公开(公告)号：KR100854466B1

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：KR1020080041040

申请日：2008-05-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키,켄야 ,  사다테츠야 ,  나카미츠,타카시 ,  츠루타시게토

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은, 기판건조방법 및 기판건조장치에 관한 것으로, 에어나이프에서 분출되는 에어의 풍량을 대기시보다도 많게 하고, 기판의 전단부 부근의 영역에 부착된 처리액을 제거한다. 그리고, 센서가 기판 전단부를 검지하고나서 소정 시간 경과 후, 기판 전단부 부근 및 후단부 부근 이외의 영역에서는 영역의 분출량보다도 적게 하여 에어를 분출하여 처리액을 제거하고, 센서가 기판 전단부를 검지하고나서 소정 시간 경과 후에 다시, 기판(G) 후단부에서의 후단부 부근 영역에 부착된 처리액을 제거한다. 이에 의해, 기판 전면에 걸쳐 편차가 없고, 완전히 제거할 수 있고 건조얼룩의 발생을 방지할 수 있으며, 또, 영역에서의 에어 분출량을 삭감할 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR1020080042791A

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：KR1020080041036

申请日：2008-05-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노자키,켄야 ,  사다테츠야 ,  나카미츠,타카시 ,  츠루타시게토

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/677

Abstract: A method and an apparatus for drying a substrate are provided to improve dry performance by efficiently drying treatment liquid over the entire surface of a substrate, and save energy by reducing air and power used. In a substrate drying apparatus, transfer speed of a substrate(G) is controlled to first speed when a front end area(Ga) and a rear end area(Gb) of the substrate reach a predetermined position spouting air to the substrate, and controlled to second speed higher than the first speed after the front end area and the rear end area of the substrate pass the predetermined position.

Abstract translation: 提供用于干燥基材的方法和装置，以通过在基板的整个表面上有效地干燥处理液来改善干性能，并且通过减少所用的空气和功率来节省能量。 在基板干燥装置中，当基板的前端区域（Ga）和后端区域（Gb）到达向基板喷射空气的预定位置时，基板（G）的传送速度被控制为第一速度，并且被控制 在基板的前端区域和后端区域经过预定位置之后高于第一速度的第二速度。

公开(公告)号：KR100740239B1

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：KR1020000059478

申请日：2000-10-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은, 도포처리장치 및 도포처리방법에 관한 것으로서, 기판 표면 상에 도포액을 도포하는 도포처리유니트로서, 상부에 개구부를 갖추고 기판을 수용하는 회전컵과, 회전컵 내에서 기판을 회전시키는 구동장치와, 회전컵에 장착되고 개구를 갖추는 고리모양의 뚜껑체와, 상기 고리모양 뚜껑체의 개구를 통하여 도포액을 기판에 토출하는 도포액 토출노즐과, 개구를 폐쇄하기 위한 작은 뚜껑과, 작은 뚜껑을 반송하여 작은 뚜껑을 개구에 장착하는 반송아암과, 작은 뚜껑을 개구의 외주부에 흡착시키기 위한 흡착수단을 구비함으로써, 도포개시시부터 종료시까지 도포액의 비산을 확실히 방지할 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR1020020097004A

公开(公告)日：2002-12-31

申请号：KR1020020034344

申请日：2002-06-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타테야마키요히사 ,  모토다키미오 ,  사다테츠야 ,  미야자키카즈히토 ,  시노기타케토라

IPC: H01L21/31

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a device and a method for processing liquid are provided to be capable of carrying out a uniform liquid processing in a whole substrate, even if the substrate is large. CONSTITUTION: A developing processing unit(DEV)(24) has a first developing liquid supply zone, where developing liquid is applied to the substrate(G), a liquid cutting/rinse zone, where developing liquid is removed from the substrate(G), and a roller transport mechanism(14) for transporting the substrate(G) in one direction in an almost horizontal attitude. In the liquid cutting/rinse zone, the substrate(G) is made in an inclined posture. The developing liquid is made to flow out and rinse liquid is supplied to the substrate(G), while a rinsing liquid discharge nozzle is moved at a predetermined speed along the surface of the substrate(G) kept in the inclined attitude. In the liquid cutting/rinse zone, the developing liquid can be removed from the substrate(G). Thus, the occurrence of development unevenness is prevented, and line width uniformity is enhanced.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，装置和液体处理方法，即使基板较大，也能够在整个基板上进行均匀的液体处理。 构成：显影处理单元（DEV）（24）具有第一显影液供应区，其中将显影液施加到基板（G），液体切割/漂洗区，其中显影液从基板（G）移除， 以及用于以几乎水平的姿态沿一个方向输送基板（G）的辊传送机构（14）。 在液体切割/漂洗区域中，基板（G）制成倾斜的姿势。 使冲洗液体排出喷嘴沿着保持在倾斜状态的基板（G）的表面以预定速度移动，使显影液流出并将冲洗液供给到基板（G）。 在液体切割/漂洗区域中，可以从基板（G）移除显影液。 因此，防止显影不均匀的发生，并且线宽均匀性增强。

公开(公告)号：KR1020020093631A

公开(公告)日：2002-12-16

申请号：KR1020020032035

申请日：2002-06-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키카즈히토 ,  사다테츠야

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: To provide an optical switch which can separately output wavelength multiplexed light beams. CONSTITUTION: A filter 3 where a plurality of interference filters 3a to 3c are juxtaposed is arranged in a groove part 2 crossing optical waveguides 14a and 14b. The wavelength multiplexed light beams which pass through the wavelength multiplexed optical waveguides 14a and 14b can be reflected or transmitted for each wavelength according to the optical property of the interference filters 3a to 3c by supplying a matching oil 25 filled in the groove part 2 by the drive of a micro pump 20 having a piezoelectric element 17 to move the filter 3.

Abstract translation: 目的：提供可以分离输出波长复用光束的光开关。 构成：在与光波导14a，14b交叉的槽部2上配置多个干涉滤光片3a〜3c并列的滤光器3。 根据干涉滤光片3a〜3c的光学特性，通过将填充在槽部2内的匹配油25供给到波长复用光波导14a，14b中的波长复用光束， 驱动具有压电元件17的微型泵20，以移动过滤器3。