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公开(公告)号：KR101487366B1
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：KR1020090114604
申请日：2009-11-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: (과제) 기판의 현상 처리를 기판면 내에서 균일하게 행하여, 레지스트 패턴 치수의 기판면 내에서의 균일성을 향상시킨다.
(해결수단)
현상액 노즐(33)과 순수 노즐(40)로부터 웨이퍼(W)의 중심부에 현상액(D)과 순수(P)를 각각 공급하여, 현상액(D)과 순수(P)의 혼합액(C)을 웨이퍼(W) 전체면에 확산시킨다(도 4(a)). 순수 노즐(40)로부터 웨이퍼(W)의 중심부에 순수(P)를 공급하여(도 4(b)), 순수(P)를 웨이퍼(W) 전체면에 확산시킨다(도 4(c)). 현상액 노즐(33)로부터 웨이퍼(W)의 외주부에 현상액(D)을 공급한 후(도 4(d)), 현상액 노즐(33)을 웨이퍼(W)의 중심부로 이동시키면서, 웨이퍼(W)에 현상액(D)을 공급한다. 그리고, 웨이퍼(W) 전체면에 현상액(D)을 확산시켜, 웨이퍼(W)의 현상 처리를 행한다(도 4(e)).-
公开(公告)号：KR1020160028983A
公开(公告)日：2016-03-14
申请号：KR1020150124925
申请日：2015-09-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G03F7/00 , G03F7/06 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/16
Abstract: 본발명의과제는, 노광후의기판에대해현상액에의해현상을행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의현상의진행정도에대해면내균일성의향상에기여할수 있는현상방법등을제공하는것이다. 회전가능한기판보유지지부(12)에수평으로보유지지된노광후의기판(W)에대해, 상기기판(W)의표면과대향하도록설치된접촉부(32)를구비한제1 현상액노즐(3)을사용하여기판(W)의표면의일부에액 저류부를형성하고, 회전하고있는기판(W)의상방에서제1 현상액노즐(3)을이동시켜기판의표면전체에액 저류부(30)를확산시켜현상처리를행한다. 또한, 이현상처리를행하기전 또는후에, 기판(W)의면내에있어서의현상의진행정도의분포를고르게하기위해, 기판을회전시킨상태에서제2 현상액노즐(61)에의해기판의표면에현상액을공급한다. 그리고, 제1, 제2 현상액노즐(3, 61)로부터의현상액의공급은, 먼저공급된현상액이기판(W)의표면으로부터제거된후에행해진다.
Abstract translation: 关于在曝光后通过显影液进行基板显影的本发明的一个问题是提供一种能够有助于提高面内均匀性的发展方法 基板的表面。 相对于水平保持并支撑在可旋转的基板保持和支撑单元（12）中的曝光后的基板（W），通过在表面的一部分中形成液体冲击单元来进行显影 使用具有安装成面向基板（W）的表面的接触单元（32）的第一显影液喷嘴（3），使第一显影液喷嘴（3）从旋转基板的上部移动 W），并且将液体下溢单元（30）扩散到基底的整个表面。 此外，在显影之前或之后，通过第二显影液喷嘴（61）将显影液供给到基板的表面，同时旋转基板以均匀地进行基板（W）的表面的显影的进展。 此外，从所述第一和第二显影液喷嘴（3,61）中提供所述显影液后，在从所述基板（W）的表面除去所提供的显影液之后进行。
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公开(公告)号：KR1020120049808A
公开(公告)日：2012-05-17
申请号：KR1020110113133
申请日：2011-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67051 , G03F7/3021 , G03F7/38 , H01L21/6715 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A substrate processing method, a computer storage medium, and a substrate processing apparatus are provided to reduce defects on a surface of a substrate by eliminating bubbles generated between the substrate and surface treatment solution when the surface treatment solution is supplied on the substrate. CONSTITUTION: Surface treatment solution is provided to one spot of a peripheral area of a substrate(W) from a nozzle(40). The liquid pool(Pa) of the surface treatment solution is formed. The nozzle moves from a peripheral area of the substrate to a central portion of the substrate by continuously supplying the surface treatment solution. The liquid pool formed in the peripheral area of the substrate moves to the central portion of the substrate. The surface treatment solution is pure water(P).
Abstract translation: 目的：提供基板处理方法，计算机存储介质和基板处理装置，以便当在基板上提供表面处理溶液时，通过消除在基板和表面处理溶液之间产生的气泡来减少基板表面的缺陷。 构成：将表面处理溶液从喷嘴（40）提供给基板（W）的周边区域的一个点。 形成表面处理液的液池（Pa）。 喷嘴通过连续地供给表面处理溶液而从基板的周边区域移动到基板的中心部分。 形成在基板的周边区域的液体池移动到基板的中心部分。 表面处理溶液为纯水（P）。
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公开(公告)号：KR102241267B1
公开(公告)日：2021-04-15
申请号：KR1020150126339
申请日：2015-09-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의과제는노광후의기판에현상처리를행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의레지스트패턴의선 폭의균일성을높게하는것이다. 현상액의토출구와상기기판의표면보다도작게형성된접촉부를구비한현상액노즐을사용하고, 상기기판의중앙부에서상기접촉부를기판의표면에대향시키는공정과, 계속해서상기현상액노즐의토출구로부터기판의표면에현상액을토출해서상기접촉부에서보아당해접촉부의외측테두리보다도외측으로현상액을비어져나오게하여액 고임부를형성하는공정과, 그와같이현상액이비어져나온상태를유지하여, 회전하고있는기판에상기토출구로부터현상액을토출하면서상기현상액노즐을기판의중앙부로부터주연부로이동시켜상기액 고임부를기판의전체면으로확장하는공정을포함하도록현상처리를행한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR102030945B1
公开(公告)日：2019-10-10
申请号：KR1020187012327
申请日：2013-02-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
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公开(公告)号：KR1020150144703A
公开(公告)日：2015-12-28
申请号：KR1020150082587
申请日：2015-06-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/30
CPC classification number: G03F7/32 , B05D1/005 , G03F7/162 , G03F7/3028 , H01L21/6715
Abstract: 본발명의과제는, CD 분포의균일성이충분히높은레지스트를형성할수 있는현상방법을제공하는것이다. 본개시에관한현상방법은, 기판표면상의노광후의레지스트막을현상하여레지스트패턴을형성하기위한것이며, (A) 회전하는기판을향해현상액을공급하는공정과, (B) 레지스트막과현상액을반응시키는공정과, (C) 레지스트막과현상액과의반응을정지시키기위해레지스트막표면으로부터현상액을제거하는공정을이 순서로구비하고, (A) 공정에있어서, 현상액의토출구와, 토출구로부터횡방향으로확대되고또한레지스트막과대향하는면을갖는접액노즐을사용함과함께, (C) 공정에있어서, 현상액이제거된레지스트막표면의반응정지영역과, 현상액과의반응이계속되고있는레지스트막표면의반응진행영역과의경계를레지스트막의중심부로부터주연부를향해이동시킨다.
Abstract translation: 本发明提供能够形成具有足够高的临界尺寸（CD）分布均匀性的抗蚀剂的显影方法。 所公开的显影方法是通过在暴露于基材的表面之后显影抗蚀剂膜来形成抗蚀剂图案，并且包括以下过程：（A）向显影剂供应旋转基板; （B）使抗蚀膜与显影剂反应; 和（C）从抗蚀膜的表面除去显影剂，以便按照其顺序停止抗蚀剂膜和显影剂之间的反应。 在工序（A）中，一起使用显影剂的排出孔和与排出孔水平延伸的面对抗蚀膜的液体喷嘴。 在工艺（C）中，除去显影剂的抗蚀剂膜的表面的反应停止区域与与显影剂的反应继续的抗蚀剂膜的表面的反应进行区域之间的边界移动到 边缘部分从抗蚀剂膜的中心部分。
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公开(公告)号：KR1020140129040A
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：KR1020147023306
申请日：2013-02-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/302 , B01D19/00 , B05C11/10 , G03F7/30
CPC classification number: B01D19/0063 , B01D19/0031 , B01D19/0068 , G03F7/16 , G03F7/30 , H01L21/6715 , H01L21/0274
Abstract: 피처리 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급 노즐에 접속되는 액 처리 장치이며, 처리액 저류 용기와 당해 처리액 공급 노즐을 접속하는 공급관로와, 공급관로에 설치된 필터 장치와, 필터 장치의 2차측의 펌프와, 펌프의 토출측과 필터 장치의 흡입측을 접속하는 순환관로와, 펌프의 2차측의 공급관로에 설치된 공급 제어 밸브와, 순환관로에 설치된 순환 제어 밸브와, 펌프, 공급 제어 밸브 및 순환 제어 밸브를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 제어 장치에 의해, 공급 제어 밸브를 폐쇄함으로써 당해 처리액 공급 노즐로부터 피처리 기판으로의 처리액의 공급이 정지하고 있을 때에, 순환 제어 밸브를 개방하여, 펌프를 구동하고, 필터 장치를 갖는 공급관로와 순환관로 사이에서 처리액이 순환된다.
Abstract translation: 一种与供给处理溶液供给到基板的供给喷嘴连接的固溶处理装置，具备：将处理液储存容器与供给喷嘴连接的供给管路; 设置在所述供给管道中的过滤装置; 过滤装置的二次侧的泵; 连接泵的排出侧和过滤装置的进气侧的循环管路; 供给控制阀，其设置在所述供给管路中的所述泵的次级侧; 设置在循环管道中的循环控制阀; 以及控制单元，其中，当通过关闭所述供给控制阀来停止从所述供给喷嘴向所述基板供给所述处理液时，所述控制单元打开所述循环控制阀并驱动所述泵，从而使所述处理液在所述供给管线 具有过滤装置和循环管道。
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公开(公告)号：KR101697796B1
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：KR1020110113133
申请日：2011-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67051 , G03F7/3021 , G03F7/38 , H01L21/6715
Abstract: 본발명은기판위에표면처리액을공급할때에기판과표면처리액사이에발생하는기포를없앰으로써, 기판표면위의결함을저감하는것을목적으로한다. 고발수성의레지스트막(R)을형성한웨이퍼(W) 표면위에순수(P)를공급하는현상처리방법에있어서, 레지스트막(R)이형성된웨이퍼(W) 주변부의일 지점에순수(P)를순수노즐(40)로부터공급하여그 순수(P)의액 고임(Pa)을형성하고, 그후, 순수(P)를계속공급하면서순수노즐(40)을웨이퍼(W) 주변부로부터웨이퍼(W) 중심부로이동시킴으로써, 웨이퍼주변부에형성된액 고임(Pa)을웨이퍼(W) 중심부로이동시킨다.
Abstract translation: 本公开是一种将表面处理液体供给到具有形成在其上形成有高斥水性的膜的基板的表面上的基板处理方法，该方法包括：液体熔池形成步骤，通过以下方式形成表面处理液体的液体熔池： 将所述表面处理液体从喷嘴供给到所述基板的周边部分的一个位置; 以及液体搅拌移动步骤，然后通过将所述喷嘴从所述基板的周边部分上方的位置移动到所述基板的中心部分上方的位置，将形成在所述基板的周边部分处的所述液体熔池移动到所述基板的中心部分 同时继续供应表面处理液体。
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公开(公告)号：KR1020160030057A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：KR1020150126339
申请日：2015-09-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의과제는노광후의기판에현상처리를행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의레지스트패턴의선 폭의균일성을높게하는것이다. 현상액의토출구와상기기판의표면보다도작게형성된접촉부를구비한현상액노즐을사용하고, 상기기판의중앙부에서상기접촉부를기판의표면에대향시키는공정과, 계속해서상기현상액노즐의토출구로부터기판의표면에현상액을토출해서상기접촉부에서보아당해접촉부의외측테두리보다도외측으로현상액을비어져나오게하여액 고임부를형성하는공정과, 그와같이현상액이비어져나온상태를유지하여, 회전하고있는기판에상기토출구로부터현상액을토출하면서상기현상액노즐을기판의중앙부로부터주연부로이동시켜상기액 고임부를기판의전체면으로확장하는공정을포함하도록현상처리를행한다.
Abstract translation: 本发明涉及显影方法，显影装置和存储介质。 本发明旨在提高在曝光之后显影衬底期间衬底表面中的抗蚀剂图案的线的宽度的均匀性。 为此，使用的是包括显影剂排出孔和比基板表面小的接触部的显影剂喷嘴。 此外，通过包括以下处理进行显影：使接触部在基板的中央面对基板的表面; 通过从显影剂喷嘴的排出孔连续排出基板表面上的显影剂，然后基于接触部分使显影剂泄漏到比接触部分的外边缘更外侧的外侧，形成液体停滞部分 ; 并且通过将显影剂喷嘴从中心转移到基板的边缘，并将显影剂从排出孔排出到旋转的基板上，同时通过维持显影剂的泄漏状态将液体滞留部分扩展到基板的整个表面。
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