公开(公告)号：KR1020020071460A

公开(公告)日：2002-09-12

申请号：KR1020020011300

申请日：2002-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  하시모토히로시

IPC: G02F1/13

Abstract: PURPOSE: A liquid supplying apparatus is provided to avoid occurrence of defects such as cracking of a substrate, prevent mist-like stain formation in the rear face of a substrate, and prevent a supplied liquid from flowing around to the rear face of the substrate. CONSTITUTION: The floor face(64) of a rotation cup(42) is lowered than a substrate holding face(63) of a spin chuck(41) by 0.2-0.8 mm and a plate(66) is installed so as to face to the outer circumference along the outer circumference of a substrate, so that stain formation in the rear face of the substrate(G) owing to mist or the like is prevented. Moreover, a resist solution or the like is prevented from entering in the gap between them.

Abstract translation: 目的：提供一种液体供给装置，以避免发生基板破裂等缺陷，防止基板背面形成雾状污点，防止供给液体流到基板的背面。 构成：旋转杯（42）的地板面（64）比旋转卡盘（41）的基板保持面（63）下降0.2〜0.8mm，并且将板（66）安装成面向 沿着基板的外周的外周，防止由于雾等而在基板（G）的背面形成污斑。 此外，防止了抗蚀剂溶液等进入它们之间的间隙。

公开(公告)号：KR100814567B1

公开(公告)日：2008-03-17

申请号：KR1020020011300

申请日：2002-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  하시모토히로시

IPC: G02F1/13

Abstract: 스핀척의 기판 지지면과 회전컵의 바닥면을 다른 재료, 예를 들면 스핀척의 기판 지지면을 PPS, PEAK, 카본 등의 수지 재료로 하고, 회전컵의 바닥면을 Al, SUS, Cr 등의 금속 재료로 하여 회전컵의 바닥면과 스핀척의 기판 지지면과의 고저 차이를, 이들 경계에 대응하는 기판(G)의 표면이 열적으로 불연속이 되지 않도록 조정하고 있다. 또한 회전컵의 바닥면을 스핀척의 기판 지지면보다 0.2mm ∼0.8mm 정도 낮게 하고, 또한 기판(G)의 외주를 따라 그 외주와 대향하도록 플레이트를 설치하기 때문에, 미스트 등에 의한 기판(G)의 이면에 오염이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019980064738A

公开(公告)日：1998-10-07

申请号：KR1019970074965

申请日：1997-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  다테야마기요히사 ,  야마구치기요미쓰 ,  마쓰다요시타카 ,  우치히라노리오 ,  사카이미쓰히로 ,  사토후미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리장치 및 처리방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
스핀척을 확대하지 않고서 수평적으로 평평한 기판면을 유지하면서 처리액으로 기판의 표면을 균일하게 처리하기 위한 장치 및, 회수된 처리액의 농도가 과도하게 낮아지는 것을 방지하고, 회수된 용액을 용이하게 재처리할 수 있는 처리방법을 제공함
3. 발명의 해결방법의 요지
개시된 장치는 유지수단, 지지수단, 처리액 공급수단, 승강수단 및 회전수단을 포함하여 구성되는 처리장치이다. 처리기판은 유지수단에 의하여 회전가능하게 유지된다. 유지수단의 둘레를 넘어서 연장되는 기판의 돌출부가 지지수단에 의하여 지지되어 기판의 앞면을 수평으로 평평하게 유지한다. 처리액은 처리액 공급수단으로부터 유지수단에 의하여 유지되고 지지수단에 의하여 지지된 기판의 앞면으로 공급된다. 유지수단에 의하여 유지된 기판은 지지수단에 대하여 승강수단으로 수직이동한다. 지지수단에 대하여 승강된 기판은 회전수단에 의하여 회전된다.
4. 발명의 중요한 용도
현상액과 같은 처리용액으로 LCD기판 또는 반도체웨이퍼와 같은 피처리기판의 표면을 처리하는데 사용됨.

公开(公告)号：KR100740239B1

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：KR1020000059478

申请日：2000-10-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은, 도포처리장치 및 도포처리방법에 관한 것으로서, 기판 표면 상에 도포액을 도포하는 도포처리유니트로서, 상부에 개구부를 갖추고 기판을 수용하는 회전컵과, 회전컵 내에서 기판을 회전시키는 구동장치와, 회전컵에 장착되고 개구를 갖추는 고리모양의 뚜껑체와, 상기 고리모양 뚜껑체의 개구를 통하여 도포액을 기판에 토출하는 도포액 토출노즐과, 개구를 폐쇄하기 위한 작은 뚜껑과, 작은 뚜껑을 반송하여 작은 뚜껑을 개구에 장착하는 반송아암과, 작은 뚜껑을 개구의 외주부에 흡착시키기 위한 흡착수단을 구비함으로써, 도포개시시부터 종료시까지 도포액의 비산을 확실히 방지할 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR100655564B1

公开(公告)日：2006-12-08

申请号：KR1020000078297

申请日：2000-12-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  하시모토히로시 ,  시모무라유지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08

Abstract: 상부에 개구부를 갖고, 기판을 수용하는 회전컵과, 회전컵내에서 기판을 회전시키는 스핀척과, 회전컵에 장착되고, 개구를 갖는 뚜껑과, 뚜껑의 개구를 통해, 레지스트액을 기판에 토출하는 레지스트액 토출노즐과, 뚜껑의 개구를 폐색(閉塞)하기 위한 작은 뚜껑과, 작은 뚜껑의 하면에 설치되고, 작은 뚜껑이 뚜껑의 개구에 장착되었을 때에 회전컵내에 위치되는 돌기부재에 의해 도포처리장치가 구성된다. 이것에 의해, 도포액을 도포 후에 도포막의 막두께 조정을 행할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010071522A

公开(公告)日：2001-07-28

申请号：KR1020000078297

申请日：2000-12-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  하시모토히로시 ,  시모무라유지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08

Abstract: PURPOSE: A coating device is provided to effectively perform the adjustment of the film thickness of a coating film after a coating liquid is applied. CONSTITUTION: The coating device includes a rotary cup(42) having an opening part at the upper part and housing a substrate, a spin chuck(41) for rotating the substrate(G) in the rotary cup(42), a cap body(45) attached (to) the rotary cup(42) and having an opening(46), a resist liquid discharge nozzle(51) for discharging the resist liquid to the substrate G through the opening(46) of the cap body(45), a small cap(53) for blocking the opening(46) of the cap body(45) and a projecting member(53a) provided on the lower surface of the small cap(53) and positioned in the rotary cup(42) when the small cap(53) is attached to the opening(46) of the cap body(45).

Abstract translation: 目的：提供一种涂布装置，用于在涂布涂布液之后有效地进行涂膜的膜厚调整。 构成：涂覆装置包括：旋转杯（42），其在上部具有开口部并容纳基底;旋转卡盘（41），用于旋转旋转杯（42）中的基底（G）;帽体（ 45），其连接到旋转杯（42）并具有开口（46）;抗蚀剂液体排出喷嘴（51），用于通过盖体（45）的开口（46）将抗蚀剂液体排放到基板G， ，用于阻挡盖体（45）的开口（46）的小盖（53）和设置在小盖（53）的下表面上并定位在旋转杯（42）中的突出构件（53a） 小帽（53）附接到帽体（45）的开口（46）。

公开(公告)号：KR1020010050940A

公开(公告)日：2001-06-25

申请号：KR1020000059478

申请日：2000-10-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A coat application processor and a coat application processing method are provided in which the film thickness of he coat film can be made uniform and the spattering of the coating liquid can be surely prevented from the start to the end. CONSTITUTION: A coat application processing unit(22) for applying coating liquid on the surface of a substrate(G) comprises a rotation cup(42) having an opening an its upper portion and for storing therein the substrate G, a driver(40) for rotating the substrate(G) in the rotation cup(42), an annular cap(45) mounted on the rotating cup(42) and having an opening(46), a coating-liquid discharging nozzle(51) for discharging the coating liquid to the substrate(G) via the opening(46) of the annular cap(45), a small cap(53) for choking the opening(46), a carrying arm(55) for carrying the small cap(53) and mounting it on the opening(46), and sucking and sticking means(61a,61b,63,64,66) for sucking the small cap(53) and sticking it on the outer periphery of the opening(46).

Abstract translation: 目的：提供涂布涂布处理剂和涂布涂布处理方法，其中可以使涂膜的膜厚均匀，并且可以可靠地防止涂料液体的飞溅从开始到结束。 构成：用于在基材（G）的表面上涂覆涂布液的涂布涂布处理单元（22）包括：旋转杯（42），其具有开口的上部，并用于在其中存储基板G;驱动器（40）， 用于旋转旋转杯（42）中的基板（G），安装在旋转杯（42）上并具有开口（46）的环形盖（45），用于排出涂层的涂布液排放喷嘴（51） 液体经由环形盖（45）的开口（46）到基板（G），用于阻塞开口（46）的小盖（53），用于承载小盖（53）的承载臂（55）和 将其安装在开口（46）上，以及用于吸入小盖（53）并将其粘在开口（46）的外周上的吸附和粘贴装置（61a，61b，63,66,66）。

公开(公告)号：KR100739214B1

公开(公告)日：2007-07-13

申请号：KR1020000054930

申请日：2000-09-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: G02F1/1333

Abstract: 본 발명은 도포막 형성방법 및 도포처리장치에 관한 것으로서, 개구를 갖추는 환상 뚜껑체를 회전컵에 장착하고, 그 후, 레지스트액 토출노즐로부터 이 환상 뚜껑체의 개구를 통하여 레지스트액을 기판으로 토출하고, 이와 거의 동시에 기판을 회전시켜 기판에 도포막을 형성한 다음, 뚜껑체의 개구에 작은 뚜껑을 장착함과 동시에 기판을 회전시켜 레지스트막의 막두께를 조정함으로써, 도포막의 막두께를 균일하게 형성할 수 있으며, 다이나믹한 도포방식을 채용하는 경우에 있어서도, 도포개시시부터 종료까지 도포액의 비산을 확실히 방지할 수 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR100558026B1

公开(公告)日：2006-05-09

申请号：KR1019970074965

申请日：1997-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  다테야마기요히사 ,  야마구치기요미쓰 ,  마쓰다요시타카 ,  우치히라노리오 ,  사카이미쓰히로 ,  사토후미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리장치 및 처리방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
스핀척을 확대하지 않고서 수평적으로 평평한 기판면을 유지하면서 처리액으로 기판의 표면을 균일하게 처리하기 위한 장치 및, 회수된 처리액의 농도가 과도하게 낮아지는 것을 방지하고, 회수된 용액을 용이하게 재처리할 수 있는 처리방법을 제공함
3. 발명의 해결방법의 요지
개시된 장치는 유지수단, 지지수단, 처리액 공급수단, 승강수단 및 회전수단을 포함하여 구성되는 처리장치이다. 처리기판은 유지수단에 의하여 회전가능하게 유지된다. 유지수단의 둘레를 넘어서 연장되는 기판의 돌출부가 지지수단에 의하여 지지되어 기판의 앞면을 수평으로 평평하게 유지한다. 처리액은 처리액 공급수단으로부터 유지수단에 의하여 유지되고 지지수단에 의하여 지지된 기판의 앞면으로 공급된다. 유지수단에 의하여 유지된 기판은 지지수단에 대하여 승강수단으로 수직이동한다. 지지수단에 대하여 승강된 기판은 회전수단에 의하여 회전된다.
4. 발명의 중요한 용도
현상액과 같은 처리용액으로 LCD기판 또는 반도체웨이퍼와 같은 피처리기판의 표면을 처리하는데 사용됨.

公开(公告)号：KR1020010039904A

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：KR1020000054930

申请日：2000-09-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  카와구치요시히로 ,  시모무라유지 ,  사다테츠야

IPC: G02F1/1333

Abstract: PURPOSE: A method for forming coating-film and a coating apparatus are provided to attain a uniform thickness of coating-film and to prevent coating liquid from scattering in coating operation from the start to the end, even when a dynamic coating method is employed. CONSTITUTION: An annular cover plate(45) having an opening(46) is attached to a rotary cup(42), and then resist liquid is charged to a substrate(G) from a resist liquid charge nozzle(51) through an opening(46) of the annular cover plate(45). Almost simultaneously, a coating-film is formed on the substrate(G) by the rotation of the substrate(G), and then a small cover plate(53) is attached to the opening(46) of the cover plate(45) and the resist film thickness is adjusted by the rotation of the substrate(G).

Abstract translation: 目的：提供一种形成涂膜的方法和涂布装置，以获得均匀的涂膜厚度，并且即使采用动态涂布方法，也可以防止涂层操作中涂层液从开始到结束而飞散。 构成：具有开口（46）的环形盖板（45）附接到旋转杯（42），然后将抗液体从抗蚀剂液体充注嘴（51）通过开口（ 46）。 几乎同时，通过基板（G）的旋转在基板（G）上形成涂膜，然后将小盖板（53）附接到盖板（45）的开口（46）上，并且 通过基板（G）的旋转来调整抗蚀剂膜厚度。