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公开(公告)号：KR101184090B1
公开(公告)日：2012-09-18
申请号：KR1020097007305
申请日：2007-11-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70958 , G03F7/70341 , G03F7/70991 , H01L21/6715
Abstract: 액체를 통해 노광 처리를 시행하는 액침 노광 장치에 제공되는 기판에 대하여 레지스트막 또는 레지스트막과 다른 막으로 이루어지는 도포막을 형성하는 본 발명의 액침 노광용 도포막 형성 장치는, 기판에 레지스트막 또는 레지스트막과 다른 막을 도포하는 하나 또는 복수의 도포 유닛과, 기판에 대하여 도포막 형성에 필요한 열적 처리를 행하는 하나 또는 복수의 열적 처리 유닛과, 액침 노광 전에 기판의 엣지부에서의 도포막의 상태를 검사하는 검사 유닛과, 검사 유닛에서의 검사 결과에 기초하여 기판의 엣지부에서의 도포막의 상태가 허용 범위인지 여부를 판단하며, 허용 범위인 경우에 노광 장치에의 기판의 반입을 허용하는 제어부를 구비한다.
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公开(公告)号：KR101061912B1
公开(公告)日：2011-09-02
申请号：KR1020070134132
申请日：2007-12-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 기판의 반전을 필요로 하지 않고, 또한 기판의 주연부에 손상을 부여하지 않고 기판의 이면을 세정하는 것이 가능한 기판 세정 장치 등을 제공하는 것을 목적으로 한다.
기판 세정 장치(1)는 이면이 아래쪽을 향한 상태의 기판을 이면에서 지지하여 유지하는 2개의 기판 유지 수단[흡착 패드(2), 스핀척(3)]을 구비하고, 지지할 수 있는 영역이 중복되지 않도록 하면서 이들 기판 유지 수단 사이에서 기판을 바꾸어 잡는다. 세정 부재[브러시(5)]는 기판 유지 수단에 의해 지지되어 있는 영역 이외의 기판의 이면을 세정하고, 2개의 기판 유지 수단 사이에서 기판을 바뀌어 잡는 것을 이용하여 기판의 이면 전체를 세정한다.Abstract translation: 本发明的一个目的是提供，而不需要在基板的反转，等等能够清洁该衬底的背面没有给予损害基板的周缘的基板清洗装置。
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公开(公告)号：KR102201956B1
公开(公告)日：2021-01-11
申请号：KR1020190051360
申请日：2019-05-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/30
Abstract: 노광후의기판을기판보유지지부에수평하게보유지지하는공정과, 상기기판의표면에대향하는원형의제1 대향면을, 상기기판의중심부에근접시키는공정과, 상기기판의표면에대향하는원형의제2 대향면을, 상기기판의중심부로부터어긋남과함께당해기판의주연부보다도당해중심부근방의위치에근접시키는공정과, 상기제1 대향면에개구하는제1 토출구로부터근접하는상기기판의중심부에현상액을토출하고, 액고임을형성하는공정과, 상기기판의회전중에, 상기제1 토출구로부터상기현상액을토출하는상기제1 대향면을상기기판에근접한상태에서당해기판의일단측의주연부를향하도록이동시켜, 당해기판상에상기현상액을확장하는제1 이동공정과, 상기제2 대향면과상기회전하는기판사이에현상액이공급되어있음과함께당해제2 대향면을상기기판에근접한상태에서, 당해기판의타단측의주연부를향하도록이동시키는제2 이동공정과, 상기제1 대향면및 상기제2 대향면이상기기판의주연부에도달한후에, 당해기판으로의현상액의토출및 상기기판의회전을정지하는공정을구비하도록현상을행한다.
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公开(公告)号：KR1020110007947A
公开(公告)日：2011-01-25
申请号：KR1020100064433
申请日：2010-07-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/3021 , H01L21/67173 , H01L21/6719 , H01L21/68771 , H01L21/0274 , G03F7/2041 , G03F7/70891
Abstract: PURPOSE: A developing apparatus, a resist pattern forming method and a storage medium are provided to reduce the number of a developing process by performing developing with the same developing apparatus. CONSTITUTION: An arrangement table makes substrate level. A first nozzle supplies a first developer which is controlled to a first temperature on the surface of the substrate. A second nozzle supplies a second developer which is controlled to a second temperature on the surface of the substrate. A controller(1A) supplies the first developer on the surface of the substrate through a first nozzle, and then outputs a control signal to supply the second developer to the surface of the substrate through the second nozzle.
Abstract translation: 目的：提供显影装置，抗蚀剂图案形成方法和存储介质，以通过用相同的显影装置进行显影来减少显影处理的次数。 构成：安排表使基板水平。 第一喷嘴将第一显影剂提供给基板表面上的第一温度。 第二喷嘴供应第二显影剂，其被控制到基板表面上的第二温度。 控制器（1A）通过第一喷嘴将第一显影剂供应在基板的表面上，然后输出控制信号，以通过第二喷嘴将第二显影剂供应到基板的表面。
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公开(公告)号：KR1020080058223A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：KR1020070134132
申请日：2007-12-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67046 , B08B1/04 , B08B7/0057 , H01L21/0209 , H01L21/67051
Abstract: A substrate cleaning apparatus, a substrate cleaning method, and a recording medium are provided to exclude the need for a space for substrate inversion by cleaning a substrate in a state that a rear surface of the substrate is supported and held. A substrate cleaning apparatus includes a first substrate holding means(2), a second substrate holding means(3), a cleaning solution supply means, a dry means, and a cleaning member(5). The first substrate holding means horizontally absorbs and holds a first region of a rear surface of a substrate. The second substrate holding means horizontally absorbs and holds a second region of a rear surface of a substrate. The cleaning solution supply means supplies cleaning solution to the rear surface of the substrate absorbed and held in the first substrate holding means and the second substrate holding means. The dry means dries the second region of the rear surface of the substrate before the substrate is transferred from the first substrate holding means to the second substrate holding means. The cleaning member performs a cleaning operation to contact he rear surface of the substrate including the second region.
Abstract translation: 提供了基板清洗装置，基板清洗方法和记录介质，以便在基板的后表面被支撑和保持的状态下，通过清洗基板而不需要用于基板反转的空间。 基板清洗装置包括第一基板保持装置（2），第二基板保持装置（3），清洁溶液供应装置，干燥装置和清洁部件（5）。 第一基板保持装置水平地吸收并保持基板的后表面的第一区域。 第二基板保持装置水平地吸收并保持基板的后表面的第二区域。 清洗液供给单元向被吸收并保持在第一基板保持单元和第二基板保持单元的基板的背面供给清洗液。 在基板从第一基板保持装置转移到第二基板保持装置之前，干燥装置干燥基板的后表面的第二区域。 清洁部件执行清洁操作以与包括第二区域的基板的后表面接触。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150016899A
公开(公告)日：2015-02-13
申请号：KR1020140097311
申请日：2014-07-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/3021 , B05C5/02 , B05C5/027 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D1/26 , G03F7/30 , H01L21/6715 , H01L21/0273
Abstract: 노광 후의 기판을 기판 보유 지지부에 수평하게 보유 지지하는 공정과, 기판의 일부에 현상액 노즐로부터 현상액을 공급하여 액 저류부를 형성하는 공정과, 기판을 회전시키는 공정과, 회전하는 상기 기판에 있어서의 현상액의 공급 위치가 당해 기판의 직경 방향을 따라서 이동하도록, 상기 현상액 노즐을 이동시켜서 상기 액 저류부를 기판의 전체면에 확산시키는 공정과, 상기 액 저류부를 기판의 전체면에 확산시키는 공정에 병행하여 행해져, 상기 현상액 노즐과 함께 이동하고, 상기 기판에 대향하는 면이 상기 기판의 표면보다도 작은 접촉부를, 상기 액 저류부에 접촉시키는 공정을 구비하도록 현상을 행한다. 이 방법에 의해 기판 밖으로 떨어지는 액량을 억제할 수 있다. 또한, 기판의 회전수를 낮출 수 있으므로 액 튐이 억제된다. 또한 현상액이 교반됨으로써 처리량을 높일 수 있다.
Abstract translation: 执行的是一种显影方法，其包括：在基板保持支撑部分中水平地支撑暴露的基板的过程，将显影溶液从显影溶液喷嘴供应到基板的一部分并形成液体存储部分的步骤， 旋转基板，移动显影液喷嘴并将液体储存部分扩散到液体储存部分的整个表面的步骤，以允许在旋转基板中供应显影液的位置沿相应的直径方向移动 基板，并且通过进行将液体储存部扩散到基板的整个表面的工序，使液体储存部分接触移动显影液喷嘴的接触部分的过程，并且具有面向基板的表面并且更小 比底物的。 通过该方法，可以控制从基板滴落的液体的量。 此外，可以减小衬底的RPM，从而可以防止液体散射。 此外，通过搅拌显影液来提高产量。
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公开(公告)号：KR1020100103377A
公开(公告)日：2010-09-27
申请号：KR1020100020826
申请日：2010-03-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/3021 , H01L21/6715 , G03F7/16 , G03F7/70925 , H01L21/67017 , H01L21/67051
Abstract: 본발명은현상액을기판에균일성높게공급하여수율의저하를억제할수 있는현상장치를제공하는것을목적으로한다. 표면에레지스트가도포되고, 노광된후의기판을수평으로유지하는기판유지부와, 상기기판에대한현상액의습윤성을높이기위한표면처리액을무화시키는표면처리액무화수단과, 무화된상기표면처리액을상기기판에분무하는제1 분무노즐과, 상기표면처리액이분무된기판에현상액을토출하여현상을행하기위한현상액토출노즐을구비하도록현상장치를구성한다. 무화된표면처리액은액상상태의표면처리액에비하여기판에대한표면장력이낮으므로, 기판상에서응집되는것이억제되어, 용이하게기판전체에공급할수 있어기판의습윤성을높일수 있다. 그결과로, 현상액을균일성높게기판에공급할수 있어수율의저하를억제할수 있다.
Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质，以通过将显影溶液均匀地涂覆在基板上来抑制显影缺陷的产生。 构成：用曝光操作处理的基板（W）由基板保持单元水平地保持。 表面处理溶液雾化单元（40）使表面处理溶液雾化，以增加显影液相对于基材的润湿性。 第一喷射喷嘴（41）将雾化的表面处理溶液喷射到基底上。 开发溶液雾化单元使显影液雾化。 第二喷嘴（51）相对于基板喷射雾化的显影液。
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公开(公告)号：KR102201953B1
公开(公告)日：2021-01-11
申请号：KR1020190051365
申请日：2019-05-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/30
Abstract: 노광후의기판을기판보유지지부에수평하게보유지지하는공정과, 상기기판의표면중심부에근접하도록당해기판에대향하는원형의제1 대향면의배치와, 상기기판의표면주연부에근접하도록당해기판에대향하는원형의제2 대향면의배치를각각행하는공정과, 상기제1 대향면에개구하는제1 토출구로부터근접하는상기기판의중심부로의현상액의토출과, 상기제2 대향면에개구하는제2 토출구로부터근접하는상기기판의주연부로의현상액의토출을각각행하는공정과, 상기현상액을토출하는제1 대향면을회전하는상기기판에근접한상태에서당해기판의주연부를향하여이동시킴과함께, 상기현상액을토출하는제2 대향면을당해회전하는기판에근접한상태에서당해기판의중심부를향하여이동시키고, 제1 대향면에서토출된현상액에의해형성되는액막의계면과, 제2 대향면에서토출된현상액에의해형성되는액막의계면을접합시켜서, 기판의표면전체를현상액으로피복하는피복공정과, 상기기판의표면전체가현상액으로피복된후에, 상기기판의회전및 당해기판으로의현상액의토출을정지하는공정을구비하도록현상을행한다.
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公开(公告)号：KR101979967B1
公开(公告)日：2019-05-17
申请号：KR1020140097311
申请日：2014-07-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
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公开(公告)号：KR101760552B1
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：KR1020140088256
申请日：2014-07-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/67046 , H01L21/68792
Abstract: 본발명은기판인웨이퍼(W)의이면을세정하는기판세정장치의소형화를도모하고, 기판세정처리의세정력을높이는것을과제로한다. 웨이퍼(W)를흡착패드(2)에유지하여수평방향으로이동하고있을때, 웨이퍼(W)의이면측의중앙영역을세정하고, 웨이퍼(W)가스핀척(3)에유지되어있을때, 웨이퍼(W)의이면의둘레가장자리영역을세정하는제1 및제2 세정부재(6A, 6B)를설치한다. 이와같이제1 및제2 세정부재(6A, 6B)를설치하고있기때문에, 세정부재가단독인경우에비해서세정력을높게할 수있다. 또한제1 및제2 세정부재(6A, 6B)는공통의선회축(52)에의해각각수평방향으로선회하도록구성되어있지만, 웨이퍼(W) 이면의중앙영역을세정할때에는선회축(52)은웨이퍼(W)에중첩되어위치하도록배치된다. 선회축(52)은웨이퍼(W)의이동영역을이용하여설치되기때문에, 장치의소형화가도모된다.
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