公开(公告)号：CN103079641B

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201080068538.6

申请日：2010-08-20

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 片寄雅

IPC: G21K1/093

CPC classification number: A61N5/1077 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087 ,  G21K5/02 ,  H01J3/26

Abstract: 本发明的目的在于获得使照射野和照射位置精度的组合等有关粒子射线照射的多个参数的组合可变，能够进行多种多样的不同照射方式的照射的粒子射线照射装置。所述粒子射线照射装置是将利用经加速器(54)加速的带电粒子束(3)照射到照射对象(11)的粒子射线照射装置(58)，包括：扫描电磁铁(1、2)，该扫描电磁铁(1、2)将带电粒子束(3)进行扫描；以及扫描电磁铁移动装置(4)，该扫描电磁铁移动装置(4)移动扫描电磁铁(1、2)以使带电粒子束(3)的射束轴向上的扫描电磁铁(1、2)与照射对象(11)之间的距离改变。

公开(公告)号：CN102292122B

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN200980155484.4

申请日：2009-06-09

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 原田久 ,  岩田高明

IPC: A61N5/10

CPC classification number: H01J3/22 ,  A61N5/1042 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N5/1078 ,  A61N2005/1087 ,  H01J3/26

Abstract: 本发明的目的在于获得一种照射自由度较高、能够减小照射到正常组织的照射量的粒子射线治疗装置。包括：扫描电磁铁(2)，该扫描电磁铁(2)对所提供的带电粒子束Bec进行扫描输出，使其整形为基于治疗计划的三维的照射形状；以及偏转电磁铁(4、5)，该偏转电磁铁(4、5)切换所述带电粒子束Bec的轨道，以使得由扫描电磁铁(2)进行了扫描后输出的带电粒子束Bec经过从扫描电磁铁(2)到等中心C之间设定的多条轨道(7a、7b、7c)中的、所选择的一条轨道，而到达等中心C。

公开(公告)号：CN102484026A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201080038384.6

申请日：2010-08-28

Applicant: FEI公司

Inventor： G·米罗 ,  C·S·库伊曼 ,  H·J·d·沃斯 ,  T·米勒

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J3/26 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/1477 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/1504 ,  H01J2237/1518 ,  H01J2237/1526 ,  H01J2237/30416 ,  H01J2237/3045 ,  H01J2237/30461

Abstract: 一种引导带电粒子束的改进方法通过更改一个或更多偏转器信号来补偿带电粒子行经所述系统所需的时间。根据本发明的一个实施例，在数字到模拟(D/A)转换之前对扫描模式应用数字滤波器，以便减小或消除可能由TOF误差引起的过冲效应。在其他实施例中，模拟滤波器或者对具有较低带宽的信号放大器的使用也可以被用来补偿TOF误差。通过更改扫描模式，可以显著减小或消除过冲效应。

公开(公告)号：CN102292122A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN200980155484.4

申请日：2009-06-09

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 原田久 ,  岩田高明

IPC: A61N5/10

CPC classification number: H01J3/22 ,  A61N5/1042 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N5/1078 ,  A61N2005/1087 ,  H01J3/26

Abstract: 本发明的目的在于获得一种照射自由度较高、能够减小照射到正常组织的照射量的粒子射线治疗装置。包括：扫描电磁铁(2)，该扫描电磁铁(2)对所提供的带电粒子束Bec进行扫描输出，使其整形为基于治疗计划的三维的照射形状；以及偏转电磁铁(4、5)，该偏转电磁铁(4、5)切换所述带电粒子束Bec的轨道，以使得由扫描电磁铁(2)进行了扫描后输出的带电粒子束Bec经过从扫描电磁铁(2)到等中心C之间设定的多条轨道(7a、7b、7c)中的、所选择的一条轨道，而到达等中心C。

公开(公告)号：CN1130243C

公开(公告)日：2003-12-10

申请号：CN99104388.X

申请日：1999-03-26

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 内藤仪彦

IPC: B01D53/32 ,  H01J49/14

CPC classification number: B01D53/007 ,  B01D2259/812 ,  H01J3/26

Abstract: 一种电子束辐射装置，可避免在最大扫描点处电子束会聚的问题，恒定获得均匀能量密度的辐射区域，该装置包括：电子束源12，加速电子束源发射的电子的加速管13，对加速管形成的高能电子束施加磁场以控制电子束束直径的聚焦电磁铁16，以及用于向电子束施加磁场来偏转和扫描已被控制束直径的电子束的电磁铁17，其中与扫描电磁铁17的电流IS同步的电流成分IF被迭加到聚焦电磁铁16的电流IF上，由此控制聚焦电磁铁的电流IF，使所述束直径在最大扫描点上成为最大。

公开(公告)号：CN1242253A

公开(公告)日：2000-01-26

申请号：CN99104388.X

申请日：1999-03-26

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 内藤仪彦

IPC: B01D53/32 ,  H01J49/14

CPC classification number: B01D53/007 ,  B01D2259/812 ,  H01J3/26

Abstract: 一种电子束辐射装置,可避免在最大扫描点处电子束会聚的问题,恒定获得均匀能量密度的辐射区域,该装置包括:电子束源12,加速电子束源发射的电子的加速管13,对加速管形成的高能电子束施加磁场以控制电子束束直径的聚焦电磁铁16,以及用于向电子束施加磁场来偏转和扫描已被控制束直径的电子束的电磁铁17,其中与扫描电磁铁17的电流IS同步的电流成分IF被叠加到聚焦电磁铁16的电流IF上,由此控制聚焦电磁铁的电流IF,使所述束直径在最大扫描点上成为最大。

公开(公告)号：WO2011025998A3

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：PCT/US2010047064

申请日：2010-08-28

Applicant: MIRRO GENE ,  KOOIJMAN CORNELIS SANDER ,  VOS HENDRIK JAN DE ,  FEI CO ,  MILLER TOM

Inventor： MIRRO GENE ,  KOOIJMAN CORNELIS SANDER ,  VOS HENDRIK JAN DE ,  MILLER TOM

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J3/26 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/1477 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/1504 ,  H01J2237/1518 ,  H01J2237/1526 ,  H01J2237/30416 ,  H01J2237/3045 ,  H01J2237/30461

Abstract: An improved method of directing a charged particle beam that compensates for the time required for the charged particles to traverse the system by altering one or more of the deflector signals. According to one embodiment of the invention, a digital filter is applied to the scan pattern prior to digital-to-analog (D/A) conversion in order to reduce or eliminate over-shoot effects that can result from TOF errors. In other embodiments, analog filters or the use of signal amplifiers with a lower bandwidth can also be used to compensate for TOF errors. By altering the scan pattern, over-shoot effects can be significantly reduced or eliminated.

Abstract translation: 一种改进的引导带电粒子束的方法，其通过改变一个或多个偏转器信号来补偿带电粒子穿过系统所需的时间。 根据本发明的一个实施例，在数字 - 模拟（D / A）转换之前将数字滤波器应用于扫描图案，以便减少或消除可能由TOF误差导致的过拍效应。 在其他实施例中，也可以使用模拟滤波器或使用具有较低带宽的信号放大器来补偿TOF误差。 通过改变扫描模式，可以显着减少或消除过拍效果。

公开(公告)号：EP2572756B1

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：EP10856162.2

申请日：2010-08-20

Applicant: Mitsubishi Electric Corporation

Inventor： KATAYOSE, Tadashi

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1077 ,  A61N5/1043 ,  A61N2005/1087 ,  G21K5/02 ,  H01J3/26

公开(公告)号：EP2308561B1

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：EP09171550.8

申请日：2009-09-28

Applicant: Ion Beam Applications

Inventor： Jongen, Yves

IPC: A61N5/10 ,  G21K1/093 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10

CPC classification number: H01J3/26 ,  A61N5/01 ,  A61N5/10 ,  A61N5/1077 ,  A61N5/1081 ,  A61N2005/1087 ,  G21K1/093

公开(公告)号：EP1891467A4

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：EP06768670

申请日：2006-05-29

Applicant: CEBT CO LTD

Inventor： KIM HO SEOB ,  KIM BYENG JIN

IPC: G02B3/00

CPC classification number: H01J3/18 ,  H01J3/26 ,  H01J37/12 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/1205

Abstract: The present invention relates to an electron column including an electron emission source and lenses, and, more particularly, to an electron column having a structure that can facilitate the alignment and assembly of an electron emission source and lenses. The electron column having an electron emission source and a lens unit according to the present invention is characterized in that the lens unit includes two or more lens layers and performs both a source lens function and a focusing function. Furthermore, the electron column is characterized in that the lens unit includes one or more deflector-type lens layers and additionally performs a deflector function.