Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen eines reversibel angebrachten Vorrichtungswafers von einem Trägersubstrat

    公开(公告)号:DE102010027703B4

    公开(公告)日:2014-10-16

    申请号:DE102010027703

    申请日:2010-07-20

    Abstract: Ringklemme (41) zum Trennen von gebondeten Substraten, die ein erstes Substrat (12) und ein zweites Substrat (22) enthalten, wobei die Ringklemme einen planaren Ringklemmenkörper (42) mit einer runden Form und einer zentralen Öffnung (43) hat, wobei der Körper (42) aufweist: eine ringförmige innere Seitenwand (45); eine ringförmige äußere Seitenwand (46); eine obere Oberfläche (48), die sich zwischen der inneren Seitenwand (45) und der äußeren Seitenwand (46) erstreckt; eine Wafereingriffsfläche (50), die sich von der inneren Seitenwand (45) nach außen erstreckt, wobei die Wafereingriffsfläche (50) an einem Punkt in dem Körper endet, der von der äußeren Seitenwand (46) beabstandet ist; und eine sich nach innen erstreckende ringförmige Rippe (52), die von diesem Punkt nach innen gerichtet und weg von der Wafereingriffsfläche (50) abgeschrägt ist, wobei die Wafereingriffsfläche (50) und die ringförmige Rippe (52) zusammen eine ringförmige Waferaufnahmenut (58) bilden, wobei der Ringklemmenkörper (42), wenn er eingeklemmt ist, nur mit dem zweiten Substrat (22) in Eingriff steht und keinen Kontakt mit dem ersten Substrat (12) hat.

    MULTIPLE BONDING LAYERS FOR THIN-WAFER HANDLING

    公开(公告)号:SG187739A1

    公开(公告)日:2013-03-28

    申请号:SG2013009121

    申请日:2011-08-05

    Abstract: Multiple bonding layer schemes that temporarily join semiconductor substrates are provided. In the inventive bonding scheme, at least one of the layers is directly in contact with the semiconductor substrate and at least two layers within the scheme are in direct contact with one another. The present invention provides several processing options as the different layers within the multilayer structure perform specific functions. More importantly, it will improve performance of the thin-wafer handling solution by providing higher thermal stability, greater compatibility with harsh backside processing steps, protection of bumps on the front side of the wafer by encapsulation, lower stress in the debonding step, and fewer defects on the front side.

    SCRATCH-RESISTANT COATINGS FOR PROTECTING FRONT-SIDE CIRCUITRY DURING BACKSIDE PROCESSING

    公开(公告)号:SG179209A1

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:SG2012019063

    申请日:2010-09-15

    Abstract: Scratch-resistant coatings for protecting front-side microelectromechanical and semiconductor device features during backside processing are provided, along with methods of using the same. The coatings are non-photosensitive, removable, and tolerate high processing temperatures. These coatings also eliminate the need for a separate etch stop layer in the device design. The coatings are formed from a composition comprising a component dissolved or dispersed in a solvent system. The component is selected from the group consisting of styrene-acrylonitrile copolymers and aromatic sulfone polymers.

    Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen eines reversibel angebrachten Vorrichtungswafers von einem Trägersubstrat

    公开(公告)号:DE102010027703A1

    公开(公告)日:2011-12-22

    申请号:DE102010027703

    申请日:2010-07-20

    Abstract: Durch die vorliegende Erfindung werden neue Demounting-Verfahren und -Vorrichtungen zum Trennen von temporär, permanent oder semi-permanent gebondeten Substraten sowie Gegenstände zur Verfügung gestellt, die durch diese Verfahren und Vorrichtungen gebildet werden. Die Verfahren umfassen das Demounting eines Vorrichtungswafers von einem Trägerwafer oder Substrat, die lediglich an ihren äußeren Rändern fest gebondet sind. Die Randbonds werden chemisch, mechanisch, akustisch oder thermisch aufgeweicht, aufgelöst oder zerrissen, um zu ermöglichen, dass die Wafer mit sehr geringen Kräften und bei oder nahe Raumtemperatur in einem geeigneten Stadium des Herstellungsprozesses leicht getrennt werden können. Außerdem wird eine Klemme zur Verfügung gestellt, um das Trennen der gebondeten Substrate zu erleichtern.

    HIGH-TEMPERATURE, SPIN-ON, BONDING COMPOSITIONS FOR TEMPORARY WAFER BONDING USING SLIDING APPROACH

    公开(公告)号:SG175589A1

    公开(公告)日:2011-11-28

    申请号:SG2011072709

    申请日:2007-09-21

    Abstract: New compositions and methods of using those compositions as bonding compositions are provided. The compositions comprise a polymer dispersed or dissolved in a solvent system, and can be used to bond an active wafer to a earner wafer or substrate to assist in protecting the active wafer and its active sites during subsequent processing and handling. The compositions form bonding layers that are chemically and thermally resistant, but that can also be softened to allow the wafers to slide apart at the appropriate stage in the fabrication process.FIGURE 1

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