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21.发明公开
公开(公告)号：KR1020130141233A
公开(公告)日：2013-12-26
申请号：KR1020120064482
申请日：2012-06-15
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , B32B15/06
CPC classification number: C23C16/448 , B32B15/06
Abstract: The present invention relates to a product for preventing the elution of harmful substances and a manufacturing method thereof. The product for preventing the elution of harmful substances and the manufacturing method thereof can fundamentally prevent the generation of harmful substances from the deposition object by preventing the deposition object from outside exposure and can also prevent the elution of harmful substances to the outside, by evenly forming a mineral thin film layer on the whole surface of a deposition object without fine porosity through an atomic layer thin film deposition process, thereby becoming harmless to humans and being used safely. In addition, provided is a deposition method for an atomic layer thin film for a polymer product, which can form a mineral thin film layer on the surface of a product with a polymer material through the atomic layer thin film deposition process. [Reference numerals] (AA) Spray
Abstract translation: 本发明涉及防止有害物质洗脱的产品及其制造方法。 用于防止有害物质的洗脱的产品及其制造方法可以通过防止沉积物体暴露于外部，从而从根本上防止沉积物体产生有害物质，并且还可以通过均匀形成来防止有害物质向外部的洗脱 通过原子层薄膜沉积工艺在沉积物体的整个表面上的矿物薄膜层没有细孔隙，从而对人类无害化并被安全使用。 此外，提供了一种用于聚合物产品的原子层薄膜的沉积方法，其可以通过原子层薄膜沉积工艺在具有聚合物材料的产品的表面上形成矿物薄膜层。 （附图标记）（AA）喷雾
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公开(公告)号：KR1020180009232A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：KR1020160090899
申请日：2016-07-18
Applicant: 고려대학교 산학협력단
CPC classification number: H01M4/8605 , H01M4/9033 , H01M2008/1293 , Y02E60/525
Abstract: 고체산화물연료전지용캐소드는, 전해질과컨택하는캐소드로서, 전기/이온전도성파티클로이루어진다공성벌크및 상기다공성벌크상에형성되고, 전기/이온전도성파티클들과상기상부전기/이온전도성파티클들의외각을감싸도록구비된표면촉매박막을구비하는산화환원부를포함한다.
Abstract translation: 固体氧化物燃料电池阴极，阴极电解液和接触电/离子的导电性粒子构成的形成在多孔体积和多孔本体，围绕电/离子导电性粒子的外壳和所述上电/离子导电性粒子包裹 它包括具有具有薄膜的氧化还原催化剂的表面的一部分。
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公开(公告)号：KR1020160135049A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：KR1020150068010
申请日：2015-05-15
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/455 , C23C16/48
CPC classification number: C23C16/483 , C23C16/04 , C23C16/047 , C23C16/4408 , C23C16/4412 , C23C16/45544 , C23C16/45563 , C23C16/46
Abstract: 본발명은, 소스가스및 퍼지가스를공급하여기판표면에원자층박막을증착시키는국부원자층선택박막증착장치에있어서, 반응챔버와, 상기반응챔버내에배치되고, 일면상에기판이배치되는스테이지와, 상기스테이지상부에상기스테이지와상대가동가능하게배치되는컴비네이션노즐부와, 상기기판에원자층박막을형성하기위한프리커서및 산화제를공급하는가스공급부가구비되고, 상기컴비네이션노즐부는, 상기기판의일면을선택적으로국부가열시키는레이저를조사하는레이저코어를구비하고, 상기가스공급부는, 적어도일부가상기레이저코어에근접배치되고상기기판의일면으로상기레이저코어에의하여선택적으로국부가열되는영역에가열된상기기판영역에흡착되는프리커서및 상기프리커서의리간드를제거하는산화제를제공하는것을특징으로하는국부원자층선택박막증착장치를제공한다.
Abstract translation: 本发明提供一种选择性区域原子层沉积装置，其通过供应源气体和净化气体将原子层薄膜沉积在基底上，该装置包括：反应室; 设置在所述反应室内的台，设置在所述台的一个表面上的基板; 组合喷嘴单元，设置在所述平台上方以相对于所述平台移动; 以及气体供给单元，其在基板上供给用于形成原子层薄膜的前体和氧化剂，其中所述组合喷嘴单元具有激光芯，所述激光芯施加激光束以选择性地局部加热所述基板的一个表面，并且所述气体 供给单元设置成使得其至少一部分与激光芯相邻，并且将前体和氧化剂供给到由激光芯选择性局部加热的基板表面上的区域，其中前体被吸附到 底物的加热区域和氧化剂除去前体的配体。
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公开(公告)号：KR1020160121972A
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：KR1020150051899
申请日：2015-04-13
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: F16B33/06 , F16B33/00 , F16B35/04 , C23C16/455
Abstract: 금속스레드화스너는화스너몸체및 상기화스너몸체를전체적으로덮도록형성된세라믹박막을포함한다. 상기세라믹박막은원자층증착공정을통하여형성되며, 상기세라믹박막은 1 내지 50 nm의두께를가질수 있다.
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公开(公告)号：KR101491893B1
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：KR1020130006388
申请日：2013-01-21
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/455
Abstract: 본 발명은 진동을 이용한 원자층 증착 장치 및 방법을 개시한다. 본 발명에 따르면, 진동을 이용한 원자층 증착 장치로서, 진공 상태가 유지되는 챔버; 상기 챔버 내에 위치하며, 기능성 박막이 증착되는 다공성 나노입자를 포함하는 다공성 실린더-상기 다공성 실린더는 상기 기능성 박막 형성을 위한 전구체 및 반응체의 소스가스는 통과시키고 상기 다공성 나노입자의 유출을 방지하는 사이즈의 기공을 가짐-; 및 상기 챔버에 진동을 가하는 진동자를 포함하되, 상기 진동자는 상기 챔버 내에 위치한 상기 다공성 실린더를 진동시키는 원자층 증착 장치가 제공된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140109234A
公开(公告)日：2014-09-15
申请号：KR1020130131380
申请日：2013-10-31
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/4417 , C23C16/52
Abstract: The present invention relates to an atomic layer deposition apparatus using dispersion capable of uniformly depositing an atomic layer to each nanoparticle by dispersing nanoparticles using wavelength having vibration. According to an embodiment of the present invention, the atomic layer deposition apparatus using dispersion comprises: a powder chamber; a gas transfer pipe connected to the powder chamber to transfer gas to the powder chamber; a wavelength generating part to generate wavelength capable of generating vibration at a constant frequency; a wavelength controlling part to control wavelength generation of the wavelength generating part; and a medium chamber filled with a fixated medium to accommodate the powder chamber and the wavelength generating part, and to transfer the wavelength generated in the wavelength generating part to the powder chamber.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用能够通过使用具有振动的波长分散纳米颗粒，使每个纳米颗粒均匀沉积原子层的分散体的原子层沉积装置。 根据本发明的实施例，使用分散体的原子层沉积装置包括：粉末室; 连接到粉末室以将气体转移到粉末室的气体输送管; 波长发生部，其产生能够以恒定频率产生振动的波长; 波长控制部分，用于控制波长发生部分的波长产生; 以及填充有固定介质以容纳粉末室和波长发生部分的介质室，并将在波长产生部分中产生的波长传递到粉末室。
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公开(公告)号：KR1020140094121A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：KR1020130006388
申请日：2013-01-21
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/455
Abstract: Disclosed are an atomic layer depositing apparatus and a method using vibration. The atomic layer depositing apparatus using the vibration includes a chamber in which a vacuum state is maintained; a porous cylinder positioned in the chamber and containing porous nano-particles on which a functional film is deposited, the porous cylinder having voids of a size to pass source gases for a precursor and a reactor for forming the functional film and to prevent discharge of the porous nano-particles; and a vibrator for applying the vibration to the chamber, the vibrator vibrating the porous cylinder positioned in the chamber.
Abstract translation: 公开了一种原子层沉积装置和使用振动的方法。 使用振动的原子层沉积装置包括保持真空状态的室; 多孔圆柱体，其位于所述腔室中并且包含沉积有功能膜的多孔纳米颗粒，所述多孔圆筒具有通过用于前体的源气体的尺寸空隙和用于形成功能膜的反应器，并且防止 多孔纳米颗粒; 以及用于将振动施加到腔室的振动器，振动器振动位于腔室中的多孔圆筒。
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公开(公告)号：KR101715223B1
公开(公告)日：2017-03-14
申请号：KR1020150068010
申请日：2015-05-15
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/455 , C23C16/48
CPC classification number: C23C16/483 , C23C16/04 , C23C16/047 , C23C16/4408 , C23C16/4412 , C23C16/45544 , C23C16/45563 , C23C16/46
Abstract: 본발명은, 소스가스및 퍼지가스를공급하여기판표면에원자층박막을증착시키는국부원자층선택박막증착장치에있어서, 반응챔버와, 상기반응챔버내에배치되고, 일면상에기판이배치되는스테이지와, 상기스테이지상부에상기스테이지와상대가동가능하게배치되는컴비네이션노즐부와, 상기기판에원자층박막을형성하기위한프리커서및 산화제를공급하는가스공급부가구비되고, 상기컴비네이션노즐부는, 상기기판의일면을선택적으로국부가열시키는레이저를조사하는레이저코어를구비하고, 상기가스공급부는, 적어도일부가상기레이저코어에근접배치되고상기기판의일면으로상기레이저코어에의하여선택적으로국부가열되는영역에가열된상기기판영역에흡착되는프리커서및 상기프리커서의리간드를제거하는산화제를제공하는것을특징으로하는국부원자층선택박막증착장치를제공한다.
Abstract translation: 本发明提供一种选择性区域原子层沉积装置，其通过供应源气体和净化气体将原子层薄膜沉积在基底上，该装置包括：反应室; 设置在所述反应室内的台，设置在所述台的一个表面上的基板; 组合喷嘴单元，设置在所述平台上方以相对于所述平台移动; 以及气体供给单元，其在基板上供给用于形成原子层薄膜的前体和氧化剂，其中所述组合喷嘴单元具有激光芯，所述激光芯施加激光束以选择性地局部加热所述基板的一个表面，并且所述气体 供给单元设置成使得其至少一部分与激光芯相邻，并且将前体和氧化剂供给到由激光芯选择性局部加热的基板表面上的区域，其中前体被吸附到 底物的加热区域和氧化剂除去前体的配体。
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公开(公告)号：KR1020160150422A
公开(公告)日：2016-12-30
申请号：KR1020150088381
申请日：2015-06-22
Applicant: 고려대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은잉크젯프린팅을이용한열전박막모듈의제조방법및 이로부터제조된열전박막모듈에관한것으로서, 더욱구체적으로는, 기판상에 n형열전소자및 p형열전소자를잉크젯프린팅에의해서형성하는단계; 및상기 n형열전소자의말단및 상기 p형열전소자의말단을전기적으로연결하는전극을형성하는단계를포함하는열전박막모듈의제조방법및 이로부터제조된열전박막모듈에관한것이다. 본발명에따르면, n형열전소자와 p형열전소자들을다양한기판위에수평으로증착할수 있으며, 컴퓨터프로그램을사용하여제작된이미지및 텍스트를잉크젯프린팅으로간단히구현할수 있으므로별도의마스크혹은패터닝공정없이열전소자들및 접합을위한전극물질을반영구적으로기판위에증착할수 있고, 따라서낮은공정비용및 원재료낭비최소화를구현할수 있으며, 기판에거의손상을입히지않으면서간이한방법으로열전박막모듈을제조할수 있다.
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公开(公告)号：KR101543858B1
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：KR1020130132081
申请日：2013-11-01
Applicant: 고려대학교 산학협력단
IPC: C23C16/448 , C23C16/44
Abstract: 본발명은난류를유발하여나노입자상에원자층을균일하게증착할수 있는원자층증착장치에관한것이다. 본발명의일실시예에의한원자층증착장치는수평위치를달리하는복수의퍼지가스유입구가형성된챔버; 상기챔버에존재하는유체를이동시키기위한펌프; 상기챔버와상기펌프사이에위치하여상기유체의유량을조절할수 밸브; 상기복수의퍼지가스유입구로유입되는퍼지가스의유입기간및 유량을조절하는유량조절부; 및상기펌프, 상기밸브, 및상기유량조절부를제어하는제어부를포함할수 있다.
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