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公开(公告)号:FR2915318B1
公开(公告)日:2009-07-17
申请号:FR0702873
申请日:2007-04-20
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2
Inventor: BOEUF FREDERIC
Abstract: A process for realizing an integrated electronic circuit makes it possible to obtain transistors with p-type conduction and transistors with n-type conduction, in respective active zones having crystal orientations adapted to each conduction type. In addition, each active zone is electrically insulated from a primary substrate of the circuit, so that the entire circuit is compatible with SOI technology.
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公开(公告)号:FR2877141A1
公开(公告)日:2006-04-28
申请号:FR0452432
申请日:2004-10-25
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2
Inventor: HALIMAOUI AOMAR , BOEUF FREDERIC
IPC: H01L21/225 , H01L21/336 , H01L29/417
Abstract: L'invention concerne un procédé de formation de silicium-germanium dans la partie supérieure d'un substrat de silicium comprenant les étapes suivantes : déposer une couche de germanium dopée à une concentration en éléments dopants supérieure à 1019 atomes par cm3 sur un substrat de silicium ; chauffer pour faire diffuser le germanium dans le substrat de silicium de façon à former une couche de silicium-germanium dopée dans la partie supérieure du substrat de silicium ; et éliminer la couche de germanium.
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公开(公告)号:FR3078437B1
公开(公告)日:2022-02-04
申请号:FR1851612
申请日:2018-02-23
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2 SAS
Inventor: MONFRAY STEPHANE , BOEUF FREDERIC
IPC: H01L21/761 , H01L21/04 , H01L21/18
Abstract: L'invention concerne une jonction PN comprenant une zone (36) en SiGe dont la concentration en germanium est graduelle.
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公开(公告)号:FR3111015A1
公开(公告)日:2021-12-03
申请号:FR2005573
申请日:2020-05-27
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2 SAS
Inventor: BOEUF FREDERIC , ROY FRANCOIS
IPC: H01L27/146
Abstract: Dispositif optoélectronique La présente description concerne un dispositif optoélectronique (10) comprenant un empilement : - d'un premier étage (14) comprenant des premières photodiodes configurées pour fonctionner dans une première gamme de longueurs d'onde ; et - d'un deuxième étage (16) comprenant des deuxièmes photodiodes configurées pour fonctionner dans une deuxième gamme de longueurs d'onde, le premier étage étant situé entre des rayonnements (12) adaptés à être reçus par le dispositif et le deuxième étage (16), les portions du premier étage situées entre le deuxième étage et les rayonnements étant en des matériaux transparents aux longueurs d'onde de la première gamme de longueurs d’onde. Figure pour l'abrégé : Fig. 1
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公开(公告)号:FR3094502A1
公开(公告)日:2020-10-02
申请号:FR1903064
申请日:2019-03-25
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2 SAS , ST MICROELECTRONICS SRL
Inventor: BOEUF FREDERIC , MAGGI LUCA
IPC: G02B6/26 , B82Y20/00 , H01L23/522 , H01L25/00
Abstract: Puce de circuit intégré photonique La présente description concerne une puce (1000) de circuit intégré photonique comprenant : une pluralité de coupleurs (18) à réseau de diffraction verticale définis dans une première couche semiconductrice (10) ou isolante surmontée d'une structure d'interconnexion (24) comprenant plusieurs niveaux de métal (M1, M2, M3, M4) noyés dans des deuxièmes couches isolantes (28A, 28B) ; et une cavité (200) s'étendant en profondeur à travers les deuxièmes couches isolantes (28A, 28B) jusqu'à un niveau intermédiaire entre les coupleurs (18) et le niveau de métal (M1) le plus proche des coupleurs (18), la cavité ayant des dimensions latérales telles que la cavité est adaptée à recevoir un bloc de maintien (302) d'un réseau de fibres optiques (304) destinées à être couplées optiquement avec les coupleurs (18). Figure pour l'abrégé : Fig. 3
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公开(公告)号:FR2915318A1
公开(公告)日:2008-10-24
申请号:FR0702873
申请日:2007-04-20
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2
Inventor: BOEUF FREDERIC
Abstract: Un procédé de réalisation d'un circuit électronique intégré permet d'obtenir à la fois des transistors à conduction par trous (T1) et des transistors àconduction par électrons (T2), dans des zones actives respectives (102, 106) ayant des orientations cristallines adaptées pour chaque type de conduction. En outre, chaque zone active est isolée électriquement d'un substrat primaire (100) du circuit, de sorte que tout le circuit est compatible avec la technologie SOI.
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公开(公告)号:FR3100082A1
公开(公告)日:2021-02-26
申请号:FR1909284
申请日:2019-08-19
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2 SAS
Inventor: CREMER SEBASTIEN , BOEUF FREDERIC , MONFRAY STEPHANE
Abstract: Modulateur de phase La présente description concerne un procédé comprenant les étapes suivantes : a) former un guide d'onde (100) en un premier matériau, le guide d'onde étant configuré pour guider un signal optique ; b) former une couche (106) en un deuxième matériau conducteur électriquement et transparent à une longueur d'onde du signal optique, les étapes a) et b) étant mises en oeuvre de manière que la couche (106) en le deuxième matériau soit en contact d'au moins une des faces du guide d'onde (100), ou soit séparée de ladite au moins une des faces par une distance inférieure à la moitié, de préférence au quart, de la longueur d'onde du signal optique. La demande concerne en outre un modulateur de phase, notamment obtenu par un tel procédé. Figure pour l'abrégé : Fig. 1
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公开(公告)号:FR3051561B1
公开(公告)日:2019-07-12
申请号:FR1654523
申请日:2016-05-20
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2 SAS
Inventor: BOEUF FREDERIC , BAUDOT CHARLES
Abstract: Structure intégrée photonique tridimensionnelle comprenant un premier substrat semi-conducteur (22) incorporant au moins un premier guide d'ondes (24), un deuxième substrat semi-conducteur (32) incorporant au moins un deuxième guide d'ondes (34), et au moins une région intermédiaire (INT) située entre les deux substrats et comportant au moins une couche diélectrique (23), le deuxième substrat (3) comportant au moins un coupleur optique (36) configuré pour recevoir un signal lumineux (L1), et le premier substrat (2) et ladite au moins une couche diélectrique (23) comportant un élément réflecteur (26) situé en dessous et en regard dudit au moins un coupleur à réseau (36) et apte à réfléchir au moins une partie dudit signal lumineux (L1).
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公开(公告)号:FR3003685A1
公开(公告)日:2014-09-26
申请号:FR1352535
申请日:2013-03-21
Inventor: BOEUF FREDERIC , WEBER OLIVIER
IPC: H01L21/02 , H01L21/335 , H01L29/772
Abstract: Dispositif comprenant un substrat du type silicium sur isolant comportant un film semi-conducteur (1) disposé sur une couche isolante (2) dite enterrée elle-même disposée sur un substrat support de silicium non contraint (3), le film semi-conducteur comportant au moins une première zone de film (10) comportant du silicium contraint en tension et au moins une deuxième zone de film (12) comportant du silicium relâché en tension, ladite couche isolante enterrée (2) comportant au moins une ouverture sous ladite au moins une deuxième zone de film (12), ladite ouverture comportant du silicium non contraint (31).
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公开(公告)号:FR2877141B1
公开(公告)日:2007-01-19
申请号:FR0452432
申请日:2004-10-25
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2
Inventor: HALIMAOUI AOMAR , BOEUF FREDERIC
IPC: H01L21/225 , H01L21/336 , H01L29/417
Abstract: A method for forming silicon-germanium in the upper portion of a silicon substrate, including the steps of: depositing a germanium layer doped at a concentration in dopant elements greater than 10 19 atoms per cm 3 on a silicon substrate; heating to have the germanium diffuse into the silicon substrate to form a doped silicon-germanium layer in the upper portion of the silicon substrate; and eliminating the germanium layer.
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