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公开(公告)号：WO00076923A1
公开(公告)日：2000-12-21
申请号：PCT/JP2000/003778
申请日：2000-06-09
CPC classification number: C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/21 , C03B2207/30 , C03B2207/32 , C03B2207/36 , C03C3/06 , C03C2201/12 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/54 , Y02P40/57
Abstract: A synthetic quartz glass being used for a light having a wavelength of 150 to 200 nm, which has a concentration of OH group of 100 ppm or less, a concentration of hydrogen molecules of 1 x 10 molecules/cm or less and defects of reducing type of 1 x 10 /cm or less, and exhibits a relationship of DELTA K163 and DELTA K190 before and after irradiation of ultraviolet rays which satisfies 0
Abstract translation: 将合成石英玻璃用于波长为150〜200nm的光，OH基浓度为100ppm以下，氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3或 减少1×10 15 / cm 3以下的还原型的缺陷，并且在照射紫外线之前和之后呈现DELTA K163和DELTA K190的关系，满足0
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公开(公告)号：WO00039040A1
公开(公告)日：2000-07-06
申请号：PCT/JP1999/007282
申请日：1999-12-24
CPC classification number: C03B19/1453 , C03B2201/03 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C23/002 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/44 , C03C2203/54 , Y02P40/57
Abstract: A synthetic quartz glass to be used for vacuum ultraviolet lights having a wavelength of 175 nm or less which is characterized in that it has an OH group content of 100 ppm or less and is substantially free of reducing type defects.
Abstract translation: 用于波长为175nm以下的真空紫外光的合成石英玻璃，其特征在于其OH基含量为100ppm以下，基本上不含还原型缺陷。
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283.发明申请
公开(公告)号：WO98040319A1
公开(公告)日：1998-09-17
申请号：PCT/EP1998/001311
申请日：1998-03-06
CPC classification number: C03C4/0085 , C03B19/1407 , C03B19/1423 , C03B2201/07 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/62 , C03C3/06 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40
Abstract: The invention relates to a synthetic quartz glass preform which is produced according to the flame hydrolysis technique with subsequent cooling and is suitable for the application of high-energy DUV radiation in the wave length range under 250 nm. Said preform has a core area which contains >/=1150 ppm OH, a strain double refraction of /=300 Hz, laser shot value >/=10 and lumination , and wavelength lambda 2 = 193 nm, laser shot frequency >/=300 Hz, laser shot value >/=10 and lumination . A device for producing said preform comprises a horizontally positioned muffle with two different-sized openings facing each other. The larger of said openings is for removing the preform, the smaller opening being for introducing a burner. The internal chamber of the muffle narrows from the larger opening to the smaller opening.
Abstract translation: 合成石英玻璃，其已准备通过与随后的冷却火焰水解的过程并适用于在波长范围低于250nm的高能DUV辐射的应用程序的一个预型件，具有一芯区，其> / = 1150 ppm，则应力双折射的OH含量< / = /厘米厚度给出5纳米/厘米，其耐高能DUV辐射通过的ΔT / = 300赫兹，激光发射数> / = 10 <9>和能量密度和波长为λ2 = 193nm处， 激光照射次数> / = 300赫兹，激光发射数> / = 10 <9>和能量密度。 一种用于制造预制件装置包括具有不同尺寸的两个相对的开口，其中所述较大的用于去除所述预型体和中较小的一个用于引入的燃烧器的水平布置的马弗。 马弗管的内部从与较小开口较大变窄。
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284.发明申请SYNTHETIC QUARTZ GLASS OPTICAL MEMBER FOR EXCIMER LASER AND PRODUCTION THEREOF 审中-公开合成石英玻璃光学元件，用于激光及其生产
公开(公告)号：WO1993000307A1
公开(公告)日：1993-01-07
申请号：PCT/JP1992000821
申请日：1992-06-29
Applicant: SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS COMPANY LIMITED , NISHIMURA, Hiroyuki; , FUJINOKI, Akira; , MATSUYA, Toshikatsu; , INAKI, Kyoichi; , KATO, Toshiyuki; , SHIMADA, Atsushi;
IPC: C03C03/06
CPC classification number: C03B37/014 , C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B2201/02 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2203/22 , C03B2207/32 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , G03F7/70958 , Y02P40/57 , Y10S65/08 , Y10S501/90
Abstract: A synthetic quartz glass optical member for an ultraviolet laser, suitably applicable as a stepper lens of a lithographer using an excimer laser beam and other optical members, wherein the quartz glass has a hydroxyl content of 10 to 100 ppm, a chlorine content of 200 ppm or less, a hydrogen content of 1 x 1016 molecules/cm3 or less, a homogeneity of refractive index of 5 x 10-6 or less in terms of Δn, and a birefringence of 5 nm/cm or less. The optical member can be produced by subjecting a volatile silicon compound to flame hydrolysis with oxyhydrogen flame, depositing the formed particulate silica on a heat-resistant support to prepare a porous silica matrix, heating the matrix in a vacuum as high as 1 x 10-2 Torr or above to a temperature of 1,400 °C or above to effect dehydration and degassing, homogenizing the resultant transparent quartz glass into highly homogeneous quartz glass free from striae in at least one direction, molding the highly homogeneous quartz glass, and annealing the molded glass.
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公开(公告)号：KR1020170137622A
公开(公告)日：2017-12-13
申请号：KR1020170060426
申请日：2017-05-16
Applicant: 쿠어스택 가부시키가이샤
IPC: C03C4/00 , C03B27/012 , G03F7/20
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1461 , C03B25/02 , C03B27/02 , C03B27/028 , C03B27/04 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03C4/0085
Abstract: 본발명은진공자외광의광투과성이높고, 또한, 실온부근에서 4.0×10/K 이하라고하는저열팽창성을갖는실리카유리부재, 특히 ArF 엑시머레이저(193 ㎚)를광원으로하는더블패터닝노광공정에이용되는포토마스크기판으로서적합한실리카유리부재를제공한다. 상기실리카유리부재는, 진공자외광을광원으로하는광리소그래피공정에사용되는실리카유리로서, 불소농도가 1 wt% 이상 5 wt% 이하이고, 또한, 20℃∼50℃에있어서의열팽창계수가 4.0×10/K 이하이다.
Abstract translation: 本发明恩金丘外部光的高透光性，并且还使用具有低的热膨胀的石英玻璃物质的双重图案化曝光步骤，特别是ArF准分子激光（193㎚）光源的4.0×10 / K或在约室温下较少 提供适合作为光掩模基板的石英玻璃部件。 其中所述二氧化硅玻璃构件是在真空紫外光的光刻步骤作为光源，1重量％或小于5重量％的氟浓度使用的石英玻璃，除此之外，20℃〜50℃4.0的热膨胀系数 ×10 / K以下。
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Patent Agency Ranking286.发明公开ＡｒＦ 엑시머 레이저 리소그래피에서의 사용을 위한 석영 유리로 만들어진 광학 컴포넌트 및 그 컴포넌트를 제조하는 방법 审中-实审用于ARF EXCIMER激光光刻的QUARTZ玻璃的光学部件及其制造方法
公开(公告)号：KR1020150138170A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：KR1020157022805
申请日：2014-02-19
Applicant: 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지
Inventor： 퀸보도
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B32/02 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2201/24 , C03C4/04 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2203/54 , C03C2204/00 , G02B1/00 , G02B1/02 , Y02P40/57
Abstract: 본발명은, 193 nm 의적용파장을갖는 ArF 엑시머레이저리소그래피프로세스에서의사용을위한합성석영유리로만들어지며, 실질적으로산소결함사이트가없는유리구조, 0.1 x 10molecule/cm내지 1.0 x 10molecule/cm범위의수소함량, 2 x 10molecule/cm미만의 SiH 기의함량, 및 0.1 과 100 wt. ppm 사이의범위의히드록실기의함량을포함하고, 상기유리구조가 1070℃미만의가상온도를갖는, 광학컴포넌트에관한것이다. 본발명의목적은 633 nm 의측정파장을이용하여압축거동의측정에기초한적용파장으로 UV 레이저방사선을이용할때 압축거동의신뢰적인예측을허용하는것이다. 이것은, 컴포넌트가, 펄스폭이 125 ns 이고 2000 Hz 의펄스반복주파수에서각각의에너지밀도가 500 μJ/cm인 5x10개펄스들을이용하여 193 nm 의파장을갖는방사선에의한조사에응답하여레이저유도굴절률변화를겪고, 상기변화는, 193 nm 의적용파장을이용한측정시제 1 측정값 M의합계를내고, 633 nm 의측정파장을이용하여측정시제 2 측정값 M의합계를내고, 여기서 M/M
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公开(公告)号：KR101497385B1
公开(公告)日：2015-03-03
申请号：KR1020137032508
申请日：2013-02-19
Applicant: 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤
Inventor： 야마가타,시게루
CPC classification number: C03B19/02 , C03B19/095 , C03B2201/04 , C03B2201/07 , C03B2201/23 , C03B2201/54 , C03C3/06 , C03C8/02 , C03C10/0009 , C03C21/008 , C03C23/007 , C03C2201/02 , C03C2201/54 , C03C2201/80 , C03C2203/10 , C30B15/10 , C30B29/06 , Y02P40/57 , Y10T117/1032
Abstract: 본 발명은, 내측에 투명 실리카 유리로 이루어지는 투명층을 가지고, 외측에 기포를 함유하는 불투명 실리카 유리로 이루어지는 불투명층을 가지는 단결정 실리콘 인상용 실리카 용기로서, 상기 투명층이, 상기 실리카 용기의 내표면측에 위치하고, OH기를 200~2000massppm의 농도로 함유하는 고OH기층과, 상기 고OH기층보다도 OH기 농도가 낮은 저OH기층으로 이루어지고, 상기 고OH기층이 Ba을 50~2000massppm의 농도로 함유하는 것인 단결정 실리콘 인상용 실리카 용기이다. 이에 의해, 단결정 실리콘 인상용으로 실리카 용기를 이용했을 경우에, 상기 용기 사용 개시 후 단시간에 상기 용기의 투명 실리카 유리로 이루어지는 내측표면의 전면이 미세결정화(유리 세라믹스화)함으로써, 상기 용기 내측표면의 실리콘 융액에 대한 내에칭성(내침식성)을 대폭 향상시키는 것과 같은 실리카 용기, 및, 그러한 실리카 용기의 제조 방법이 제공된다.
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公开(公告)号：KR101494470B1
公开(公告)日：2015-02-17
申请号：KR1020090010174
申请日：2009-02-09
Applicant: 코닝 인코포레이티드
Inventor： 피아코,리차드마이클 , 흐디나,케네쓰에드워드 , 크랍코,로스티슬라프라디에비치 , 무어,리사앤 , 스미스,칼렌마리
CPC classification number: C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/22 , C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/22 , C03C2201/23 , C03C2203/54 , G03F7/70966
Abstract: 약 50㎠ 이상의 개구부 면적에 걸쳐 약 5ppm 이하의 굴절율 균일성을 갖는 융합 실리카 유리이다. 상기 융합 실리카 유리는 또한 실질적으로 할로겐을 포함하지 않으며, 약 160nm 미만의 흡수엣지를 갖는다. 상기 유리는 고화 전에 실리카 수트 블랭크를 일산화탄소에 노출시킴으로써 건조되며 하이드록실(즉, OH, 여기서 H는 경수소 및 듀트록실(OD)이고, 상기 D는 중수소이다)의 결합농도를 일 구체예에서 약 20 중량ppm, 다른 구체예에서 5 중량ppm, 또 다른 구체예에서 1 중량ppm 감소시킨다.
융합실리카, 수트, 흡수엣지, 일산화탄소, 중수소, 경수소-
公开(公告)号：KR1020140010167A
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：KR1020137032508
申请日：2013-02-19
Applicant: 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤
Inventor： 야마가타,시게루
CPC classification number: C03B19/02 , C03B19/095 , C03B2201/04 , C03B2201/07 , C03B2201/23 , C03B2201/54 , C03C3/06 , C03C8/02 , C03C10/0009 , C03C21/008 , C03C23/007 , C03C2201/02 , C03C2201/54 , C03C2201/80 , C03C2203/10 , C30B15/10 , C30B29/06 , Y02P40/57 , Y10T117/1032
Abstract: 본 발명은, 내측에 투명 실리카 유리로 이루어지는 투명층을 가지고, 외측에 기포를 함유하는 불투명 실리카 유리로 이루어지는 불투명층을 가지는 단결정 실리콘 인상용 실리카 용기로서, 상기 투명층이, 상기 실리카 용기의 내표면측에 위치하고, OH기를 200~2000massppm의 농도로 함유하는 고OH기층과, 상기 고OH기층보다도 OH기 농도가 낮은 저OH기층으로 이루어지고, 상기 고OH기층이 Ba을 50~2000massppm의 농도로 함유하는 것인 단결정 실리콘 인상용 실리카 용기이다. 이에 의해, 단결정 실리콘 인상용으로 실리카 용기를 이용했을 경우에, 상기 용기 사용 개시 후 단시간에 상기 용기의 투명 실리카 유리로 이루어지는 내측표면의 전면이 미세결정화(유리 세라믹스화)함으로써, 상기 용기 내측표면의 실리콘 융액에 대한 내에칭성(내침식성)을 대폭 향상시키는 것과 같은 실리카 용기, 및, 그러한 실리카 용기의 제조 방법이 제공된다.
Abstract translation: 在本发明具有由在内侧的透明石英玻璃构成的透明层，作为具有由含有气泡向外部，透明层，二氧化硅容器的内表面侧的不透明石英玻璃的不透明层中的单晶硅提拉用二氧化硅容器 含有浓度为200〜2000质量ppm的OH基的高OH基层和OH基浓度低于OH基的低OH基层和含有浓度为50〜2000质量ppm的Ba的高OH基层 是一种用于拉制单晶硅的二氧化硅容器。 其结果是，当使用二氧化硅容器来提拉单晶硅时，容器的透明二氧化硅玻璃制成的内表面的整个表面在开始使用容器后在短时间内微结晶（玻璃陶瓷） 一种二氧化硅容器，以显着提高对硅熔体的抗蚀性（抗侵蚀性），以及一种生产这种二氧化硅容器的方法。
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公开(公告)号：KR100653861B1
公开(公告)日：2006-12-05
申请号：KR1020057007709
申请日：2003-11-28
Applicant: 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/1453 , C03B2201/03 , C03B2201/04 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/20 , C03B2201/24 , C03C2201/02 , C03C2201/11 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/26
Abstract: 첫 번째로, 불순물이 적고 천연 석영 유리와 동등 이상의 고온 점도 특성을 가지고, 고온 환경하에서도 변형하기 어려운 합성 석영 유리의 제조 방법, 특히 발포가 없고 치밀한 고내열성 합성 석영 유리의 제조 방법을 제공한다.
두 번째로, 본 발명의 제조 방법에 의하여 용이하게 얻어지는 고내열성 합성 석영 유리체, 특히 발포가 없고 치밀하며, 적외선 흡수율 및 방출율이 높고, 또 알칼리금속 확산 방지 효과가 대단히 높은 투명 또는 흑색 유리체를 제공한다.
245nm의 흡수 계수가 0.05cm
-1 이상인 고내열성 석영 유리체를 제조하는 방법으로, 실리카 다공질체를 환원 처리한 후, 소성해서 치밀한 유리체로 하도록 했다.
고내열성 합성 석영 유리, 실리카 다공질체, 환원 처리, 치밀한 유리체, 발포, 고온 점도 특성, 석영 유리 지그, 투명 석영 유리, 흑색 석영 유리, 실라잔, 휘발성 규소화합물
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