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公开(公告)号：CN107768277A
公开(公告)日：2018-03-06
申请号：CN201710704464.4
申请日：2017-08-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/027
CPC classification number: B05D1/60 , B05D3/007 , G03F7/0002 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/02318 , H01L21/0273 , H01L21/67103 , H01L21/68742
Abstract: 本发明公开热处理装置、基板处理装置、热处理方法及基板处理方法。在该处理装置的室内容纳有加热板。在该室内存在含溶剂气体的状态下，在加热板的上方位置保持形成有DSA膜的基板。由此，以不产生微相分离的温度对环境气体进行中性化。然后，在该室内存在含溶剂气体的状态下，在加热板的上表面上保持基板。由此，对基板上的DSA膜进行热处理。
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公开(公告)号：CN107636803A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680031648.2
申请日：2016-04-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/30
CPC classification number: G03F7/16 , G03F7/30 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种可以将不同种类的处理液分离并回收的基板处理装置及基板处理方法。该基板处理装置包括：旋转卡盘，其保持基板；处理液供给单元，其对由基板保持部保持的基板的被处理面供给具有第一比重的第一处理液与具有第二比重的第二处理液；贮存部，其贮存对基板供给后的使用过的第一及第二处理液；处理液分离机构，其将贮存于贮存部的第一处理液与第二处理液基于比重而分离。以旋转卡盘保持基板。在该状态下，经由涂敷处理单元对基板的被处理面供给第一及第二处理液。第二处理液的比重小于第一处理液的比重。将对基板供给后的使用过的第一及第二处理液贮存于回收箱。经由处理液分离机构将贮存于回收箱内的第一处理液及第二处理液基于比重而分离。
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公开(公告)号：CN107615458A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680031649.7
申请日：2016-04-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , B05C11/08 , B05C11/10 , B05D3/00 , B05D3/10 , B05D7/24 , H01L21/027
CPC classification number: B05D1/005 , B05C11/08 , B05C11/10 , B05D3/007 , C23F1/00 , C23F1/08 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/67167 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/68707
Abstract: 本发明的基板处理装置具有：涂敷处理单元，其通过将含有金属的涂敷液作为含金属涂敷液向基板的被处理面供给，由此在被处理面形成含金属涂敷膜；金属去除单元，其在通过涂敷处理单元来形成含金属涂敷膜后，以含金属涂敷膜残留在基板的被处理面的除周缘部以外的区域的方式，向基板的周缘部供给用于使金属溶解的去除液；以及搬送机构，其在通过涂敷处理单元来形成含金属涂敷膜后，将基板搬送至金属去除单元。通过由涂敷处理单元向基板的被处理面供给含金属涂敷液，来在被处理面形成含金属涂敷膜。通过搬送机构将形成含金属涂敷膜后的基板搬送至金属去除单元。通过金属去除单元，以含金属涂敷膜残留在基板被处理面的除周缘部以外的区域的方式对基板的周缘部供给去除液。
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公开(公告)号：CN113327871B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202110556130.3
申请日：2016-04-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/027 , B05B13/02 , B05B15/68 , B05D3/10 , B05D7/24
Abstract: 基板处理装置具备膜形成单元、周缘部去除单元和搬送机构，膜形成单元包括：第一旋转保持部，将基板保持为水平姿势并使其旋转；涂敷液喷嘴，向由第一旋转保持部旋转的基板的被处理面喷出含金属涂敷液，周缘部去除单元包括：第二旋转保持部，将基板保持为水平姿势并使其旋转；第一去除液喷嘴，向由第二旋转保持部旋转的基板的被处理面的周缘部喷出第一去除液，膜形成单元和周缘部去除单元的至少一个还包括：第二去除液喷嘴，其向旋转的基板的被处理面的周缘部喷出用于使涂敷液溶解的第二去除液，第一去除液喷嘴在通过从第二去除液喷嘴喷出的第二去除液溶解基板的被处理面的周缘部的涂敷液后，喷出第一去除液，溶解基板的被处理面的周缘部的金属。
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公开(公告)号：CN110100301B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201780077239.0
申请日：2017-10-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明的曝光装置(100)具备投光部(160)、照度计(183)、遮光部(190)、投光控制部(12)。通过投光部向衬底(W)的被处理面照射真空紫外线。在从投光部向衬底照射真空紫外线的照射期间，通过照度计接收一部分真空紫外线，并计测所接收到的真空紫外线的照度。在照射期间，通过遮光部断断续续地遮挡真空紫外线向照度计的受光面的入射。基于通过照度计所计测出的照度，使投光部停止向衬底照射真空紫外线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108428625B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN201810095258.2
申请日：2018-01-31
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，处理涂覆有定向自组装材料的基板，该基板处理方法具备加热工序和冷却工序。加热工序将处理容器内保持为非氧化性气体环境，并且使基板位于加热位置，从而加热基板以使定向自组装材料相分离。冷却工序将处理容器内保持为非氧化性气体环境，使基板位于与加热位置相比离加热部远的处理容器内的冷却位置，向处理容器内供给非氧化性气体，并且排出处理容器内的气体，从而冷却基板。
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公开(公告)号：CN107833847B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201710832694.9
申请日：2017-09-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供蚀刻装置、基板处理装置、蚀刻方法以及基板处理方法。在第一期间，基板旋转并向基板上供给作为低挥发液的纯水。停止喷出低挥发液后，低挥发液残留在DSA膜上广泛的区域。低挥发液不与DSA膜反应而保持在DSA膜上。在接下来的第二期间，基板旋转并向基板供给有机溶剂。供给给基板的有机溶剂与DSA膜上残留的低挥发液混合。该情况下，DSA膜上有机溶剂的挥发被抑制。
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公开(公告)号：CN107636803B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201680031648.2
申请日：2016-04-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/30
Abstract: 本发明提供一种可以将不同种类的处理液分离并回收的基板处理装置及基板处理方法。该基板处理装置包括：旋转卡盘，其保持基板；处理液供给单元，其对由基板保持部保持的基板的被处理面供给具有第一比重的第一处理液与具有第二比重的第二处理液；贮存部，其贮存对基板供给后的使用过的第一及第二处理液；处理液分离机构，其将贮存于贮存部的第一处理液与第二处理液基于比重而分离。以旋转卡盘保持基板。在该状态下，经由涂敷处理单元对基板的被处理面供给第一及第二处理液。第二处理液的比重小于第一处理液的比重。将对基板供给后的使用过的第一及第二处理液贮存于回收箱。经由处理液分离机构将贮存于回收箱内的第一处理液及第二处理液基于比重而分离。
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公开(公告)号：CN109643642A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780053396.8
申请日：2017-04-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/40
Abstract: 调温部C1对向显影喷嘴21供给的显影液的温度进行调节。调温部C2、C3分别对向冲洗喷嘴31以及背部冲洗喷嘴35供给的冲洗液的温度进行调节。调温部C4对向处理喷嘴41供给的处理液的温度进行调节。调温部C2、C3、C4将冲洗液及处理液的温度调节在恒定的范围内。在抗蚀剂膜F1的显影处理后，一边将基板W的温度调节在恒定范围内，一边以覆盖抗蚀剂图案FP1的方式在基板的一面形成具有比抗蚀剂膜的耐蚀刻性高的耐蚀刻性的反转膜F2。
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公开(公告)号：CN109541890A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811072678.5
申请日：2018-09-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法。通过排气部开始排出处理室内的气体，在从开始排出气体起经过预定的时间后，通过供气部开始向处理室内供给非活性气体。或者，通过排气部排出容纳有基板的处理室内的气体，通过供气部向处理室内供给非活性气体，使具有透光板的投光部内的压力与处理室内的压力一致或者接近。在处理室内的气体中的氧浓度降低至预定的浓度的状态下，通过投光部向处理室内的基板照射真空紫外线，从而使基板曝光。
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