Abstract:
Eine Ausführungsform der Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements, umfassend die Verfahrensschritte: A) Bereitstellen eines Aufwachssubstrates (1), B) Epitaktisches Aufwachsen zumindest einer Halbleiterschicht (2) zur Erzeugung einer im Betrieb aktiven Zone, C) Aufbringen einer metallischen Spiegelschicht (3) auf die Halbleiterschicht (2), D) Aufbringen zumindest einer Kontaktschicht (8) zur elektronischen Kontaktierung des Bauelements, E) Abtrennen des Aufwachssubstrates (1) von der Halbleiterschicht (2), wobei eine Oberfläche der Halbleiterschicht (2) freigelegt wird, F) Strukturieren der Halbleiterschicht (2) mittels eines Ätzverfahrens von Seiten der Oberfläche, die in Verfahrenschritt E) freigelegt wurde.
Abstract:
Die Erfindung beschreibt ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements, insbesondere eines Dünnschichtbauelements, wobei eine Halbleiterschicht durch Bestrahlung mit einem Laserstrahl, der ein plateauartiges räumliches Strahlprofil aufweist, von einem Substrat getrennt wird. Weiterhin wird die Halbleiterschicht vor der Trennung auf einen Träger mit einem angepaßten thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufgebracht. Die Erfindung eignet sich insbesondere für Halbleiterschichten, die einen Nitridverbindungshalbleiter enthalten.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst das Ringlichtmodul (1) mehrere lichtemittierende, optoelektronische Halbleiterbauteile (2), die je eine Hauptemissionsrichtung (20) aufweisen. Das Ringlichtmodul (1) beinhaltet einen Reflektor (3), der eine gekrümmte Reflexionsfläche aufweist (30). Es sind die Halbleiterbauteile (2) an einem Träger (4) angebracht. Die Halbleiterbauteile (2) sind, in Draufsicht auf die Reflexionsfläche (30) gesehen, entlang einer Anordnungslinie (42) ringförmig um die Reflexionsfläche (42) herum angeordnet. In einem Zentrum (44) weist der Reflektor (3) eine maximale Höhe auf, bezogen auf eine Bodenseite (40) des Ringlichtmoduls (1). Das Zentrum (44) befindet sich in einer geometrischen Mitte einer von der Anordnungslinie (42) umschlossenen Innenfläche. In Draufsicht auf die Reflexionsfläche (30) gesehen, weisen die Hauptemissionsrichtungen (20), mit einer Toleranz von höchstens 15°, je zu dem Zentrum (44) hin. Entlang der Anordnungslinie (42) sind die Halbleiterbauteile (2) dicht angeordnet.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, umfassend eine Halbleiterschichtenfolge (20), die mindestens zwei übereinander angeordnete aktive Bereiche (21, 22) aufweist, wobei die aktiven Bereiche (21, 22) jeweils einen ersten Halbleiterbereich (3) eines ersten Leitungstyps, einen zweiten Halbleiterbereich (5) eines zweiten Leitungstyps und eine zwischen dem ersten Halbleiterbereich (3) und dem zweiten Halbleiterbereich (5) angeordnete strahlungsemittierende aktive Schicht (4) aufweisen. Der optoelektronische Halbleiterchip (10) weist eine Spiegelschicht (6) auf, welche an einer von einer Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Halbleiterschichtenfolge (20) angeordnet ist, und mindestens zwei elektrische Kontakte (11, 12), welche an einer von der Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Spiegelschicht (6) angeordnet sind. Weiterhin wird eine Lichtquelle (30) mit dem optoelektronischen Halbleiterchip (10) angegeben. Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, umfassend eine Halbleiterschichtenfolge (20), die mindestens zwei übereinander angeordnete aktive Bereiche (21, 22) aufweist, wobei die aktiven Bereiche (21, 22) jeweils einen ersten Halbleiterbereich (3) eines ersten Leitungstyps, einen zweiten Halbleiterbereich (5) eines zweiten Leitungstyps und eine zwischen dem ersten Halbleiterbereich (3) und dem zweiten Halbleiterbereich (5) angeordnete strahlungsemittierende aktive Schicht (4) aufweisen. Der optoelektronische Halbleiterchip (10) weist eine Spiegelschicht (6) auf, welche an einer von einer Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Halbleiterschichtenfolge (20) angeordnet ist, und mindestens zwei elektrische Kontakte (11, 12), welche an einer von der Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Spiegelschicht (6) angeordnet sind. Weiterhin wird eine Lichtquelle (30) mit dem optoelektronischen Halbleiterchip (10) angegeben.
Abstract:
Es wird eine Flächenlichtquelle mit einer Leuchtfläche (6) angegeben, die mindestens einen Halbleiterkörper (2), der im Betrieb elektromagnetische Strahlung von seiner Vorderseite (3) emittiert, umfasst und weiterhin Auskoppelstrukturen (7) aufweist, die dazu geeignet sind, eine lokale Änderung der Leuchtdichte auf der Leuchtfläche (6) zu erzeugen, so dass die Leuchtdichte (6) in zumindest einem Leuchtbereich (8) gegenüber einem Hintergrundbereich (9) erhöht ist.
Abstract:
Zur Herstellung von Halbleiterchips (1) in Dünnfilmtechnik wird eine aktive Schichtenfolge auf einem Wachstumssubstrat (3) aufgebracht auf der anschließend eine strukturierte reflektierende elektrisch leitfähige Kontaktmaterialschicht (4) ausgebildet wird. Dann wird die aktive Schichtenfolge zu aktiven Schichtstapeln (2) strukturiert, so dass sich auf jedem aktiven Schichtstapel (2) eine reflektierende elektrisch leitfähige Kontaktmaterialschicht (4) befindet. Anschließend wird als Hilfsträgerschicht eine flexible elektrisch leitfähige Folie (6) auf die Kontaktmaterialschichten (4) aufgebracht und das Wachstumssubstrat entfernt.
Abstract:
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Mikrostrukturierung einer strahlungsemittierenden Fläche einer Halbleiterschichtfolge für einen Dünnschicht-Leuchtdiodenchip, mit folgenden Verfahrensschritten: a) Aufwachsen der Halbleiterschichtfolge auf einem Substrat; b) Ausbilden oder Aufbringen einer Spiegelschicht (7) auf der Halbleiterschichtfolge, die zumindest einen Teil einer in der Halbleiterschichtfolge bei deren Betrieb erzeugten und zur Spiegelschicht hin gerichteten Strahlung in die Halbleiterschichtfolge zurückreflektiert; c) Trennen der Halbleiterschichtfolge vom Substrat mittels eines Abhebe-Verfahrens, bei dem eine Trennzone in der Halbleiterschichtfolge zumindest teilweise zersetzt wird, derart, dass an der Trennfläche der Halbleiterschichtfolge, von der das Substrat abgetrennt ist, anisotrop Rückstände (20) eines Bestandteils der Trennzone, insbesondere eines metallischen Bestandteils der Trennschicht verbleiben; und d) Ätzen der mit den Rückständen versehenen Trennfläche der Halbleiterschichtfolge, bei dem die anisotropen Rückstände zumindest temporär als Ätzmaske verwendet werden.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements, bei dem eine Halbleiterschicht (2) von einem Substrat (1) durch Bestrahlen mit Laserimpulsen getrennt wird, wobei die Impulsdauer der Laserimpulse kleiner oder gleich 10 ns ist. Die Laserimpulse weisen ein räumliches Strahlprofil auf, dessen Flankensteilheit so gering gewählt ist, dass bei der Trennung von Halbleiterschicht (2) und Substrat (1) Risse in der Halbleiterschicht (2), die durch thermisch induzierte laterale Verspannungen entstehen, vermieden werden.
Abstract:
The invention relates to a light emitting diode assembly (1) having a first light emitting diode chip (2), a second light emitting diode chip (3) and a light emission conversion element (4, 4a, 4b). The first light emitting diode chip (2) is designed to emit blue light. The second light emitting diode chip (3) comprises a semiconductor layer sequence, which is designed to emit green light. The light emission conversion element (4, 4a, 4b) is designed to convert a part of the blue light emitted by the first light emitting diode chip (2) to red light. The light emitting diode assembly (1) is designed to radiate mixed light which comprises blue light from the first light emitting diode chip (2), green light from the second light emitting diode chip (3) and red light from the light emission conversion element (4). The invention also relates to a backlighting device (10) and to a display device.