公开(公告)号：KR1020090094802A

公开(公告)日：2009-09-08

申请号：KR1020097007305

申请日：2007-11-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 교우다히데하루 ,  기타노준이치 ,  야마모토다로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/70608

Abstract: An immersion exposure coat film forming apparatus is provided for forming a coat film composed of a resist film or a coat film composed of a resist film and other film on a substrate to be exposed by an immersion exposure apparatus through a liquid. The immersion exposure coat film forming apparatus is provided with one or a plurality of coating units for coating the substrate with the resist film or the resist film and other film; one or a plurality of thermal treatment units for performing thermal treatment required for coat film formation on the substrate; an inspection unit for inspecting the status of the coating film at the edge section of the substrate prior to immersion exposure; and a control section which judges whether the coat film status at the edge section of the substrate is within the allowable range or not, based on the inspection results obtained from the inspection unit, and permits the substrate to be carried into the exposure apparatus when it is within the allowable range.

Abstract translation: 提供一种浸渍曝光涂膜形成装置，用于在浸没曝光装置通过液体曝光的基板上形成由抗蚀剂膜或由抗蚀剂膜和其它膜构成的涂膜构成的涂膜。 浸渍曝光涂膜形成装置设置有一个或多个用于用抗蚀剂膜或抗蚀剂膜和其它膜涂覆基板的涂布单元; 一个或多个用于在基板上进行涂膜形成所需的热处理的热处理单元; 检查单元，用于在浸没曝光之前检查在所述基板的边缘部分处的所述涂膜的状态; 以及控制部，其基于从检查单元获得的检查结果，判断基板的边缘部的涂膜状态是否处于允许范围内，并且允许将基板搬运到曝光装置中 在允许的范围内。

公开(公告)号：KR1020060053145A

公开(公告)日：2006-05-19

申请号：KR1020050076034

申请日：2005-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토다로 ,  오오코우치아츠시 ,  다케구치히로후미 ,  요시하라고우스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/3028 ,  B05B1/005 ,  B05C11/10

Abstract: 표면에 레지스트가 도포되고, 노광된 후의 기판을 회전시키면서 현상액을 공급하는 데 있어서, 기판상의 현상액의 액류를 제어하여 면내 균일성이 높은 패턴을 기판상에 형성한다. 기판유지부인 스핀척(2)에 수평으로 유지된 기판 예컨대 웨이퍼(W)를 연직축을 중심으로 정회전시킴과 동시에, 이 기판의 표면과 대향하여 설치된 해당 기판의 주연으로부터 중앙부측으로 연장하는 띠형상의 토출구(41)를 갖는 현상액노즐(4)을 기판의 외측으로부터 중앙부를 향해 이동시키면서 현상액을 그 표면에 공급한다. 그리고, 기판의 표면에 현상액이 공급된 뒤, 해당 기판을 역회전시키도록 구성한다. 이 경우, 정회전으로부터 역회전으로 하는 것에 의해 기판상의 현상액의 액흐름의 패턴이 변하기 때문에, 기판상의 패턴의 세부에까지 현상액이 두루 미치기 쉽게 된다. 그 결과, 현상 후에 면내 균일성이 높은 패턴을 얻을 수 있다.