Abstract:
Es wird ein elektronisches Bauteil angegeben, mit - einer ersten Kontaktstelle (11) zur n-seitigen Kontaktierung, - einer zweiten Kontaktstelle (12) zur p-seitigen Kontaktierung, und - einer Schutzdiode (20), die zur ersten Kontaktstelle (11) und zur zweiten Kontaktstelle (12) antiparallel verschaltet ist, wobei - die Schutzdiode (20) eine erste Diodenstruktur (21) umfasst, die p-leitend ist, - die Schutzdiode (20) eine zweite Diodenstruktur (22) umfasst, die n-leitend ist, - die erste Diodenstruktur (21) als Schicht ausgebildet ist, die stellenweise mit der ersten Kontaktstelle (11) in einem ersten Überlappungsbereich (71) überlappt, - die zweite Diodenstruktur (22) als Schicht ausgebildet ist, die stellenweise mit der zweiten Kontaktstelle (12) in einem zweiten Überlappungsbereich (72) überlappt, und - die erste Diodenstruktur (21) und die zweite Diodenstruktur (22) in einem dritten Überlappungsbereich (73) miteinander überlappen.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl optoelektronischer Bauelemente mit den folgenden Schritten angegeben: - Bereitstellen eines Hilfsträgerwafers (1) mit Kontaktstrukturen (4), wobei der Hilfsträgerwafer Glas, Saphir oder ein Halbleitermaterial aufweist, - Aufbringen einer Vielzahl an strahlungsemittierenden Halbleiterkörpern (5) auf die Kontaktstrukturen (4), - Verkapseln zumindest der Kontaktstrukturen (4) mit einem Verguss (10), und - Entfernen des Hilfsträgerwafers (1). Weiterhin wird ein optoelektronisches Bauelement angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement, das einen zur Lichterzeugung ausgestalteter Halbleiterkörper (10) mit einer Lichtaustrittsfläche umfasst. An dieser grenzt eine Primärlinse (20) an. Weiterhin sind wenigstens zwei Blockierelemente (12, 13) vorgesehen, insbesondere als Bonddrahtelemente ausgebildet, welche an zwei unterschiedlichen Teilbereichen der Primärlinse (20) anliegen und/oder durch diese teilweise hindurchragen und in Form und/oder Anordnung ausgestaltet sind, eine Ausdehnung der Primärlinse durch dessen Oberflächenspannung in einer durch die Anordnung der Blockierelemente abhängigen Form zu begrenzen.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl strahlungsemittierender Halbleiterbauelemente mit den folgenden Schritten angegeben: - Bereitstellen eines Hilfsträgers (1, 1`), - Aufbringen einer Vielzahl strahlungsemittierender Halbleiterchips (2) auf den Hilfsträger (1, 1`) mit ihren Rückseite, - Aufbringen einer ersten Vergussmasse (8), so dass ein Halbleiterchipverbund entsteht, und - Trennen des Halbleiterchipverbunds jeweils zwischen zwei Halbleiterchips (2) mittels Sägen, wobei der Hilfsträger (1,1`) nicht durchtrennt wird, so dass zumindest auf Seitenflächen der Halbleiterchips (2) jeweils eine Schicht der ersten Vergussmasse (8) entsteht. Außerdem werden ein weiteres Verfahren und eine strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement angegeben.
Abstract:
Es wird ein Halbleiterbauelement (100) angegeben, das zumindest einen Halbleiterchip (1) aufweist, der eine Strahlungsdurchtrittsfläche (10) und eine der Strahlungsdurchtrittsfläche (10) gegenüberliegende Montagefläche (11) aufweist. Die Montagefläche (11) weist eine erste elektrische Kontaktstruktur (2a) und eine von der ersten elektrischen Kontaktstruktur elektrisch isolierte zweite elektrische Kontaktstruktur (2b) auf. Die Strahlungsdurchtrittsfläche (10) ist frei von Kontaktstrukturen. Eine reflektierende Umhüllung, die den Halbleiterchip (1) bereichsweise umhüllt, und eine Schutzumhüllung (8), die den Halbleiterchip (1) und/oder die reflektierende Umhüllung (5) zumindest bereichsweise umhüllt, sind vorgesehen. Zudem ist eine Anordnung mit einer Mehrzahl derartiger Halbleiterbauelemente (100) angegeben.
Abstract:
Es wird ein Filament (10) mit einem strahlungsdurchlässigen Substrat (1), einer Mehrzahl von Licht emittierenden Dioden (LEDs) und einer Konverterschicht (3) angegeben, wobei die LEDs (2) auf dem Substrat angeordnet sind und die Konverterschicht die LEDs und das Substrat bedeckt, wobei die Konverterschicht auf einer Oberseite (11) des Substrats eine erste Teilschicht (31) und auf einer Unterseite (12) des Substrats eine zweite Teilschicht (32) aufweist, und wobei die Konverterschicht zur Erzielung eines verbesserten Abstrahlprofils des Filaments derart eingerichtet ist, dass: die Konverterschicht (3) eine variierende vertikale Schichtdicke (D) entlang einer lateralen Richtung aufweist, und/oder sich die erste Teilschicht (31) und die zweite Teilschicht (32) hinsichtlich deren Geometrie und/oder deren Materialzusammensetzung voneinander unterscheiden. Des Weiteren werden ein Leuchtmittel (100) mit solchen Filamenten (10) und ein Verfahren zur Herstellung zumindest eines solchen Filaments angegeben.
Abstract:
In einer Ausführungsform dient das Verfahren zur Herstellung von Leuchtdiodenfilamenten (10) und umfasst die Schritte: A) Aufbringen von Leuchtdiodenchips (3) direkt auf einen ersten Träger (1), B) Abdecken der Leuchtdiodenchips (3) mit einem zweiten Träger (2), C) Umspritzen der Leuchtdiodenchips (3) mit einem Vergusskörper (4) zu einem zusammenhängenden Filamentverbund (40), wobei die beiden Träger (1, 2) als Gussformen dienen und wobei der Vergusskörper (4) direkt an die Leuchtdiodenchips (3) angeformt wird, D) Entfernen des ersten Trägers (1) oder des zweiten Trägers (2) oder von beiden Trägern (1, 2), E) Anbringen von elektrischen Verbindungen (5) an den Vergusskörper (4) und zwischen den Leuchtdiodenchips (3), sodass die Leuchtdiodenchips (3) elektrisch verschaltet werden, und F) Vereinzeln des Filamentverbunds (40) zu den Leuchtdiodenfilamenten (10), wobei jedes der fertigen Leuchtdiodenfilamente (10) mechanisch selbsttragend ist, mindestens acht der Leuchtdiodenchips (3) umfasst und ein Verhältnis aus Länge zu Breite von mindestens 15 aufweist.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, umfassend : - eine Halbleiterschichtenfolge (20) mit einem ersten Halbleiterbereich (3) eines ersten Leitungstyps, einem zweiten Halbleiterbereich (5) eines zweiten Leitungstyps und einer zwischen dem ersten Halbleiterbereich (3) und dem zweiten Halbleiterbereich (5) angeordneten strahlungsemittierenden aktiven Schicht (4), - eine Strahlungsaustrittsfläche (13), - eine Spiegelschicht (6), welche an einer von der Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Halbleiterschichtenfolge (20) angeordnet ist, - einen ersten und einen zweiten elektrischen Kontakt (11, 12), wobei mindestens einer der elektrischen Kontakte (11, 12) ein Rückseitenkontakt ist, der an einer von der Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Rückseite des Halbleiterchips (10) angeordnet ist, und - mindestens eine thermische Anschlussschicht (9), welche an der Rückseite des Halbleiterchips (10) angeordnet ist, wobei die thermische Anschlussschicht (9) elektrisch von der Halbleiterschichtenfolge (20) isoliert ist.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, umfassend eine Halbleiterschichtenfolge (20), die mindestens zwei übereinander angeordnete aktive Bereiche (21, 22) aufweist, wobei die aktiven Bereiche (21, 22) jeweils einen ersten Halbleiterbereich (3) eines ersten Leitungstyps, einen zweiten Halbleiterbereich (5) eines zweiten Leitungstyps und eine zwischen dem ersten Halbleiterbereich (3) und dem zweiten Halbleiterbereich (5) angeordnete strahlungsemittierende aktive Schicht (4) aufweisen. Der optoelektronische Halbleiterchip (10) weist eine Spiegelschicht (6) auf, welche an einer von einer Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Halbleiterschichtenfolge (20) angeordnet ist, und mindestens zwei elektrische Kontakte (11, 12), welche an einer von der Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Spiegelschicht (6) angeordnet sind. Weiterhin wird eine Lichtquelle (30) mit dem optoelektronischen Halbleiterchip (10) angegeben. Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) angegeben, umfassend eine Halbleiterschichtenfolge (20), die mindestens zwei übereinander angeordnete aktive Bereiche (21, 22) aufweist, wobei die aktiven Bereiche (21, 22) jeweils einen ersten Halbleiterbereich (3) eines ersten Leitungstyps, einen zweiten Halbleiterbereich (5) eines zweiten Leitungstyps und eine zwischen dem ersten Halbleiterbereich (3) und dem zweiten Halbleiterbereich (5) angeordnete strahlungsemittierende aktive Schicht (4) aufweisen. Der optoelektronische Halbleiterchip (10) weist eine Spiegelschicht (6) auf, welche an einer von einer Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Halbleiterschichtenfolge (20) angeordnet ist, und mindestens zwei elektrische Kontakte (11, 12), welche an einer von der Strahlungsaustrittsfläche (13) abgewandten Seite der Spiegelschicht (6) angeordnet sind. Weiterhin wird eine Lichtquelle (30) mit dem optoelektronischen Halbleiterchip (10) angegeben.
Abstract:
In einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen (1) eingerichtet und umfasst die Schritte: Bereitstellen eines Leiterrahmenverbunds (20) mit einer Vielzahl von Leiterrahmen (2) mit je mindestens zwei Leiterrahmenteilen (21, 22); Umformen mindestens eines Teils des Leiterrahmenverbunds (20) mit einem Gehäusematerial für Gehäusekörper (4); Unterbrechen des Leiterrahmenverbunds (20) zwischen zumindest eines Teils von Spalten (C) und/oder Zeilen (R), wobei die Leiterrahmen (2) matrixförmig angeordnet bleiben; Bestücken der Leiterrahmen (2) mit mindestens einem optoelektronischen Halbleiterchip (3); Testen mindestens eines Teils der mit den Halbleiterchips (3) bestückten und mit dem Gehäusematerial umformten Leiterrahmen (2) nach dem Schritt des Unterbrechens; und Vereinzeln zu den Halbleiterbauteilen (1) nach dem Schritt des Umformens und nach dem Schritt des Testens.