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公开(公告)号：KR101765325B1
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：KR1020150119502
申请日：2015-08-25
Applicant: 한국기계연구원 , 부산대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은레이저양각패턴을이용한몰드제조방법에관한것으로서, 박막형성단계와, 양각패턴형성단계와, 몰드용패턴형성단계를포함한다. 박막형성단계는기판에고분자박막을형성한다. 양각패턴형성단계는고분자박막이어블레이션되는어블레이션임계점미만의에너지밀도를가지는레이저빔을고분자박막에조사하여, 고분자박막의표면으로부터팽창되는양각패턴을형성한다. 몰드용패턴형성단계는고분자박막을에칭하여기판에양각패턴보다작은크기의몰드용패턴을형성하며, 몰드용패턴은양각패턴이에칭되면서형성된다.
Abstract translation: 本发明涉及使用激光正型图案制造模具的方法，并且包括用于模具的薄膜形成步骤，正型图案形成步骤和图案形成步骤。 薄膜形成步骤在基板上形成聚合物薄膜。 压花图案形成工序照射具有小于烧蚀阈值的能量密度是随后迁移到所述嵌段聚合物薄膜聚合物薄膜，以形成压花图案，以从聚合物薄膜的表面扩展的激光束。 在用于模具的图案形成步骤中，对聚合物薄膜进行蚀刻以形成尺寸小于衬底上的凸纹图案的模具的图案，并且在凹凸图案被蚀刻时形成用于模具的图案。
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公开(公告)号：KR101751802B1
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：KR1020150174615
申请日：2015-12-09
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은전자빔주사기가설치되는챔버본체와, 상기챔버본체의일측에형성되는연통홀과, 상기연통홀의외부공간으로공기를유입시킬수 있도록상기챔버본체에서연장형성되는공기유입관과, 상기연통홀과공기유입관에연통되게형성되며상기공기유입관으로유입된공기를배출시키는공기배출관과, 상기공기유입관에공기를공급하여상기공기배출관으로공기가배출되도록하여상기챔버본체내 압력을감소시킴으로써저진공상태를구현하는송풍기를포함하는전자빔주사용진공챔버및 이를구비하는전자빔주사시스템을개시한다.
Abstract translation: 本发明与容器主体是一个束注入装置，在该腔室主体的一侧形成的连通孔，和从所述腔室主体延伸到sikilsu入口空气的空间的外部的连通孔的空气入口管，所述连通孔 它形成为与基油gwagong入场进行通信，以确保通过减少该腔室主体内的压力，供给空气到空气排放管和用于排出被引入的空气进入空气入口管的空气的空气入口管被排出到排气管 公开了包括实现低真空状态的鼓风机和包括真空室的电子束扫描系统的电子束扫描真空室。
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公开(公告)号：KR1020170024635A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：KR1020150119502
申请日：2015-08-25
Applicant: 한국기계연구원 , 부산대학교 산학협력단
Abstract: 본발명은레이저양각패턴을이용한몰드제조방법에관한것으로서, 박막형성단계와, 양각패턴형성단계와, 몰드용패턴형성단계를포함한다. 박막형성단계는기판에고분자박막을형성한다. 양각패턴형성단계는고분자박막이어블레이션되는어블레이션임계점미만의에너지밀도를가지는레이저빔을고분자박막에조사하여, 고분자박막의표면으로부터팽창되는양각패턴을형성한다. 몰드용패턴형성단계는고분자박막을에칭하여기판에양각패턴보다작은크기의몰드용패턴을형성하며, 몰드용패턴은양각패턴이에칭되면서형성된다.
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公开(公告)号：KR1020170000385A
公开(公告)日：2017-01-02
申请号：KR1020160176858
申请日：2016-12-22
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B23K26/00 , B23K26/70 , B23K103/00
Abstract: 본발명의목적은패턴의양측에서열영향부를최소화하면서미세선폭의패턴을형성하는미세패턴금형가공시스템을제공하는것이다. 본발명의일 실시예에따른미세패턴금형가공시스템은, 설정된펄스폭의레이저빔을생산하는레이저발진부, 상기레이저빔을베이스에설치되는타겟에조사하여설정된선폭의패턴을가공하는폴리곤스캐너, 상기폴리곤스캐너를장착하고상기베이스에설치되어상기타겟에대한상기폴리곤스캐너의위치를조절하는스테이지, 상기레이저발진부와상기폴리곤스캐너사이에서레이저빔의경로에설치되어, 검출된레이저빔에따라조사되는레이저빔을안정시키는빔 안정기, 상기레이저발진부를제어하는레이저컨트롤러, 상기타겟에패턴을가공하며, 상기타겟에서단위패턴을가공하고가공된단위패턴에 x축방향으로중첩되어레이저빔을단위패턴으로조사하여단위패턴간의경계선을없애도록상기폴리곤스캐너를제어하는폴리곤스캐너컨트롤러, 및상기폴리곤스캐너컨트롤러에상기타겟에가공하고자하는이미지를비트맵파일로전달하는메인컨트롤러를포함하며, 상기레이저컨트롤러는상기레이저발진부의마스터오실레이터에서발진되는레이저신호를상기폴리곤스캐너컨트롤러에전달하여, 상기폴리곤스캐너, 상기스테이지및 상기레이저빔을동기화시키도록구성되고, 상기폴리곤스캐너컨트롤러는상기레이저컨트롤러에동기신호를전달하여, 상기폴리곤스캐너와상기레이저빔을동기화시키도록구성된다.
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公开(公告)号：KR101661679B1
公开(公告)日：2016-10-04
申请号：KR1020140159160
申请日：2014-11-14
Applicant: 한국기계연구원 , 부산대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027
Abstract: 본발명의실시예에따른박막패턴의형성방법은고분자막을준비하는단계, 고분자막에레이저빔을조사하여고분자막의표면으로부터돌출되는패턴을형성하는단계를포함하고, 레이저빔의파워는레이저빔에의해서고분자막이삭마되는삭마임계점미만으로조사하여패턴을형성한다.
Abstract translation: 根据本发明实施例的形成薄膜图案的方法包括以下步骤：准备聚合物膜，通过用激光束照射聚合物膜而形成从聚合物膜的表面突出的图案， 该图案通过在聚合物膜被烧蚀的烧蚀阈值点照射聚合物膜而形成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101634568B1
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：KR1020150114628
申请日：2015-08-13
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01J37/147 , H01J37/06 , H01J37/28
Abstract: 본발명은전자빔을발생하는전자총과, 전자빔을집속하는집속렌즈와전자빔을주사대상에포커싱하는대물렌즈를구비하는컬럼부와, 컬럼부의빔 출력단에설치되며인가된전류에의해전자빔의방향을편향시키는복수의디플렉터가관절식으로연결되어전자빔의주사방향을측면방향으로편향시키는디플렉터유닛을포함하는전자빔주사장치를개시한다.
Abstract translation: 本发明公开了一种电子束扫描装置。 电子束扫描装置包括：产生电子束的电子枪; 具有聚焦电子束的聚焦透镜和将电子束聚焦在待扫描物体上的物镜的列单元; 以及偏转器单元，其安装在所述列单元的光束输出端处，并且将由于施加的电流而偏转所述电子束的多个偏转器铰接并连接到所述偏转器单元，以使所述电子束的扫描方向朝向 侧面。
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公开(公告)号：KR1020150121330A
公开(公告)日：2015-10-29
申请号：KR1020140046530
申请日：2014-04-18
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명의목적은베셀빔을이용하여레이저가공을함으로써높은정밀도로고종횡비를갖는미세형상을가공할수 있도록하는, 고종횡비홀 가공용베셀빔 레이저가공장치를제공함에있다. 본발명의다른목적은, 고종횡비가공을수행하기위하여필요한구성이간단한광학계만으로이루어지도록함으로써경제적이고기존의장치와의호환성이우수한, 고종횡비홀 가공용베셀빔 레이저가공장치를제공함에있다.
Abstract translation: 本发明旨在提供一种用于高纵横比孔的贝塞勒束激光加工装置，其通过使用贝塞尔束进行激光加工，能够以高精度加工高纵横比的微型。 本发明的另一个目的是提供用于处理高纵横比孔的贝塞勒束激光加工装置，其通过仅允许简单的光学系统成为执行高方面的必要组合而与现有装置经济并且非常兼容 比例加工。
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公开(公告)号：KR1020150114328A
公开(公告)日：2015-10-12
申请号：KR1020140038891
申请日：2014-04-01
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B23K26/062 , B23K26/064
Abstract: 가우시안분포의레이저빔을플랫-탑(flat-top) 또는비원형레이저빔으로변형시키기위한레이저빔 변형기및 이를구비한레이저미세가공장비를제공한다. 레이저빔 변형기는가변형회절광학소자와집속렌즈부를포함한다. 가변형회절광학소자는회절패턴을구비하고, 회절패턴에의해제1 형상의레이저빔을회절시켜제2 형상의레이저빔으로변형시키며, 회절패턴의스위칭이가능하다. 집속렌즈부는가변형회절광학소자의전방또는후방에위치하여레이저빔의크기를조절한다.
Abstract translation: 提供了一种用于将高斯分布的激光束变换成平顶或非圆形激光束的激光束变换器以及使用其的激光微处理机。 激光束修改器包括可变衍射光学装置和聚焦透镜部分。 可变衍射光学器件具有衍射图案; 通过衍射图案将第一形状激光束转换成第二形状激光束; 并切换衍射图案。 聚焦透镜部分位于可变衍射光学装置的前面或后面，以调节激光束的尺寸。
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公开(公告)号：KR101200484B1
公开(公告)日：2012-11-12
申请号：KR1020120028762
申请日：2012-03-21
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B23K26/36 , B23K26/362
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing masks for projection ablation is provided to obtain a mask pattern layer with fine pattern widths regardless of the energy distribution of a laser beam by projecting the laser beam from the underside of a mask substrate. CONSTITUTION: A method for manufacturing masks for projection ablation comprises the steps of: forming a first metal layer on a mask substrate(100), projecting a laser beam from the underside of the mask substrate to the first metal layer to form a first opening(211a) and a first metal layer(211), forming a second metal layer on the mask substrate and the first metal pattern layer, projecting a laser beam from the underside of the mask substrate to the second metal layer to form a second opening(221a) and a second metal pattern layer(221), wherein the first and second openings have the same pattern width.
Abstract translation: 目的：提供一种用于制造用于投影消融的掩模的方法，以通过从掩模基板的下侧投射激光束来获得具有精细图案宽度的掩模图案层，而不管激光束的能量分布如何。 构成：用于制造用于投影消融的掩模的方法包括以下步骤：在掩模基板（100）上形成第一金属层，将来自掩模基板的下侧的激光束投射到第一金属层以形成第一开口（ 211a）和第一金属层（211），在掩模基板和第一金属图案层上形成第二金属层，将激光束从掩模基板的下侧突出到第二金属层，形成第二开口（221a ）和第二金属图案层（221），其中第一和第二开口具有相同的图案宽度。
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公开(公告)号：KR100543166B1
公开(公告)日：2006-01-20
申请号：KR1020030066311
申请日：2003-09-24
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 펨토초 레이저로 공작물을 정밀 가공하는 레이저 가공장치는 펨토초 레이저를 생성하는 레이저 발진기(1)와, 상기 레이저 발진기에서 발생한 펨토초 레이저 빔을 전송하는 레이저 빔전송부와, 상기 빔전송부로부터 전송되는 레이저 빔을 집속하는 빔집속부(8)와 상기 빔집속부로부터 나오는 레이저 빔의 초점 위치에 공작물을 고정하여 지지하는 공작물 지지장치(15)를 구비한다. 상기 빔전송부는 레이저빔을 적어도 두 개의 경로로 나누는 빔분할기(6)를 구비한다. 각각의 레이저 경로를 통하여 전달되는 레이저 빔으로 가공할 수 있도록 각각 빔집속부와 공작물 지지장치를 구비하는 제1 레이저 가공 스테이션과 제2 레이저 가공 스테이션으로 구성된다. 상기 제1 레이저 가공 스테이션은 제1 빔집속부와, 제1 공작물 지지장치와, 제1 이송 스테이지를 구비하여 공작물을 이동시키며 가공할 수 있으며, 제2 레이저 가공 스테이션은 갈바노 스캐너의 빔편향부(18)와, 제2 빔집속부와, 제2 공작물 지지장치를 구비하여 공작물을 고정하고 빔편향부에서 레이저빔을 편향시켜 조사함으로써 가공할 수 있다. 상기 공작물 지지장치는 시편고정을 위한 진공챔버를 구성한다.
펨토초 레이저, 가공장치, 갈바노 스캐너, 스테이지, 시편고정 진공장치
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