將不同色彩及偏振之輻射聚焦成掃描該結構之一光點。偵測及處理多個位置相依信號以獲得多個候選位置量測。一不對稱性感測器接收由該週期性結構繞射之輻射之正階及負階的一份額以產生該週期性結構中之不對稱性之一量測。使用該不對稱性量測以改良由該感測器讀取之該位置之準確度。可藉由比較該多個位置相依信號而獲得關於不對稱性之額外資訊，且將該額外資訊與不對稱性感測器結果進行組合以進一步改良準確度。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备，其包括一传感器，诸如，包括一自参考干涉计之一对准传感器，该传感器经组态以判定包含一周期性结构之一对准目标之位置。一照明光学系统将不同色彩及偏振之辐射聚焦成扫描该结构之一光点。侦测及处理多个位置相依信号以获得多个候选位置量测。一不对称性传感器接收由该周期性结构绕射之辐射之正阶及负阶的一份额以产生该周期性结构中之不对称性之一量测。使用该不对称性量测以改良由该传感器读取之该位置之准确度。可借由比较该多个位置相依信号而获得关于不对称性之额外信息，且将该额外信息与不对称性传感器结果进行组合以进一步改良准确度。
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公开(公告)号：TW201903536A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107117845
申请日：2018-05-25
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 荷蘭基金會科研院所 , STICHTING NEDERLANDSE WETENSCHAPPELIJK ONDERZOEK INSTITUTEN , 荷蘭VU基金會 , STICHTING VU , 荷蘭阿姆斯特丹大學 , UNIVERSITEIT VAN AMSTERDAM
Inventor： 懷特 史堤芬 密卻爾 , WITTE, STEFAN MICHIEL , 強森 吉傑斯伯特 賽門 馬泰斯 , JANSEN, GIJSBERT SIMON MATTHIJS , 費里森 拉爾斯 克里斯汀 , FREISEM, LARS CHRISTIAN , 艾奇瑪 卡傑德 希傑布蘭 艾德華 , EIKEMA, KJELD SIJBRAND EDUARD , 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
Abstract: 一種度量衡裝置(302)包括用於產生(310) EUV輻射之一高階諧波產生(HHG)輻射源。使用包含一孔徑陣列(424、702)之一波前感測器(420)及一影像感測器(426)來監測該HHG源之操作。光柵(706)將穿過各孔徑之輻射分散，使得影像偵測器針對遍及光束之不同光譜分量及不同部位擷取高階繞射的位置及強度。以此方式，該波前感測器可經配置以量測多個諧波在該陣列中之各部位處的一波前傾斜。在一個實施例中，該等孔徑劃分成兩個子集(A)及(B)，各子集之該等光柵(706)具有一不同色散方向。光譜解析的波前資訊(430)被用於回饋控制(432)以穩定化該HGG源之操作，及/或改良度量衡結果之準確度。
Abstract in simplified Chinese: 一种度量衡设备(302)包括用于产生(310) EUV辐射之一高级谐波产生(HHG)辐射源。使用包含一孔径数组(424、702)之一波前传感器(420)及一影像传感器(426)来监测该HHG源之操作。光栅(706)将穿过各孔径之辐射分散，使得影像侦测器针对遍及光束之不同光谱分量及不同部位截取高级绕射的位置及强度。以此方式，该波前传感器可经配置以量测多个谐波在该数组中之各部位处的一波前倾斜。在一个实施例中，该等孔径划分成两个子集(A)及(B)，各子集之该等光栅(706)具有一不同色散方向。光谱解析的波前信息(430)被用于回馈控制(432)以稳定化该HGG源之操作，及/或改良度量衡结果之准确度。
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