STRAHLUNGSEMITTIERENDES BAUELEMENT
    12.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2018189237A1

    公开(公告)日:2018-10-18

    申请号:PCT/EP2018/059280

    申请日:2018-04-11

    Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein strahlungsemittierendes Bauelement. Das strahlungsemittierende Bauelement weist einen Träger, einen auf einer Vorderseite des Trägers angeordneten strahlungsemittierenden Halbleiterchip und einen den Halbleiterchip umgebenden Konverter zur Strahlungskonversion auf. Der Halbleiterchip ist ein zur allseitigen Strahlungsemission ausgebildeter Volumenemitter. Der Halbleiterchip ist an einer dem Träger zugewandten Rückseite mit Hilfe von metallischen Kontaktelementen mit dem Träger elektrisch verbunden. Die Kontaktelemente dienen als Abstandshalter, so dass ein Zwischenraum zwischen der Rückseite des Halbleiterchips und der Vorderseite des Trägers vorliegt. Der Konverter umgibt den Halbleiterchip allseitig und ist in dem Zwischenraumzwischen dem Halbleiterchip und dem Trägerangeordnet. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein Verfahren zum Herstellen eines strahlungsemittierenden Bauelements.

    BAUTEIL MIT EINEM OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENT

    公开(公告)号:WO2018095908A1

    公开(公告)日:2018-05-31

    申请号:PCT/EP2017/079923

    申请日:2017-11-21

    Inventor: TANGRING, Ivar

    CPC classification number: H01L33/505 H01L33/50 H01L33/60

    Abstract: Es wird ein Bauteil mit einem optoelektronischen Bauelement vorgeschlagen, wobei das Bauelement ausgebildet ist, um eine elektromagnetische Strahlung zu erzeugen, wobei das Bauelement die Strahlung über eine obere Abstrahlseite und seitliche Abstrahlseiten abgibt, wobei über der oberen Abstrahlseite eine obere Konversionsschicht vorgesehen ist, wobei seitlich neben den seitlichen Abstrahlseiten seitliche Konversionsschichten vorgesehen sind, wobei die Konversionsschichten ausgebildet sind, um die Strahlung in der Wellenlänge wenigstens teilweise zu verschieben, wobei seitlich neben den seitlichen Konversionsschichten seitliche Streuschichten vorgesehen sind, wobei über der oberen Konversionssicht eine obere Streuschicht vorgesehen ist, wobei die obere Streuschicht eine Abstrahlöffnung aufweist, wobei die Abstrahlöffnung über der oberen Abstrahlseite angeordnet ist.

    BAUTEIL MIT EINEM LICHTEMITTIERENDEN BAUELEMENT
    14.
    发明申请
    BAUTEIL MIT EINEM LICHTEMITTIERENDEN BAUELEMENT 审中-公开
    具有发光组件的组件

    公开(公告)号:WO2018024824A1

    公开(公告)日:2018-02-08

    申请号:PCT/EP2017/069646

    申请日:2017-08-03

    CPC classification number: H01L33/50 H01L33/52 H01L33/54 H01L33/64

    Abstract: Es wird ein Bauteil (9) mit einem lichtemittierenden Bauelement (1) vorgeschlagen, wobei das Bauelement (1) ausgebildet ist, um elektromagnetische Strahlung zu erzeugen, mit einer Konversionsschicht (2), wobei die Konversionsschicht (2) ausgebildet ist, umeine Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung des Bauelementes (1) wenigstens teilweise zu konvertieren, wobei die Konversionsschicht (2) über einer lichtemittierenden Seite (3) des Bauelementes (1) angeordnet ist, wobei eine für elektromagnetische Strahlung transparente Platte (7) über der Konversionsschicht (2) angeordnet ist, wobei die Platte (7) eine Einstrahlfläche (16) und eine Ausstrahlfläche (17) für elektromagnetische Strahlung aufweist, wobei die Einstrahlfläche (16) der Platte (7) der Konversionsschicht (2) angeordnet ist.

    Abstract translation:

    本发明涉及一种部件(9),其具有发光器件(1),其中所述组分(1)被适配为产生电磁辐射,具有转换层(2),其中所述转换层( 2形成),该部件的电磁辐射的umeine波长BEAR长度(1)至少部分地转换,其中所述转换层上的光出射侧(3)的组分(1)的布置(2),其中A F导航用途ř 电磁辐射透明板(7)在所述转换层(2)的布置,所述板(7)Einstrahlfl BEAR的r电磁辐射,其中,所述Einstrahlfl BEAR表面(16)和一个Ausstrahlfl BEAR表面(17),用于导航使用 转换层(2)的板(7)的金属(16)。

    STRAHLUNGSEMITTIERENDER HALBLEITERCHIP
    15.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2021244982A1

    公开(公告)日:2021-12-09

    申请号:PCT/EP2021/064413

    申请日:2021-05-28

    Inventor: TANGRING, Ivar

    Abstract: Es wird ein strahlungsemittierender Halbleiterchip (1) angegeben, mit - einer ersten Halbleiterschichtenfolge (2), - einer zweiten Halbleiterschichtenfolge (3), die auf der ersten Halbleiterschichtenfolge (2) angeordnet ist, - einer ersten Kontaktstruktur (5), die zur Injektion von Ladungsträgern in die erste Halbleiterschichtenfolge (2) ausgebildet ist, und - einer Kontaktschichtenfolge (7), die zur Injektion von Ladungsträgern in die zweite Halbleiterschichtenfolge (3) ausgebildet ist, wobei - die erste Kontaktstruktur (5) und die Kontaktschichtenfolge (7) in lateralen Richtungen in Draufsicht überlappungsfrei ausgebildet sind, und - die Kontaktschichtenfolge (7) einen Schichtwiderstand aufweist, der sich in Richtung der ersten Kontaktstruktur (5) vergrößert.

    LICHT EMITTIERENDES HALBLEITERBAUELEMENT, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES LICHT EMITTIERENDEN HALBLEITERBAUELEMENTS UND VERWENDUNG DES LICHT EMITTIERENDEN HALBLEITERBAUELEMENTS

    公开(公告)号:WO2020193233A1

    公开(公告)日:2020-10-01

    申请号:PCT/EP2020/056914

    申请日:2020-03-13

    Inventor: TANGRING, Ivar

    Abstract: Es wird ein Licht emittierendes Halbleiterbauelement (101) angegeben, das einen Licht emittierenden Halbleiterchip (100) mit einer Halbleiterschichtenfolge (1) mit einer Lichtauskoppelfläche (10) und einer dielektrischen Auskoppelschicht (2) unmittelbar auf der Lichtauskoppelfläche und ein Abdeckmaterial (3) mit einem transparenten Kunststoff auf der Auskoppelschicht aufweist, wobei der transparente Kunststoff einen temperaturabhängigen ersten Brechungsindex und die Auskoppelschicht einen zweiten Brechungsindex aufweist, wobei bei Raumtemperatur der erste Brechungsindex größer als der zweite Brechungsindex ist und wobei eine Differenz zwischen dem ersten Brechungsindex und dem zweiten Brechungsindex bei Raumtemperatur größer ist als bei einer maximalen Betriebstemperatur. Weiterhin werden ein Verfahren zur Herstellung des Licht emittierenden Halbleiterbauelements und eine Verwendung des Licht emittierenden Halbleiterbauelements angegeben.

    OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUELEMENT MIT ISOLIERENDER SCHICHT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERBAUELEMENTS

    公开(公告)号:WO2020187815A1

    公开(公告)日:2020-09-24

    申请号:PCT/EP2020/057033

    申请日:2020-03-16

    Abstract: Ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (10) umfasst eine erste Halbleiterschicht (110) von einem ersten Leitfähigkeitstyp und eine zweite Halbleiterschicht (120) von einem zweiten Leitfähigkeitstyp. Das optoelektronische Halbleiterbauelement (10) umfasst ferner eine erste Kontaktschicht (130), die in direktem Kontakt mit der ersten Halbleiterschicht (110) angeordnet ist und elektrisch leitfähig ist, und eine erste isolierende Schicht (125), die über der ersten und der zweiten Halbleiterschicht (110, 120) ausgebildet ist, sowie eine zweite Stromaufweitungsstruktur (135), die mit der zweiten Halbleiterschicht (120) elektrisch verbunden ist. Eine maximale laterale Ausdehnung der zweiten Halbleiterschicht (120) ist größer als die maximale laterale Ausdehnung der ersten Halbleiterschicht (110), so dass eine Stufenstruktur ausgebildet ist und die erste isolierende Schicht (125) als konforme Schicht über der Stufenstruktur der ersten und der zweiten Halbleiterschicht ausgebildet ist. Das optoelektronische Halbleiterbauelement umfasst ferner eine zweite isolierende Schicht (127) zwischen einer horizontalen Oberfläche der ersten Kontaktschicht (130) und der zweiten Stromaufweitungsstruktur (135). Eine Schichtdicke der zweiten isolierenden Schicht (127) ist kleiner als die kleinste Schichtdicke der ersten isolierenden Schicht (125) über der Stufenstruktur.

    VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS

    公开(公告)号:WO2020115010A1

    公开(公告)日:2020-06-11

    申请号:PCT/EP2019/083406

    申请日:2019-12-03

    Abstract: Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Trägers mit einer über einer Oberseite des Trägers angeordneten optoelektronischen Halbleiterchipkomponente, zum Anordnen eines ersten Vergussmaterials über der Oberseite des Trägers, zum Anordnen eines zweiten Vergussmaterials über dem ersten Vergussmaterial, wobei das zweite Vergussmaterial eine höhere Dichte aufweist als das erste Vergussmaterial, und zum Einwirkenlassen einer Kraft auf das erste Vergussmaterial und das zweite Vergussmaterial derart, dass das zweite Vergussmaterial in Richtung zur Oberseite des Trägers wandert.

    HERSTELLUNG VON STRAHLUNGSEMITTIERENDEN HALBLEITERBAUELEMENTEN
    20.
    发明申请
    HERSTELLUNG VON STRAHLUNGSEMITTIERENDEN HALBLEITERBAUELEMENTEN 审中-公开
    辐射发射半导体元件的制备

    公开(公告)号:WO2018083187A1

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:PCT/EP2017/078080

    申请日:2017-11-02

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer Leuchtstoff enthaltenden Konversionsschicht und ein Anordnen von Strahlungsemittierenden Halbleiterchips auf der Konversionsschicht. Die Halbleiterchips werden mit einer Vorderseite auf der Konversionsschicht angeordnet. Die Halbleiterchips weisen Kontakte an einer Rückseite auf. Ein weiterer Schritt des Verfahrens ist ein Verdicken der Konversionsschicht neben und zwischen den Halbleiterchips durch Aufbringen einer Leuchtstoff enthaltenden Füllmasse. Die verdickte Konversionsschicht grenzt an die Vorderseite und an Seitenflächen der Halbleiterchips an. Das Verfahren umfasst ferner ein Ausbilden einer reflektiven Schicht auf der Konversionsschicht und auf den Halbleiterchips im Bereich der Rückseite der Halbleiterchips, wobei eine rückseitige Oberfläche der Kontakte der Halbleiterchips unbedeckt bleibt. Des Weiteren werden die reflektive Schicht und die Konversionsschicht durchtrennt, um vereinzelte Halbleiterbauelemente zu bilden, welche einen einzelnen Halbleiterchip, einen auf der Vorderseite und auf den Seitenflächen des Halbleiterchips angeordneten Teil der Konversionsschicht und einen im Bereich der Rückseite auf dem Halbleiterchip und auf der Konversionsschicht angeordneten Teil der reflektiven Schicht aufweisen. Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造发射辐射的半导体组件的方法。 该方法包括提供包含磷光体的转换层并在转换层上设置发射辐射的半导体芯片。 半导体芯片在转换层上以正面布置。 半导体芯片在背面具有触点。 该方法的另一个步骤是通过应用含有发光材料的发光材料来增加半导体芯片旁边和半导体芯片之间的转换层的厚度。 增厚的转换层邻接半导体芯片的正面和侧面。 该方法还包括在形成转换层和R中导航的范围的半导体芯片上的反射层使用的半导体芯片的下侧,其中,A R导航用途ckseitige表面承受的半导体芯片表面的触点保持未被覆盖。 此外,所述反射层和所述转换层被切割,以形成包括一个单一的半导体芯片,一个在前面和Seitenfl BEAR设置在转换层的半导体芯片的部分的表面和R中导航的范围分离的半导体器件中的半导体芯片上使用后侧和 已经布置在反射层的转换层部分上。 本发明还涉及一种发射辐射的半导体器件

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