公开(公告)号：WO2011068100A1

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：PCT/JP2010/071377

申请日：2010-11-30

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  小池 章夫 ,  宮坂 順子

Inventor： 小池　章夫 ,  宮坂　順子

IPC: C03C15/00 ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B29C33/3842 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/14 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C15/00 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44

Abstract: 　本発明は、ＳｉＯ ２ 前駆体を含むガラス形成原料からガラス体を得た後、該ガラス体を機械加工することによって所定の形状としたガラス基材に対して、該ガラス基材の表面の加工変質層を除去することによって、該ガラスの基材の転写パターンを形成する側の表面から深さ１０μｍまでの領域における仮想温度分布が±３０℃以内であるインプリントモールド用石英系ガラス基材を得る、インプリントモールド用石英ガラス基材の製造方法に関する。

Abstract translation: 所公开的用于压印模具的石英玻璃基板的制造方法获得用于压印模具的二氧化硅基玻璃基板，其中在玻璃侧从表面到深度10μm的区域中的虚拟温度分布 通过从含有SiO 2前体的玻璃形成原料获得玻璃体，并且除去玻璃表面上的受影响层，在其上形成转印图案的基板不在±30℃的范围内 基板，其通过加工所述玻璃体而被赋予预定的形状。

公开(公告)号：WO2011039159A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：PCT/EP2010/064317

申请日：2010-09-28

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  KUEHN, Bodo

Inventor： KUEHN, Bodo

IPC: C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B23/20 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  G02B5/10 ,  G03F7/708 ,  Y10T428/22 ,  Y10T428/24612

Abstract: Um ausgehend von einem bekannten Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas (Glas) für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das einen zu verspiegelnden und beim bestimmungsgemäßen Einsatz des Spiegelsubstrats als hochbelastete Zone spezifizierten Oberflächenbereich aufweist, der eine Außenkontur hat, einen Rohling bereit zu stellen, der kostengünstig herstellbar ist und der dennoch hohen Anforderungen bezüglich Homogenität, Blasen- und Schlierenfreiheit genügt, wird eine Verfahrensweise vorgeschlagen, die folgende Verfahrensschritte umfasst: (a) Erzeugen eines Frontkörpers aus Titan-dotiertem Glas hoher Qualität und mit Abmessungen, die die Außenkontur mit Übermaß umschließen, (b) Erzeugen eines zylinderförmigen Stützkörpers aus Titan-dotiertem Glas, (c) Verbinden von Frontkörper und Stützkörper unter Bildung eines Verbundkörpers, und (d) Bearbeitung des Verbundkörpers zum Spiegelsubstrat-Rohling, wobei das Erzeugen des Frontkörpers einen Homogenisierungsprozess umfasst, der ein Verdrillen eines durch Flammenhydrolyse einer siliziumhaltigen Verbindung erhaltenen stangenförmigen Ausgangskörpers zu einem Frontkörperrohling umfasst, und dass der Stützkörper als monolithischer Glasblock mit geringerer Homogenität als der Frontkörper ausgebildet ist.

Abstract translation: 为了从用于制造由掺杂钛的高硅玻璃（玻璃），用于在EUV光刻中，它具有利用一个镜基板的空白公知的方法开始被mirrorized和打算使用的镜基板的指定为高负载区的表面积 的外轮廓具有提供一种可以经济地和关于满足从条纹仍要求高的均匀性，膀胱和自由地制造，过程中提出，下面的处理步骤的空白：（a）形成的高掺杂钛的玻璃的前体 质量和其与筛上，（b）中包围的外轮廓成形接合前体和支撑体上以形成复合体，而复合体的（d）中处理，以将镜基板ř钛掺杂玻璃的圆筒状支承体，（C）的尺寸 Ohling，其中所述前体的所述生成包括均质化处理，其包括加捻由含硅化合物棒状起始体的火焰水解反应前体坯而获得的信号，并且所述支撑体被形成为具有比前体的下部均匀性的单片玻璃块。

公开(公告)号：WO2010010915A1

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：PCT/JP2009/063168

申请日：2009-07-23

Applicant: 株式会社ニコン ,  吉成 俊雄 ,  安住 美菜子 ,  木村 幸泰

Inventor： 吉成　俊雄 ,  安住　美菜子 ,  木村　幸泰

IPC: G03F1/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1469 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/50

Abstract: 　フォトマスク用光学部材は、合成石英ガラスにＴｉＯ ２ を添加してなる光学部材である。ＴｉＯ ２ は３．０から６．５重量パーセント含有される。フォトマスク用光学部材の製造方法は、石英ガラスインゴットを合成した後、平板状の所定形状に成形し、その後、酸化雰囲気中でアニールする。アニールにより石英ガラスインゴット中のＴｉ ３＋ をＴｉ ４＋ に変化させてＴｉ ３＋ による光の吸収を低減することができる。波長３６５ｎｍの光に対する透過率が９０％以上であるので、波長３６５ｎｍ付近でも実用上十分な透過率を有し、かつ石英ガラスより熱膨張しにくい。

Abstract translation: 通过将TiO2添加到合成石英玻璃中来提供光掩模用光学部件。 光学部件含有3.0〜6.5重量％的TiO 2。 在制造光学构件的方法中，在合成石英玻璃锭之后，将锭以预定的平板形状形成，然后在氧化气氛中退火。 通过将石英玻璃锭中的Ti 3+通过退火改变为Ti4 +，可以减少由于Ti3 +引起的光吸收。 由于对波长365nm的光的透射率为90％以上，所以即使对于波长接近365nm的光，光学部件也具有足够的透射率，与石英玻璃相比热不易膨胀。

公开(公告)号：WO2009084717A1

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：PCT/JP2008/073932

申请日：2008-12-25

Applicant: ASAHI GLASS CO., LTD. ,  KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KIKUGAWA, Shinya

Inventor： KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KIKUGAWA, Shinya

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention is to provide a TiO 2 -SiO 2 glass having suitable thermal expansion properties as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO 2 -containing silica glass having a temperature, at which a coefficient of thermal expansion is 0 ppb/°C, falling within the range of 23 } 4 °C and a temperature width, in which a coefficient of thermal expansion is 0 } 5 ppb/°C, of 5 °C or more.

Abstract translation: 本发明提供具有合适的热膨胀性能的TiO 2 -SiO 2玻璃作为EUVL用曝光工具的光学部件。 本发明涉及热膨胀系数为0ppb /℃的温度为23±4℃的温度范围的含TiO 2的二氧化硅玻璃，其温度范围为 膨胀为0} 5 ppb /℃，为5℃以上。

公开(公告)号：WO2007143069A2

公开(公告)日：2007-12-13

申请号：PCT/US2007012899

申请日：2007-05-31

Applicant: CORNING INC ,  MAXON JOHN E ,  ROSCH WILLIAM R

Inventor： MAXON JOHN E ,  ROSCH WILLIAM R

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/50 ,  Y02P40/57

Abstract: The invention is directed to a low expansion glass with reduced striae, the glass have a point to point variation in titania content is 0.1 wt% or less through its thickness and a CTE of 0 ± 3 ppb/°C throughout the temperature range 5-35 °C. The invention is further directed to a method for producing the low expansion glass by using a method in which the time for repetition of the oscillation patterns used in the process are 10 minutes or less. In addition, the low expansion glass of the invention can have striae further reduced by heat treating the glass at temperatures above 1600 °C for a time in the range of 48 160 hours. The invention is also directed to optical elements suitable for extreme ultraviolet lithography, which elements are made of a titania-containing silica glass having a titania content in the range of 5-10 wt.%, a polished and shaped surface have a peak to valley roughness of less than 10 nm, an average variation in titania content of less than ± 0.1 wt. % as measured through the vertical thickness of the glass and a coefficient of thermal expansion of 0 ± 3 ppb/°C throughout the temperature range 5 35 °C.

Abstract translation: 本发明涉及一种具有减少条纹的低膨胀玻璃，通过其厚度，玻璃具有0.1重量％以下的二氧化钛含量的点对点变化，并且在整个温度范围内的CTE为0±3ppb /℃， 35°C。 本发明还涉及一种通过使用在该方法中使用的振荡图案的重复时间为10分钟以下的方法制造低膨胀玻璃的方法。 此外，本发明的低膨胀玻璃可以通过在高于1600℃的温度下热处理玻璃在48 160小时的时间内进一步降低条纹。 本发明还涉及适用于极紫外光刻的光学元件，该元件由二氧化钛含量在5-10重量％范围内的含二氧化钛的二氧化硅玻璃制成，抛光和成形的表面具有峰谷 粗糙度小于10nm，二氧化钛含量的平均变化小于±0.1wt。 通过玻璃的垂直厚度测量，并且在整个温度范围5 35°C时，热膨胀系数为0±3ppb /°C。

公开(公告)号：WO2007119860A1

公开(公告)日：2007-10-25

申请号：PCT/JP2007/058382

申请日：2007-04-11

Applicant: ASAHI GLASS CO., LTD. ,  OTSUKA, Koji ,  KOJIMA, Hiroshi ,  ITO, Masabumi

Inventor： OTSUKA, Koji ,  KOJIMA, Hiroshi ,  ITO, Masabumi

IPC: C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C15/02 ,  B24B7/242 ,  B24B37/08 ,  C03C3/06 ,  C03C19/00 ,  C03C23/005 ,  C03C23/006 ,  C03C2201/42 ,  C03C2204/08 ,  Y10T428/24355

Abstract: The present invention is to provide a processing method for manufacturing a highly flat and highly smooth glass substrate with good productivity. A highly flat and highly smooth glass substrate is obtained with good productivity by processing of a glass substrate, which comprises a step of measuring the surface shape of the glass substrate prior to processing, a step of processing the surface of the substrate by changing a processing condition for each site (first processing step), and a step of finish-polishing the surface of the glass substrate that has been subjected to the first processing step (second processing step). At that time, the processing condition for each site within the surface of the substrate in the first processing step is determined from a processing amount that is determined from the concave-convex shape of the surface of the glass substrate prior to processing and the in-plane distribution of a processing amount by the second processing step separately measured by using a similar substrate.

Abstract translation: 本发明提供一种以高生产率制造高度平坦且高度光滑的玻璃基板的加工方法。 通过处理玻璃基板，通过加工玻璃基板，以高生产率获得高度平坦且高度平滑的玻璃基板，其包括在处理之前测量玻璃基板的表面形状的步骤，通过改变处理来处理基板的表面的步骤 （第一处理步骤），以及对经过第一处理步骤（第二处理步骤）的玻璃基板的表面进行精抛光的步骤。 此时，根据从处理前的玻璃基板的表面的凹凸形状确定的处理量来确定第一处理工序中的基板的表面内的每个部位的处理条件， 通过使用相似的基板分别测量的第二处理步骤的处理量的平面分布。

公开(公告)号：WO2005024893A2

公开(公告)日：2005-03-17

申请号：PCT/IB2004/051515

申请日：2004-08-20

Applicant: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. ,  FLINK, Simon ,  KRIJNEN, Simon ,  CUPPEN, Sebastianus, N., G. ,  SWART, Gerbrand, J. ,  WAGE, Willem ,  VAN DER MEULEN, Frank

Inventor： FLINK, Simon ,  KRIJNEN, Simon ,  CUPPEN, Sebastianus, N., G. ,  SWART, Gerbrand, J. ,  WAGE, Willem ,  VAN DER MEULEN, Frank

IPC: H01J61/02

CPC classification number: C03C4/085 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/3423 ,  C03C2201/42 ,  H01J61/302 ,  H01J61/34 ,  H01J61/50 ,  H01K1/28

Abstract: The invention relates to an electric lamp provided with a light source in a light-transmitting lamp vessel which is closed in a vacuumtight manner, which light source has an envelope of light-transmitting, UV-absorbing quartz glass which comprises silicon oxide, aluminum oxide and cerium oxide, characterized in that the quartz glass of the envelope comprises the aluminum oxide and cerium oxide in a molar ratio of between 0.30 and 0.48. The invention further relates to the quartz glass which is used for said lamp.

Abstract translation: 本发明涉及一种在透光灯容器中设置有光源的电灯，其以真空密封的方式封闭，该光源具有包含氧化硅，氧化铝的透光，紫外线吸收石英玻璃的外壳 和氧化铈，其特征在于，外壳的石英玻璃包含氧化铝和氧化铈，摩尔比为0.30-0.48。 本发明还涉及用于所述灯的石英玻璃。

公开(公告)号：WO03077038A2

公开(公告)日：2003-09-18

申请号：PCT/US0306825

申请日：2003-03-04

Applicant: CORNING INC

Inventor： HRDINA KENNETH E ,  MAXON JOHN E ,  MCLEAN BRENT R

IPC: G02B1/00 ,  C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1446 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/62 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70958

Abstract: Titania-containing silica glass bodies and extreme ultraviolet elements having low levels of striae are disclosed. Methods and apparatus for manufacturing and measuring striae in glass elements and extreme ultraviolet elements are also disclosed.

Abstract translation: 公开了含有二氧化钛的二氧化硅玻璃体和具有低水平条纹的极紫外线元件。 还公开了用于制造和测量玻璃元件和极紫外元件中的条纹的方法和装置。

公开(公告)号：WO03076352A2

公开(公告)日：2003-09-18

申请号：PCT/US0306809

申请日：2003-03-04

Applicant: CORNING INC

Inventor： DAVIS JR CLAUDE L ,  BOWDEN BRADLEY F ,  WIGHT JR JOHN F ,  WASILEWSKI MICHAEL H ,  HRDINA KENNETH E ,  BARRETT W TIMOTHY ,  ROBINSON MICHAEL

IPC: G21K1/06 ,  C03B8/04 ,  C03B19/01 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  H01L21/027 ,  C03B

CPC classification number: C03B32/005 ,  C03B19/01 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10

Abstract: Methods and apparatus for manufacturing titania-containing fused silica bodies are disclosed. The titania-containing fused silica bodies are subsequently processed to make extreme ultraviolet soft x-ray masks. The methods and apparatus involve providing powders external to a furnace cavity and depositing the powders in the furnace cavity to form a titania-containing fused silica body.

Abstract translation: 公开了制造含二氧化钛的熔融石英体的方法和装置。 随后处理含二氧化钛的熔融二氧化硅体以制造极紫外线软X射线掩模。 所述方法和装置包括在炉腔外部提供粉末并将粉末沉积在炉腔中以形成含二氧化钛的熔融二氧化硅体。

公开(公告)号：US11987521B2

公开(公告)日：2024-05-21

申请号：US17136642

申请日：2020-12-29

Applicant: Carl Zeiss SMT GmbH

Inventor： Eric Eva

IPC: C03C3/06 ,  G02B5/08 ,  G02B7/18 ,  C03C17/40

CPC classification number: C03C3/06 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/181 ,  C03B2201/42 ,  C03C17/40 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: In order to reduce the degree of relaxation after an optical substrate has been compacted, in particular after a longer period, substrates (51) or reflective optical elements (50), in particular for EUV lithography, with substrates (51) of this type, are proposed. These substrates (51), which have a surface region (511) with a reflective coating (54), are characterised in that, at least near to the surface region (511), the titanium-doped quartz glass has a proportion of Si—O—O—Si bonds of at least 1*1016/cm3 and/or a proportion of Si—Si bonds of at least 1*1016/cm3 or, along a notional line (513) perpendicular to the surface region (511), over a length (517) of 500 nm or more, a hydrogen content of more than 5×1018 molecules/cm3.