プラズマエッチング用石英ガラス部材
    208.
    发明申请
    プラズマエッチング用石英ガラス部材 审中-公开
    用于等离子体蚀刻的QUARTZ玻璃成员

    公开(公告)号:WO2009017020A1

    公开(公告)日:2009-02-05

    申请号:PCT/JP2008/063258

    申请日:2008-07-24

    Abstract:  プラズマエッチング工程で使用されるドープ石英ガラスで、使用中に、問題となるような弗化物の堆積が起こらないようなプラズマエッチング用ドープ石英ガラス部材を提供する。  半導体製造用治具としてプラズマエッチング工程に用いられるプラズマエッチング用石英ガラス部材であって、少なくとも、該石英ガラス部材が2種類以上の金属元素を併せて0.01wt%以上0.1wt%未満含有し、該金属元素が周期律表第3B族から選ばれた少なくとも1種の第1の金属元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選ばれた少なくとも1種の第2の金属元素からなることを特徴とする。

    Abstract translation: 用于等离子体蚀刻操作的用于等离子体蚀刻的掺杂石英玻璃构件,在使用期间没有任何有问题的氟化物积聚。 用于等离子体蚀刻的石英玻璃构件是用于等离子体蚀刻操作中的半导体制造的夹具,其特征在于,含有总量为0.01至小于0.1重量%的至少两种或更多种金属元素。 金属元素由选自元素周期表第3B族中的至少一种第一金属元素和选自Mg,Ca,Sr,Ba,Sc,Y的至少一种第二金属元素组成 ,Ti,Zr,Hf,镧系元素和锕系元素。

Patent Agency Ranking