公开(公告)号：CN103781935A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201180072988.7

申请日：2011-08-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·哈尼卡 ,  R·林德伯格 ,  C·灿格尔

IPC: C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  C23C8/04 ,  C23C10/04 ,  C23C2/00 ,  C23C4/02 ,  C23C4/00

CPC classification number: C23C8/04 ,  C23C2/006 ,  C23C4/01 ,  C23C10/04 ,  C23C14/042 ,  C23C16/042

Abstract: 在此叙述配置用以沉积层于一矩形基板上的遮罩结构，例如配置用以沉积层于矩形基板上的边缘排除遮罩。遮罩结构包括遮罩框，用于在层沉积过程中遮盖基板的边缘，其中遮罩框包括至少两个遮罩框侧边部分，于至少两个遮罩框侧边部分之间的角落区域形成角落，其中遮罩框是以与矩形基板的边缘重迭的方式成形，使得位于遮罩框侧边部分处的第一重迭宽度大于位于角落区域的第二重迭宽度。

公开(公告)号：CN103314130A

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：CN201180065117.2

申请日：2011-10-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： E·谢尔 ,  M·哈尼卡 ,  R·林德伯格 ,  M·班德尔 ,  A·洛珀 ,  K·施沃恩特兹 ,  F·皮耶拉利西 ,  J·刘

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  H01J37/34

CPC classification number: H01J37/32532 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/35 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3455

Abstract: 提供了一种用于溅射沉积装置的阴极组件（130、200、300、400）以及用于涂布基板的方法。阴极组件具有用于在基板上涂布的涂布侧。此外，阴极组件包括：旋转靶组件，所述旋转靶组件适合于围绕旋转轴（220、320、420）旋转靶材料（210、310、410）；至少一个第一磁体组件（230、330、340、430、431、432、433），所述至少一个第一磁体组件具有内部磁极和至少一个外部磁极且适于产生一个或多个等离子体区（240、250、340、350、440、441、442、443）。阴极组件（130、200、300、400）具有对于一个磁极的第一角坐标，将所述磁极提供用于所述涂布侧；以及对于另一磁极的第二角坐标，将所述磁极提供用于涂布侧；其中第一角坐标（260、360、460）和第二角坐标（270、370、461）界定大于约20度且小于约160度的角度α。

公开(公告)号：CN206872945U

公开(公告)日：2018-01-12

申请号：CN201490001432.8

申请日：2014-05-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： S·劳 ,  R·林德伯格

IPC: C23C16/04 ,  C23C14/04 ,  C23C16/458

CPC classification number: C23C16/042 ,  C23C14/042 ,  C23C16/4585

Abstract: 描述一种基板边缘掩模系统。所述基板边缘掩模系统包括：基板固定元件，所述基板固定元件用于保持所述基板；掩模元件，所述掩模元件用于覆盖所述基板的边缘的至少一部分；以及基板接触元件，所述基板接触元件被连接至所述掩模元件并且用于接触所述基板。

公开(公告)号：CN206927946U

公开(公告)日：2018-01-26

申请号：CN201490001478.X

申请日：2014-05-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： R·林德伯格 ,  W·克莱恩 ,  S·劳 ,  T·伯格

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  G03F7/20 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  C03B35/20

CPC classification number: C23C14/50 ,  C23C14/562 ,  C23C16/458 ,  C23C16/545 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32752 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/68721

Abstract: 本实用新型提供了用于在真空处理腔室中支撑基板的载体和用于在基板上沉积层的设备。所述载体(100)包括：载体主体(110)，所述载体主体被配置成用于沿所述线性传送路径(133)来进行传送；以及至少一个基板支撑布置(120)，所述至少一个基板支撑布置(120)提供在所述载体主体(110)处并配置成用于支撑所述基板(101)，其中所述基板支撑布置(120)被配置成限定所述基板(101)的至少一个弯曲轴(130)，其中所述至少一个弯曲轴(130)具有基本上竖直的取向。

公开(公告)号：CN206654950U

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201490001441.7

申请日：2014-05-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： M·班德尔 ,  F·皮耶拉利西 ,  E·希尔 ,  D·泽韦林 ,  H·嘉特纳 ,  R·林德伯格

IPC: C23C14/22 ,  C23C14/35 ,  C23C14/56 ,  H01J37/34

CPC classification number: C23C14/225 ,  C23C14/352 ,  C23C14/568 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3429 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3452

Abstract: 提供了一种通过旋转靶材组件在两个涂布区域中涂布基板的装置。此溅射沉积装置具有两个或更多个涂布区域以用于涂布所述基板。所述溅射沉积装置包括第一基板导引系统，用以在第一涂布区域中导引所述基板，其中所述第一基板导引系统定义第一基板输送方向。所述溅射沉积装置还包括第二基板导引系统，用以在第二涂布区域中导引所述基板，所述第二基板导引系统定义第二基板输送方向。所述第二基板输送方向是与所述第一基板输送方向相同的方向或不同于所述第一基板输送方向。所述溅射沉积装置还包括：第一阴极组件、第二阴极组件、第三阴极组件以及第四阴极组件。