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    Heat-sensitive coating compositions based on resorcinyl triazine derivatives
    11.
    发明专利
    Heat-sensitive coating compositions based on resorcinyl triazine derivatives 未知

    公开(公告)号：AU2008225921A1

    公开(公告)日：2008-09-18

    申请号：AU2008225921

    申请日：2008-03-05

    Applicant: BASF SE

    Inventor： FONDEKAR KAMALESH PAI ,  BIRBAUM JEAN-LUC ,  CUNNINGHAM ALLAN FRANCIS ,  EHLIS THOMAS ,  HAYOZ PASCAL

    IPC: C09D5/26 ,  B41M5/333 ,  C07D251/14 ,  C07D251/24 ,  C08K5/3492 ,  C09D7/00

    Abstract: The present invention provides heat-sensitive coating compositions, which comprise a color developer of formula (1) or mixtures thereof wherein R1 can be hydrogen, C1-20-alkyl, C3-8-cycloalkyl, C2-10-alkenyl, aryl or SO3H, and R2 and R3 can be the same or different and can be hydrogen, halogen, C1-20-alkyl, C3-8-cyclo-alkyl, C2-10-alkenyl, aryl, OR6, NR7R8, SR9, SO3H or COOR10 and R4 and R5 can be the same or different, and can be hydrogen, halogen, C1-20-alkyl, C3-8-cyclo-alkyl, C2-10-alkenyl, aryl, OR6, NR7R8 or SR9, R6, R7, R8, R9 and R10 can be the same or different and can be hydrogen, C1-30-alkyl, C3-8-cycloalkyl, C2-10-alkenyl or aryl, wherein C1-20-alkyl can be unsubstituted or substituted with one or more C3-8-cycloalkyl, C2-10-alkenyl, phenyl, halogen, OR11, NR12R13, SR14, SO3H or COOR15, and aryl can be unsubstituted or substituted with one or more halogen, C1-10-alkyl, halogenated C1-10-alkyl, C3-8-cycloalkyl C2-10-alkenyl, phenyl, OR11, NR12R13, SR14, SO3H or COOR15, wherein R11, R12, R13, R14 and R15 can be the same or different and can be hydrogen, C1-10-alkyl, C3-8-cycloalkyl or C2-10-alkenyl, a process for the preparation of these compositions, a process of coating substrates with these compositions, substrates coated with these compositions, a process for preparing marked substrates using these compositions, marked substrates obtainable by the latter process, and certain color developers.

    Verfahren zum Polymerisieren von (hetero)aromatischen Verbindungen
    12.
    发明专利
    Verfahren zum Polymerisieren von (hetero)aromatischen Verbindungen 未知

    公开(公告)号：DE112010002086B4

    公开(公告)日：2020-07-09

    申请号：DE112010002086

    申请日：2010-05-18

    Applicant: BASF SE

    Inventor： LAMATSCH BERND ,  HAYOZ PASCAL ,  DÜGGELI MATHIAS ,  ELBS MARTIN ,  AEBISCHER OLIVER FRÉDÉRIC

    IPC: C08G61/12 ,  C09K11/06 ,  H01B1/00 ,  H01L51/00

    Abstract: Verfahren zum Polymerisieren einer (hetero)aromatischen Verbindung unter Bildung von Aryl-Aryl-C-C- Verknüpfungen, wobei die Verbindung mindestens eine funktionelle Halogenidgruppe und mindestens eine funktionelle Borgruppe aufweist, oder zum Copolymerisieren mindestens einer ersten und mindestens einer zweiten (hetero)aromatischen Verbindung unter Bildung von Aryl-Aryl-C-C-Verknüpfungen, wobei die erste Verbindung mindestens zwei funktionelle Halogenidgruppen aufweist und die zweite Verbindung mindestens zwei funktionelle Borgruppen aufweist, wobei die Polymerisation durchgeführt wird in Gegenwart vona) einem Katalysator/Ligand-System, das einen Palladiumkatalysator und eine organische Phosphin- oder Phosphoniumverbindung umfasst,b) einer Base, die ein Lithiumsalz ist,c) einem Lösungsmittel oder einer Mischung von Lösungsmitteln, dadurch gekennzeichnet, dass das organische Phosphin ein trisubstituiertes Phosphin der Formeloder Phosphoniumsalz davon, ist, wobei X unabhängig von Y ein Stickstoffatom oder eine C-R-Gruppe repräsentiert, und Y unabhängig von X ein Stickstoffatom oder eine C-R-Gruppe repräsentiert, Rfür jede der zwei R-Gruppen unabhängig von der anderen einen Rest repräsentiert, gewählt aus der Gruppe C-C-Alkyl, C-C-Cycloalkyl, C-C-Aryl, C-C-Heteroaryl, worin die Anzahl an aus der Gruppe N, O, S gewählten Heteroatomen 1 bis 2 betragen kann, wobei die zwei Reste Rauch aneinander gebunden sein können, und wobei die oben erwähnten Reste Rselbst jeweils unabhängig voneinander durch Substituenten einfach oder mehrfach substituiert sein können, welche aus der Gruppe Wasserstoff, C-C-Alkyl, C-C-Alkenyl, C-C-Cycloalkyl, C-C-Heteroalkyl, C-C-Aryl, C-C-Heteroaryl, wobei die Anzahl an Heteroatomen aus der Gruppe N, 0, S von 1 bis 4 betragen kann, C-C-Alkoxy, C-C-Halogenalkyl, Hydroxy, Amino der Formen NH-(C-C-Alkyl), NH-(C-C-Aryl), N(C-C-Alkyl), N(C-C-Alkyl) (C-C-aryl), N(C-C-Aryl), N(C-C-Alkyl/C-C-aryl), NH-CO-C-C-Alkyl, NH-CO-C-C-Aryl, Carboxylato der Formen COOH und COOQ (wobei Q entweder für ein einwertiges Kation oder C-C-Alkyl steht), C-C-Acyloxy, Sulfinato, Sulfonato der Formen SOH und SOQ' (wobei Q' entweder für ein einwertiges Kation, C-C-Alkyl oder C-C-Aryl steht), Tri-C-C-alkylsilyl gewählt sind, wobei zwei der erwähnten Substituenten auch miteinander verbrückt sein können, R-Rfür einen Wasserstoff-, Alkyl-, Alkenyl-, Cycloalkyl-, aromatischen oder heteroaromatischen Aryl-, O-Alkyl-, NH-Alkyl-, N-(Alkyl)-, O-(Aryl)-, NH-(Aryl)-, N-(Alkyl)(aryl)-, O-CO-Alkyl-, O-CO-Aryl-, F-, Si(Alkyl)-, CF-, CN-, COH-, COH-, SOH-, CONH-, CONH(Alkyl)-, CON(Alkyl)-, SO(Alkyl)-, SO(Alkyl)-, SO(Aryl)-, SO(Aryl)-, SO(Alkyl)-, SO(Aryl)-, S-Alkyl-, S-Aryl-, NH-CO(Alkyl)-, CO(Alkyl)-, CONH-, CO(Alkyl)-, NHCOH-, NHCO(Alkyl)-, CO(Aryl)-, CO(Aryl)-Rest stehen, wobei zwei oder mehr aneinandergrenzende Reste, jeweils unabhängig von den(dem) anderen, auch aneinander gebunden sein können, so dass ein kondensiertes Ringsystem vorhanden ist, und wobei in Rbis RAlkyl für einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen steht, der in jedem Fall linear oder verzweigt sein kann, Alkenyl für einen einfach oder mehrfach ungesättigten Kohlenwasserstoffrest mit 2 bis 20 Kohlenstoffatomen steht, der in jedem Fall linear oder verzweigt sein kann, Cycloalkyl für einen Kohlenwasserstoff mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen steht, Aryl für einen 5- bis 14-gliedrigen aromatischen Rest steht, wobei ein bis vier Kohlenstoffatome in dem Arylrest auch durch Heteroatome aus der Gruppe Stickstoff, Sauerstoff und Schwefel ersetzt sein können, so dass ein 5- bis 14-gliedriger heteroaromatischer Rest vorhanden ist, wobei die Reste Rbis Rebenfalls weitere Substituenten tragen können, wie für Rdefiniert.

    14.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT473209T

    公开(公告)日：2010-07-15

    申请号：AT06777379

    申请日：2006-06-21

    Applicant: BASF SE

    Inventor： WOLF JEAN-PIERRE ,  LATIKA ATTILA ,  BIRBAUM JEAN-LUC ,  ILG STEPHAN ,  HAYOZ PASCAL

    IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

    Abstract: Compounds of the formula (I), (II), (III), (IV) and wherein, R is hydrogen, C1-C20alkyl; C2-C20alkyl interrupted by one or more O; is -L-X—R2 or -L-R2; R1 has for example one of the meanings as given for R; R2 is a monovalent sensitizer or photoinitiator moiety; Ar1 and Ar2 for example independently of one another are phenyl substituted by C1-C20alkyl, halogen or OR3; or are unsubstituted naphthyl, anthryl, phenanthryl or biphenylyl; or are naphthyl, anthryl, phenanthryl or biphenylyl substituted by C1-C20alkyl, OH or OR3; or are —Ar4-A-Ar3; Ar3 is unsubstituted phenyl naphthyl, anthryl, phenanthryl or biphenylyl; or is phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl or biphenylyl substituted by C1-C20alkyl, OR3 or benzoyl; Ar4 is phenylene, naphthylene, anthrylene or phenanthrylene; A is a direct bond, S, O or C1-C20alkylene; X is CO, C(O)O, OC(O), O, S or NR3; L is C1-C20alkylene or C2-C20alkylene interrupted by one or more O; R3 is C1-C20alkyl or C1-C20hydroxyalkyl; and Y is an anion, are suitable as photolatent acid generators.

    COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO SENSIBLES AL CALOR A BASE DE DERIVADOS DE RESORCINIL TRIAZINA.
    15.
    发明专利
    COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO SENSIBLES AL CALOR A BASE DE DERIVADOS DE RESORCINIL TRIAZINA. 未知

    公开(公告)号：MX2009009394A

    公开(公告)日：2009-09-11

    申请号：MX2009009394

    申请日：2008-03-05

    Applicant: BASF SE

    Inventor： BIRBAUM JEAN-LUC ,  HAYOZ PASCAL ,  CUNNINGHAM ALLAN FRANCIS ,  EHLIS THOMAS ,  FONDEKAR KAMALESH PAI

    IPC: C09D5/26 ,  B41M5/333 ,  C07D251/14 ,  C07D251/24 ,  C08K5/3492 ,  C09D7/00

    Abstract: La presente invención proporciona composiciones de revestimiento termosensibles las cuales contienen un revelador de color de fórmula (I) o mezclas de éste, en donde R1 puede ser hidrógeno, alquilo de C1-20, cicloalquilo de C3-8, alquenilo de C2-10, arilo ó SO3H, y R2 y R3 pueden ser iguales o diferentes y pueden ser hidrógeno, halógeno, alquilo de C2-10, cicloalquilo de C3..8, alquenilo de C2-10, arilo, 0R6, NR7R8, SR9, SO3H ó COOR'°, y R4 y R5 pueden ser iguales o diferentes, y pueden ser hidrógeno, halógeno, alquilo de C,..20, cicloalquilo de C3-8, alquenilo de C2-10, arilo, 0R6., NR7R8 6 SR9, R6, R7, R8, R9 y R'° pueden ser iguales o diferentes y pueden ser hidrógeno, alquilo C3-8, cicloalquilo de C38, alquenilo de C2-10 o arilo, en donde alquilo C2-10 puede estar no sustituido o sustituido con uno o más cicloalquilo de C3-8, alquenilo de C2-10, fenilo, halógeno, OR", NR12R13, SR14, SO3H ó COOR15, y arilo puede estar no sustituido o sustituido con uno o más halógeno, alquilo de el_lo, alquilo de C1-10 halogenado, cicloalquilo de C3-8, alquenilo de C2-10, fenilo, OR", NR12R13, SR'4, SO3H ó COOR'5, en donde R11, R12, R13, R14 y R15 pueden ser iguales o diferentes, y pueden ser hidrógeno, alquilo de el_lo, cicloalquilo de C3-8 6 alquenilo de C2-10, un proceso para la preparación de estas composiciones, un proceso de revestimiento de sustratos con estas composiciones, los sustratos revestidos con estas composiciones, un proceso para preparar sustratos marcados utilizando estas composiciones, sustratos marcados que pueden obtenerse por el proceso anterior y ciertos reveladores de color.

    17.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：BRPI0808446A2

    公开(公告)日：2014-08-05

    申请号：BRPI0808446

    申请日：2008-03-05

    Applicant: BASF SE

    Inventor： CUNNINGHAM ALLAN FRANCIS ,  EHLIS THOMAS ,  BIRBAUM JEAN-LUC ,  HAYOZ PASCAL ,  FONDEKAR KAMALESH PAI

    IPC: C09D5/26 ,  B41M5/333 ,  C07D251/14 ,  C07D251/24 ,  C08K5/3492 ,  C09D7/00

    Abstract: The present invention provides heat-sensitive coating compositions, which comprise a color developer of formula (1) or mixtures thereof wherein R1 can be hydrogen, C1-20-alkyl, C3-8-cycloalkyl, C2-10-alkenyl, aryl or SO3H, and R2 and R3 can be the same or different and can be hydrogen, halogen, C1-20-alkyl, C3-8-cyclo-alkyl, C2-10-alkenyl, aryl, OR6, NR7R8, SR9, SO3H or COOR10 and R4 and R5 can be the same or different, and can be hydrogen, halogen, C1-20-alkyl, C3-8-cyclo-alkyl, C2-10-alkenyl, aryl, OR6, NR7R8 or SR9, R6, R7, R8, R9 and R10 can be the same or different and can be hydrogen, C1-30-alkyl, C3-8-cycloalkyl, C2-10-alkenyl or aryl, wherein C1-20-alkyl can be unsubstituted or substituted with one or more C3-8-cycloalkyl, C2-10-alkenyl, phenyl, halogen, OR11, NR12R13, SR14, SO3H or COOR15, and aryl can be unsubstituted or substituted with one or more halogen, C1-10-alkyl, halogenated C1-10-alkyl, C3-8-cycloalkyl C2-10-alkenyl, phenyl, OR11, NR12R13, SR14, SO3H or COOR15, wherein R11, R12, R13, R14 and R15 can be the same or different and can be hydrogen, C1-10-alkyl, C3-8-cycloalkyl or C2-10-alkenyl, a process for the preparation of these compositions, a process of coating substrates with these compositions, substrates coated with these compositions, a process for preparing marked substrates using these compositions, marked substrates obtainable by the latter process, and certain color developers.

    19.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：AT554065T

    公开(公告)日：2012-05-15

    申请号：AT07820481

    申请日：2007-09-24

    Applicant: BASF SE

    Inventor： HAYOZ PASCAL ,  BIRBAUM JEAN-LUC ,  ILG STEPHAN

    IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

    Abstract: Compounds of the formula (I), wherein L1, L2, L3 and L4 independently of one another are hydrogen or an organic substituent; R is for example C1-C20alkyl, C5-C12cycloalkyl, C2-C20alkenyl, substituted C1-C20alkyl; X is O, S, NRa or NCORa; Ra is for example hydrogen or C1-C20alkyl; and Y is an inorganic or organic anion; are suitable as photolatent acid generators.

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