公开(公告)号：JP2002370199A

公开(公告)日：2002-12-24

申请号：JP2001217353

申请日：2001-06-13

Applicant: Takashi Nishi ,  孝 西

Inventor： NISHI TAKASHI

IPC: G03F7/004 ,  B81B5/00 ,  B81C1/00 ,  F16H49/00 ,  F16H55/17 ,  G03F7/095

CPC classification number: B81C99/0085 ,  B81B2201/035 ,  B81C2201/034

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a micron-sized and submicron-sized gear incorporated into a micro-machine.
SOLUTION: A gear having a projecting tooth on a peripheral surface, or a gear having a magnetic tooth on a peripheral surface, or a gear having a static electricity gear on a peripheral surface, and its manufacturing method form a gear such as a worm gear, a spur gear, and a bevel gear by applying the said either tooth, and a complicated-shaped gear by using a thin film forming technology such as deposition, sputtering, a plating technology, CVD, and an oxidation processing, and a fine processing technology such as photolithography and etching for collectively forming the tooth and the gear in the same process, and are characterized by particularly using an exposure quantity control exposure method and a transfer etching method.
COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Abstract translation: 要解决的问题：提供结合到微型机器中的微米尺寸和亚微米尺寸的齿轮。 解决方案：在外周表面具有突出齿的齿轮，或在外周表面具有磁齿的齿轮，或在外周表面具有静电齿轮的齿轮，其制造方法形成齿轮，例如蜗轮 ，正齿轮和锥齿轮，通过使用诸如沉积，溅射，电镀技术，CVD和氧化处理的薄膜形成技术施加所述两个齿和复杂形状的齿轮，以及精细加工 特别是使用曝光量控制曝光方法和转印蚀刻方法，其特征在于，在相同的工艺中共同地形成齿和齿轮的光刻技术和蚀刻技术。

公开(公告)号：KR101859256B1

公开(公告)日：2018-05-18

申请号：KR1020150143577

申请日：2015-10-14

Applicant: 니바록스-파 에스.에이.

Inventor： 뒤부아필리쁘 ,  샤르봉크리스티앙

IPC: G04B15/14 ,  G04D3/00 ,  G04B37/22

CPC classification number: C25D21/04 ,  B81B2201/035 ,  B81C1/00674 ,  B81C2201/032 ,  C22C19/03 ,  C22C45/04 ,  C25D1/003 ,  G04B1/145 ,  G04B13/02 ,  G04B15/00 ,  G04B15/14 ,  G04B37/22 ,  G04D3/0074

Abstract: 본발명은전기성형된금속바디를포함하는일체형금속부품에관한것으로서, 상기전기성형된금속바디의외부면은 10 미만의비투자율과밀어넣어지거나가압식끼워맞춤될능력을유지하면서일체형금속부품의내마모성을개선하기위하여, 미리결정된깊이에걸쳐서만또는이 깊이에대하여만, 상기전기성형된금속바디의나머지부분에대하여경화를유발하는전기성형된금속바디의나머지부분보다덜 포획된수소를포함한다.

公开(公告)号：KR1020160045599A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：KR1020150143577

申请日：2015-10-14

Applicant: 니바록스-파 에스.에이.

Inventor： 뒤부아필리쁘 ,  샤르봉크리스티앙

IPC: G04B15/14 ,  G04D3/00 ,  G04B37/22

CPC classification number: C25D21/04 ,  B81B2201/035 ,  B81C1/00674 ,  B81C2201/032 ,  C22C19/03 ,  C22C45/04 ,  C25D1/003 ,  G04B1/145 ,  G04B13/02 ,  G04B15/00 ,  G04B15/14 ,  G04B37/22 ,  G04D3/0074

Abstract: 본발명은전기성형된금속바디를포함하는일체형금속부품에관한것으로서, 상기전기성형된금속바디의외부면은 10 미만의비투자율과밀어넣어지거나가압식끼워맞춤될능력을유지하면서일체형금속부품의내마모성을개선하기위하여, 미리결정된깊이에걸쳐서만또는이 깊이에대하여만, 상기전기성형된금속바디의나머지부분에대하여경화를유발하는전기성형된금속바디의나머지부분보다덜 포획된수소를포함한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种包含电铸金属体的整体型金属部件。 电铸金属体的外表面包括比电铸金属体的剩余部分收集的氢，相对于电铸金属体的剩余部分在预定深度或相对于深度产生硬化，以便 以提高一体型金属部件的耐磨性，同时保持相对渗透率小于10，以及推动和插入或加压，插入和装配的能力。

公开(公告)号：KR1020100132463A

公开(公告)日：2010-12-17

申请号：KR1020100054127

申请日：2010-06-09

Applicant: 니바록스-파 에스.에이.

Inventor： 쿠쟁,피에르 ,  티보,장-필립

IPC: C25D5/02 ,  C23F1/24 ,  H01L21/308 ,  C23F1/02

CPC classification number: B81C99/008 ,  B81B3/0075 ,  B81B2201/035 ,  B81C1/00031 ,  B81C1/00087 ,  B81C1/00119 ,  B81C2201/0132 ,  B81C2201/032 ,  C25D1/003 ,  C25D1/20 ,  C25D5/022 ,  G04B13/022 ,  G04B13/026 ,  G04D3/0069

Abstract: PURPOSE: A complex micro-machine component and a manufacturing method thereof are provided so that directional etching is done on the whole horizontal parts of coated portion and thus an insulating layer exists only on one or more cavities and the outer walls of a part. CONSTITUTION: A manufacturing method of a complex micro-machine component comprises following steps. A substrate, which comprises a horizontal top layer(21) and a horizontal bottom layer is prepared. One or more patterns are etched in the top layer through a middle layer(22). The upper part of the substrate is coated with electric insulating coating agent. Directional etching is done on the coated layer and the middle layer and thus a layer exists only on each vertical wall, which is formed in the top layer. An electrode is connected to the conductive bottom layer of the substrate and electric deposition is performed. A complex component is released from the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种复杂的微机器部件及其制造方法，使得在涂覆部分的整个水平部分上进行定向蚀刻，因此绝缘层仅存在于一个或多个腔体和部件的外壁上。 构成：复合微机组件的制造方法包括以下步骤。 制备包括水平顶层（21）和水平底层的衬底。 在顶层中通过中间层（22）蚀刻一个或多个图案。 基片的上部涂有电绝缘涂层剂。 在涂层和中间层进行定向蚀刻，因此仅在形成在顶层中的每个垂直壁上存在层。 电极与基板的导电性底层连接，进行电沉积。 复合成分从基材中释放出来。

公开(公告)号：KR1020100084527A

公开(公告)日：2010-07-26

申请号：KR1020107009432

申请日：2008-11-12

Applicant: 니바록스-파 에스.에이.

Inventor： 피아카브리노,진-찰스 ,  베랄도,마르코 ,  코누스,씨에리 ,  씨에바우드,진-필리페 ,  피터스,진-베르날드

IPC: B81C99/00 ,  C25D1/00 ,  G04B13/00

CPC classification number: F16H55/06 ,  B81B2201/035 ,  B81C99/0095 ,  B81C2201/0197 ,  C25D1/08 ,  C25D5/02 ,  C25D5/10 ,  G04B13/02 ,  G04B13/022 ,  G04B19/042 ,  Y10T74/1987

Abstract: The invention relates to a method for producing a silicon-metal composite micromechanical part, combining DRIE-type and LIGA-type processes. The invention also relates to a micromechanical part comprising a layer containing a silicon part (53) and a metal part in such a way as to form a composite-type micromechanical part. The invention can be used in the field of timekeeping movements.

Abstract translation: 本发明涉及一种组合DRIE型和LIGA型工艺的硅 - 金属复合微机械部件的制造方法。 本发明还涉及一种微机械部件，其包括含有硅部分（53）和金属部分的层，以形成复合型微机械部件。 本发明可用于计时运动领域。

公开(公告)号：KR1020090102740A

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：KR1020097010599

申请日：2007-11-01

Applicant: 에타 쏘시에떼 아노님 마누팍투레 홀로게레 스위세

Inventor： 마르메이,필립페 ,  헬퍼,진-루크 ,  코누스,씨에리

IPC: B81C99/00

CPC classification number: B81C99/0095 ,  B81B2201/035 ,  B81C2201/019 ,  B81C2201/056 ,  B81C2203/038 ,  B81C2203/051 ,  G04B31/004 ,  G04D3/0069 ,  Y10T29/49579

Abstract: The process comprises the following steps: a) a first element (3) or a plurality of said first elements (3) is/are machined in a first silicon wafer (1) keeping said elements (3) joined together via material bridges (5); b) step a) is repeated with a second silicon wafer (2) in order to machine a second element (4), differing in shape from that of the first element (3), or a plurality of said second elements (4); c) the first and second elements (3, 4) or the first and second wafers (1, 2) are applied, face to face, with the aid of positioning means (6, 7); d) the assembly formed in step c) undergoes oxidation; and e) the parts (10) are separated from the wafers (1, 2). Micromechanical timepiece parts obtained according to the process.

Abstract translation: 该方法包括以下步骤：a）在第一硅晶片（1）中加工第一元件（3）或多个所述第一元件（3），以使所述元件（3）通过材料桥（5）连接在一起 ）; b）用第二硅晶片（2）重复步骤a），以便加工与第一元件（3）的形状不同的第二元件（4）或多个所述第二元件（4）; c）第一和第二元件（3,4）或第一和第二晶片（1,2）通过定位装置（6,7）面对面地施加; d）步骤c）中形成的组件经历氧化; 和e）部件（10）与晶片（1,2）分离。 根据工艺获得的微型钟表零件。

公开(公告)号：KR1020040111494A

公开(公告)日：2004-12-31

申请号：KR1020047015921

申请日：2003-05-23

Applicant: 가부시기가이샤 디스코

Inventor： 아라이가즈히사 ,  이시카와가즈노리

IPC: B81C99/00

CPC classification number: B81C99/0085 ,  B81B2201/035

Abstract: 마이크로 부품의 제조에 있어서, 용제를 이용하여 용해 가능한 수지 기판(1)을 성형하고, 이 수지 기판(1)에 물리적 외력을 작용시켜 오목부(3)를 형성하고, 오목부(3)에 금속을 충전한 후, 잉여 금속을 연마에 의해 제거하고, 용제를 이용하여 수지 기판(1)을 용해시켜 마이크로 부품을 제조함으로써, 스테퍼, 에칭 장치 등의 리소그래피 장치를 불필요하게 하여 경제성을 향상시키고, 또, 리소그래피 기술에 따라서는 제조가 곤란한 복잡한 형상의 부품의 제조도 가능하게 한다.

公开(公告)号：TW201722838A

公开(公告)日：2017-07-01

申请号：TW105124633

申请日：2016-08-03

Applicant: 尼瓦克斯 法爾公司 ,  NIVAROX-FAR S. A.

Inventor： 杜包斯 菲利浦 ,  DUBOIS, PHILIPPE

IPC: B81B7/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: G04B15/14 ,  B81B3/007 ,  B81B2201/035 ,  B81C1/0038 ,  B81C1/00539 ,  B81C1/00547 ,  B81C1/00714 ,  B81C1/00992 ,  B81C2201/0115 ,  C09K13/00 ,  C09K13/08 ,  C23C14/0611 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/10 ,  C23C14/12 ,  C23C16/0254 ,  C23C16/45525 ,  C25F3/02 ,  C25F3/12 ,  G04D3/0069

Abstract: 一種用於從矽基基底(1)開始製造微機械時計零件的方法，其依序包括以下的步驟：a)在矽基基底(1)的表面的至少一部分的表面上形成確定深度的細孔(2)；b)以選自金剛石、類鑽碳(DLC)、氧化矽、氮化矽、陶瓷、聚合物及其混合物之材料完全地填充細孔(2)，以在細孔(2)中形成厚度至少相當於細孔(2)的深度的所述材料的層。 本發明亦關於一種微機械時計零件，其包括矽基基底(1)，矽基基底(1)在矽基基底(1)的表面的至少一部分的表面上具有確定深度的細孔(2)，細孔(2)被選自金剛石、類鑽碳(DLC)、氧化矽、氮化矽、陶瓷、聚合物及其混合物之材料的層完全地填充，所述材料的層的厚度至少相當於細孔(2)的深度。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于从硅基基底(1)开始制造微机械时计零件的方法，其依序包括以下的步骤：a)在硅基基底(1)的表面的至少一部分的表面上形成确定深度的细孔(2)；b)以选自金刚石、类钻碳(DLC)、氧化硅、氮化硅、陶瓷、聚合物及其混合物之材料完全地填充细孔(2)，以在细孔(2)中形成厚度至少相当于细孔(2)的深度的所述材料的层。 本发明亦关于一种微机械时计零件，其包括硅基基底(1)，硅基基底(1)在硅基基底(1)的表面的至少一部分的表面上具有确定深度的细孔(2)，细孔(2)被选自金刚石、类钻碳(DLC)、氧化硅、氮化硅、陶瓷、聚合物及其混合物之材料的层完全地填充，所述材料的层的厚度至少相当于细孔(2)的深度。

公开(公告)号：TW201014779A

公开(公告)日：2010-04-16

申请号：TW098122415

申请日：2009-07-02

Applicant: 史華曲集團研發有限公司

Inventor： 丁格 魯道夫 ,  拉凡爾 泰瑞

IPC: B81B ,  G04B

CPC classification number: G04D3/0069 ,  B81B2201/035 ,  B81C3/008 ,  B81C99/008 ,  G04B13/02 ,  Y10T29/49579 ,  Y10T29/49581

Abstract: 本發明係關於一種製造機械零件（51）的方法（1），其包含以下步驟：a）提供（3）以可微機械加工材料製成之基板（53）；b）借助光微影術，蝕刻（5）包括該零件之圖案（50）穿過該整個基板。依據本發明，該方法進一步包含以下步驟：c）將夾片（91）組裝（13）在該零件上以使該零件（51）隨時被安裝而不必要接觸以可微機械加工材料製成之部份；d）使該零件（51）自該基板（53）脫離（11），以使該零件安裝於諸如時計機心之裝置。本發明關於時計製造的領域。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种制造机械零件（51）的方法（1），其包含以下步骤：a）提供（3）以可微机械加工材料制成之基板（53）；b）借助光微影术，蚀刻（5）包括该零件之图案（50）穿过该整个基板。依据本发明，该方法进一步包含以下步骤：c）将夹片（91）组装（13）在该零件上以使该零件（51）随时被安装而不必要接触以可微机械加工材料制成之部份；d）使该零件（51）自该基板（53）脱离（11），以使该零件安装于诸如时计机心之设备。本发明关于时计制造的领域。

公开(公告)号：EP3412625A1

公开(公告)日：2018-12-12

申请号：EP17174415.4

申请日：2017-06-05

Applicant: Nivarox-FAR S.A.

Inventor： Cretenet, Davy

IPC: B81C99/00

CPC classification number: B81C99/008 ,  B81B2201/035 ,  B81B2201/038

Abstract: L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'une pièce mécanique (51) comportant les étapes suivantes :
- se munir (3) d'un substrat (53) en un matériau micro-usinable ;
- graver (5) par photolithographie, dans la totalité de l'épaisseur dudit substrat, un motif (50) comportant ladite pièce avec au moins un pont de matière (57) ;
caractérisé en ce qu'il comporte en outre les étapes suivantes :
- réaliser (13) une fragilisation à coeur du pont de matière (91) afin de former une amorce de rupture (91) le long d'une ligne de rupture (L) du pont de matière (57) ;
- libérer (11) la pièce (51) du substrat (53) afin de la monter dans un dispositif.