-
公开(公告)号：JP2014532180A
公开(公告)日：2014-12-04
申请号：JP2014533738
申请日：2012-10-03
Applicant: エフエーイー・カンパニーFei Company , エフエーイー・カンパニーFei Company
Inventor： エイドリアン・ポール・シェパード , アンドリュー・モーリス・キングストン , トロン・カーステン・ヴァーシュロット
IPC: G01N23/04
CPC classification number: G06T11/005 , G01N23/046 , G01N2223/419 , G01N2223/616
Abstract: それぞれの様々な、放射線と被写体の相対的な向きに対して被写体を貫通した放射線を検出することによって、被写体の投影画像を取得するステップと、被写体のトモグラムを生成するように、投影画像を処理するステップと含み、放射線は、発散ビームの形態において被写体を貫通し、様々な、放射線のビームと被写体の相対的な向きは、被写体に沿ったビームの2つ以上の完備な軌道を規定し、完備な軌道は、被写体を通したビームの発散による、生成したトモグラムの一部における空間解像度の劣化を低減するように、互いにオフセットする、コンピュータ断層撮影画像処理方法。
Abstract translation: 每个品种，检测出通过对辐射和所述对象的相对取向的物体的辐射，获得对象的投影图像，以生成被摄体的断层图像，投影图像处理 其中辐射的步骤贯通发散光束的形式的主体，所述辐射束的不同，相对方位和目的是沿着对象定义梁的两个或更多个完整的轨迹， 配备轨迹，以便通过穿过对象的光束的发散度减小，在所得到的断层图像的部分空间分辨率的劣化，相互抵消，所述计算机断层摄影图像处理方法。
-
公开(公告)号：JP5634030B2
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：JP2009077936
申请日：2009-03-27
Applicant: エフ イー アイ カンパニFei Company , エフ イー アイ カンパニFei Company
IPC: H01J37/20 , G01N23/225 , G01Q30/02 , G01Q30/16
CPC classification number: H01J37/023 , H01J37/16 , H01J37/28 , H01J37/3056 , H01J2237/188 , H01J2237/2003 , H01J2237/2608 , H01J2237/31749
-
公开(公告)号：JP2014216319A
公开(公告)日：2014-11-17
申请号：JP2014086240
申请日：2014-04-18
Applicant: エフ イー アイ カンパニFei Company , Fei Co , エフ イー アイ カンパニFei Company , マックス プランク ゲゼルシャフト ツール フォーデルング デル ヴィッセンシャフテン , Max Planck Ges Zur Foerderung Der Wissenschaften , マックス プランク ゲゼルシャフト ツール フォーデルング デル ヴィッセンシャフテン
Inventor： BART BUIJSSE , RADOSTIN STOYANOV DANEV
IPC: H01J37/295 , H01J37/26
CPC classification number: H01J37/263 , H01J37/285 , H01J2237/2614
Abstract: 【課題】本発明は透過型電子顕微鏡(100)内において薄膜を含む位相板を用いる方法に関する。【解決手段】本発明による方法は:前記透過型電子顕微鏡内に前記位相板を導入する段階;前記薄膜に集束電子ビームを照射することによって前記位相板を準備する段階;前記透過型電子顕微鏡内に試料を導入する段階;及び、前記の準備された位相板を用いて前記試料の画像を生成する段階を有する。前記位相板を準備する段階は、前記位相板に集束電子ビームを照射することによる前記薄膜の電子構造の変化の結果生じる真空ポテンシャルを局所的に発生させ、かつ、前記真空ポテンシャルは、絶対位相シフト|φ|を非照射薄膜での値よりも小さくすることを特徴とする。前記位相板は汚染を回避するように加熱されることが好ましい。前記位相板によって実現される位相シフトは、照射されたスポットの直径を変化させることによって調整されて良い。【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种在透射电子显微镜（100）中使用包括薄膜的相位板的方法。解决方案：该方法包括：在透射电子显微镜中引入相位板; 通过用聚焦电子束照射薄膜来制备相位板; 在透射电子显微镜中引入样品; 以及通过使用所制备的相位板产生样品的图像。 制备相位板的步骤包括通过用聚焦电子束照射相位板来局部地形成由薄膜的电子结构的变化而产生的真空电位。 真空电位导致绝对相移| | phgr | | 其值比未经照射的薄膜的值小。 优选地，相板被加热以避免污染。 可以通过改变照射光斑的直径来调节用相位板实现的相移。
-
公开(公告)号：JP6951298B2
公开(公告)日：2021-10-20
申请号：JP2018130626
申请日：2018-07-10
Applicant: エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
Inventor： キャメロン ジェームズ ザックリーソン , ドルフ ティマーマン , ミロス トス , ホルヘ フィレヴィッチ , スティーヴン ランドルフ , アウレリエン フィリッペ ジーン マクロウ ボトマン
IPC: H01J37/317 , H01J37/28 , H01J37/22
-
公开(公告)号：JP2021163755A
公开(公告)日：2021-10-11
申请号：JP2021054628
申请日：2021-03-29
Applicant: エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
Inventor： アレクサンダー ヘンストラ , ユチェン デン , ホルガー コール
Abstract: 【課題】未知の構造の試料に対して、回折ホログラフを生成する方法を提供する。 【解決手段】電子回折ホログラフィを使用してサンプルを調査するための方法は、サンプルに向けて複数の電子を放出し、複数の電子を第1の電子ビームおよび第2の電子ビームに形成し、および2つのビームが異なる焦点面を有するように、2つのビームのうちの少なくとも一方の焦点特性を修正する初期ステップを含む。2つのビームが異なる焦点面を有する場合、方法は、第1の電子ビームがサンプルにまたはサンプルの近くに焦点面を有するように、第1の電子ビームを集束させることと、第2の電子ビームが、サンプルに入射し、かつ回折面内に焦点面を有するように、第2の電子ビームを集束させることと、を含む。次いで、第1の電子ビームと回折された第2の電子ビームとの干渉パターンが、回折面内に検出され、次いで、回折ホログラフを生成するために使用される。 【選択図】図1
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6940985B2
公开(公告)日：2021-09-29
申请号：JP2017123886
申请日：2017-06-26
Applicant: エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
Inventor： エリック ヘラルドゥス セオドール ボッシュ , バルト ヨゼフ ヤンセン
-
公开(公告)号：JP2021096475A
公开(公告)日：2021-06-24
申请号：JP2020208077
申请日：2020-12-16
Applicant: エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
IPC: G01N23/041 , H01J37/26 , H01J37/22 , G03H1/04
Abstract: 【課題】電子ベースのホログラムの改良された再構成のための装置および方法を提供する。 【解決手段】電子ベースのホログラムの改良された再構成のための装置および方法が、本明細書に開示されている。例示的な方法は、少なくとも、試料および既知の物体のホログラムを形成することと、再構成アルゴリズムを使用して、既知の物体の再構成を形成することと、既知の物体の再構成を既知の物体の参照再構成と比較することと、既知の物体の再構成と既知の物体の参照再構成との比較に基づいて、再構成アルゴリズムを調整することと、を含む。例示的な方法は、調整された再構成アルゴリズムを使用して、試料の再構成を形成することをさらに含み得る。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JP2021082587A
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：JP2020189254
申请日：2020-11-13
Applicant: エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
Inventor： エドウィン ロベルト マリア ヴェルシューレン , ポール タックス
IPC: H01L41/09 , H01L41/193 , H01L41/187 , H01L41/04 , H01J37/20
Abstract: 【課題】圧電要素などのクランプ要素を備える位置決めシステムを操作するためのシステムおよび方法を提供する。 【解決手段】位置決めシステム200のクランプ要素が移動体要素242,244に向かって第1の方向に移動するように、クランプ要素駆動信号を駆動ユニットクランプ要素に印加し、駆動ユニットクランプ要素と移動体要素との間の不整合を少なくとも部分的に補償するために、剪断要素が第2の方向に移動するように、剪断要素駆動信号を駆動ユニット剪断要素に印加し、剪断要素駆動信号は、駆動ユニットクランプ要素が移動体要素に接触する角度に起因する移動体要素の動きを少なくとも部分的に補償する。 【選択図】図2A
-
公开(公告)号：JP2021082586A
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：JP2020189052
申请日：2020-11-13
Applicant: エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
Inventor： アルベルト フィッシェル
IPC: H01J37/20
Abstract: 【課題】ワークピースを荷電粒子ビームシステム内に、正確に保持するためのポジショニングシステムと方法を提供する。 【解決手段】電子顕微鏡用ポジショニングシステム110は、ワークピースWを保持するためのホルダを備える第1のキャリッジと、第2のキャリッジとを含む。第1のキャリッジは、ワークピースWを、第1、第2、および第3の軸に沿って、ならびに第1の傾斜軸に沿ってポジショニングするように構成された1つ以上の第1の駆動ユニットに結合されている。第2のキャリッジは、1つ以上の第1の駆動ユニットを収容し、ワークピースWを第2の傾斜軸に沿ってポジショニングするように構成された1つ以上の第2の駆動ユニットに結合されている。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JP2021039943A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2020142380
申请日：2020-08-26
Applicant: エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
Inventor： マールテン カウペル , オンドレイ ルドミル シャーネル , マティユス ペトラス ヴァン デン ブーガード , プレウン ドナ
Abstract: 【課題】 極低温適合性試料グリッドを提供する。 【解決手段】 本開示によるマルチモーダル極低温EM適合性GUIDを有する極低温適合性試料グリッドは、1つ以上の試料を保持するためのグリッドの領域を画定する外部支持構造と、それぞれが試料を保持するように構成された複数の開口部を画定する複数の内部支持構造とを含む。極低温適合性試料グリッドはさらに、外部支持構造上に位置する第1の識別子と、1つ以上の試料を保持するためのグリッドの領域内に位置する第2の識別子とを含む。第1の識別子は、光学検出器で読み取り可能であり、第2の識別子は、電子検出器(例えば電子顕微鏡内)で読み取り可能である。具体的には、第2の識別子を構成する1つ以上の歯および/または穴がガラス化プロセスからの氷で充填されると、第2の識別子は電子検出器で読み取り可能である。 【選択図】図1
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
2898
records
(took 0.037 seconds)
