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公开(公告)号：KR1020130010881A
公开(公告)日：2013-01-29
申请号：KR1020127012430
申请日：2011-06-24
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: PURPOSE: A device for measuring a via-hole of a silicon wafer and a method thereof are provided to measure the depth and the diameter of the via-hole of the silicon wafer at a high speed and high precision. CONSTITUTION: A device for measuring a via-hole of a silicon wafer comprises a light source unit(1) and an interferometer(2). The light source unit generates infrared lights of a broadband. The interferometer senses interference signals generated by reflecting the infrared lights of the broadband by a floor surface of the via-hole, a boundary surface of a front surface of a rear surface of the silicon wafer and measures the depth and the diameter of the via-hole by simultaneously obtaining an optical passage difference with respect to a plurality of frequency components through a spectrum cycle analysis of the interference signals.
Abstract translation: 目的：提供一种用于测量硅晶片的通孔的装置及其方法，以高速度和高精度测量硅晶片的通孔的深度和直径。 构成：用于测量硅晶片的通孔的装置包括光源单元（1）和干涉仪（2）。 光源单元产生宽带的红外灯。 干涉仪感测通过通孔的地板表面反射宽带的红外线产生的干涉信号，硅晶片的后表面的前表面的边界面，并测量通孔的深度和直径， 通过干涉信号的频谱周期分析同时获得关于多个频率分量的光通路差异。
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公开(公告)号：KR1020110121461A
公开(公告)日：2011-11-07
申请号：KR1020100041061
申请日：2010-04-30
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: PURPOSE: A profile measuring apparatus using an astigmatic lens is provided to measure a minute profile in real time regardless of external environment by detecting a focus error signal. CONSTITUTION: A profile measuring apparatus using an astigmatic lens comprises a lighting unit(1), an imaging unit(20), and an astigmatic lens(21). The lighting unit comprises a light source(10) and a mask(11). The light source irradiates light to a target object(90). Multiple holes are formed in the mask and pass through the irradiated light. The imaging unit images the light reflected from the target object. The astigmatic lens is installed between the imaging unit and the target object.
Abstract translation: 目的：提供使用散光透镜的轮廓测量装置，通过检测聚焦误差信号，无论外部环境如何，实时测量微分图。 构成：使用散光透镜的轮廓测量装置包括照明单元（1），成像单元（20）和像散透镜（21）。 照明单元包括光源（10）和掩模（11）。 光源将光照射到目标物体（90）。 在掩模中形成多个孔并穿过照射的光。 成像单元对从目标物体反射的光进行成像。 像散透镜安装在成像单元和目标物体之间。
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公开(公告)号：KR1020110039078A
公开(公告)日：2011-04-15
申请号：KR1020090096356
申请日：2009-10-09
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: PURPOSE: A measurement system on geometrical thickness and refractive index of materials using a pulse laser is provided to calculate exact thickness and refractive index of a target object in single detection. CONSTITUTION: A measurement system on geometrical thickness and refractive index of materials using a pulse laser comprises an illuminating unit(10), a spectrum analysis interference unit, a beam splitter(20), an optical spectrum analyzer and an output unit. The illuminating unit offers the laser of pulse shape at a periodic interval. The spectrum analysis interference unit uses the laser light from the illuminating unit in order to measures and analyzes the interferential signal of the measurement substance. The thickness and refractive index of the measurement substance are produced at the same time. The optical spectrum analyzer measures and analyzes the interferential signal of the light which comes from the beam splitter. The output unit is connected to the optical spectrum analyzer and calculates the thickness of the measurement substance according to the interferential signal of the light and refractive index.
Abstract translation: 目的：提供使用脉冲激光的材料的几何厚度和折射率的测量系统，以在单次检测中计算目标物体的精确厚度和折射率。 构成：使用脉冲激光的材料的几何厚度和折射率的测量系统包括照明单元（10），光谱分析干涉单元，分束器（20），光谱分析仪和输出单元。 照明单元以周期性间隔提供脉冲形状的激光。 频谱分析干扰单元使用来自照明单元的激光来测量和分析测量物质的干涉信号。 测量物质的厚度和折射率同时产生。 光谱分析仪测量并分析来自分束器的光的干涉信号。 输出单元连接到光谱分析仪，根据光和折射率的干涉信号计算测量物质的厚度。
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公开(公告)号：KR1020100041024A
公开(公告)日：2010-04-22
申请号：KR1020080100002
申请日：2008-10-13
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: PURPOSE: An apparatus for six-degree-of-freedom displacement measurement using a two-dimensional grating is provided, which uses the light coming from the same light source. CONSTITUTION: An apparatus for six-degree-of-freedom displacement measurement using a two-dimensional grating comprises a light source(12), a diffraction grating(11), a Z-axis displacement measuring unit, an X-axis displacement measuring unit, and a Y-axis displacement measuring unit. The light source has a monochromatic laser beam. The diffraction grating is attached to the surface of the measurement object. The diffraction grating generates a plurality of diffraction beams. The Z-axis displacement measuring unit measures the Z-axis axial displacement of the diffraction grating. The X-axis displacement measuring unit measures the X-axis axial displacement of the diffraction grating. The Y-axis displacement measuring unit measures the Y-axis axial displacement of the diffraction grating.
Abstract translation: 目的：提供一种使用二维光栅进行六自由度位移测量的装置，其使用来自相同光源的光。 构成：使用二维光栅的六自由度位移测量装置包括光源（12），衍射光栅（11），Z轴位移测量单元，X轴位移测量单元 ，和Y轴位移测量单元。 光源具有单色激光束。 衍射光栅附着在测量对象的表面上。 衍射光栅产生多个衍射光束。 Z轴位移测量单元测量衍射光栅的Z轴轴向位移。 X轴位移测量单元测量衍射光栅的X轴轴向位移。 Y轴位移测量单元测量衍射光栅的Y轴轴向位移。
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公开(公告)号：KR1020090121885A
公开(公告)日：2009-11-26
申请号：KR1020080048027
申请日：2008-05-23
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: G01B11/00
Abstract: PURPOSE: A device for simultaneously measuring linear and angular displacement is provided to completely remove light loss generated in a process of rotating polarized light by using a 1/4 wave plate installed at specific angle as a rotating unit. CONSTITUTION: A device for simultaneously measuring linear and angular displacement comprises a beam splitter(20), a lens(30), a polarizing beam splitter(40), a stage mirror(60), a 1/4 wave plate(70), a line polarizer(90), and an optical detector(1). The beam splitter reflects a part of the light incident to a light source(10) and a part of the light permeates the beam splitter. The lens makes the light passing through the beam splitter into a collimated beam. The polarizing beam splitter passes P-polarization and reflects S-polarization. The stage mirror reflects the light passing through the polarizing beam splitter and sends the light to the polarizing beam splitter again. The 1/4 wave plate changes the polarization direction of the light and sends the light to a reference mirror(80). The line polarizer polarizes specific linear polarization to an optical detector(2) among the light passing through the polarizing beam splitter.
Abstract translation: 目的：提供同时测量线性和角位移的装置，通过使用以特定角度安装的1/4波片作为旋转单元，完全消除旋转偏振光过程中产生的光损失。 构造：用于同时测量线性和角位移的装置包括分束器（20），透镜（30），偏振分束器（40），平台反射镜（60），1/4波片（70） 线偏振器（90）和光学检测器（1）。 分束器反射入射到光源（10）的一部分光，并且光的一部分透射分束器。 透镜使得光通过分束器进入准直光束。 偏振分束器通过P偏振并反射S-偏振。 舞台镜反射穿过偏振分束器的光，并再次将光发送到偏振分束器。 1/4波片改变光的偏振方向，并将光发送到参考镜（80）。 线偏振器在通过偏振分束器的光中将特定的线偏振器偏振到光学检测器（2）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100900477B1
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：KR1020070058845
申请日：2007-06-15
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 두께변화 측정장치 및 그를 이용한 측정방법을 제공한다. 상기 두께변화 측정장치는 레이저(10); 상기 레이저(10)에서 발생한 빔의 일부를 통과시키며 나머지 빔을 수직으로 분할시키는 빔스플리터(20); 상기 빔스플리터(20)에 의해 수직으로 분할된 빔을 통과된 빔과 평행하게 반사시키는 반사미러(30); 상기 빔스플리터(20) 후단에 설치되어 상기 반사미러(30)에 의해 반사된 빔이 입사각을 갖도록 빔스플리터(20)를 통과한 빔과 시료기판(1)으로 집광되도록 하는 제 1 렌즈(40); 상기 빔스플리터(20)와 상기 시료기판(1) 사이 일직선상에 배치되어 상기 빔스플리터(20)를 통과한 빔과 상기 제 1 렌즈(40)에 의해 집광되는 빔을 통과시켜 시료기판(1)으로 조사되도록 하며 시료기판(1)의 양면으로부터 각각 반사된 빔을 재반사시키는 편광빔스플리터(50); 상기 편광빔스플리터(50)에 의해 재반사된 각각의 레이저 빔을 검출하는 광검출기(61,62); 및 상기 광검출기(61,62)로부터 각각 검출된 빔의 간섭신호를 이용하여 두께변화 및 두께의 증감을 분석하는 데이터 분석기(70); 를 포함하는 것을 특징으로 한다.
LCD, 기판, 두께측정-
公开(公告)号：KR1020090046564A
公开(公告)日：2009-05-11
申请号：KR1020070112788
申请日：2007-11-06
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 레이저 간섭계식 메코메타 및 이를 이용한 거리 측정 방법이 개시된다. 레이저 장치는 소정의 기간 동안 주파수가 일정하게 유지되는 빔을 주파수를 달리하며 방출하고, 방출된 빔 각각의 파장을 산출하여 출력한다. 광학 장치는 레이저 장치가 방출한 빔 각각을 변위광 및 기준광으로 분할하여 변위광을 측정대상물에 투사하고 측정대상물로부터 반사된 변위광과 기준광의 광경로 차이로 인한 간섭무늬를 각각 형성한다. 광검출수단은 광학 장치가 형성한 간섭무늬 각각을 검출한다. 거리산출부는 레이저 장치가 출력한 파장 및 광검출수단이 검출한 간섭무늬 각각을 기초로 상기 측정대상물의 거리를 산출한다. 본 발명에 의하면, 거리 측정에 사용되는 빔의 파장의 크기보다 미세한 크기의 거리까지 정확하게 산출하여 사용되는 빔의 파장의 크기의 한계로 나타나는 오차의 발생을 방지하고 고정밀도로 거리를 측정할 수 있으며, 측정대상물의 초기 위치에 대한 정보 없이도 측정대상물의 거리를 측정할 수 있다.
레이저, 메코메타, 파장, 주파수, 거리, 간섭무늬-
公开(公告)号：KR1020090025969A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：KR1020070091211
申请日：2007-09-07
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S5/0687 , H01S5/005 , H01S5/0078 , H01S5/06804 , H01S5/0683
Abstract: An apparatus and a method for stabilizing a frequency of a beam emitted from a semiconductor laser are provided to output a beam having a stabilized frequency according to a free spectral range by controlling a current supplied to a semiconductor laser or a temperature of the semiconductor laser. An apparatus(100) for stabilizing a frequency comprises a semiconductor laser(110), an external reflector(120), an interference signal generating part(130), and a control part(140). The semiconductor laser emits a beam. The external reflector has a resonant frequency. The external reflector reflects an emitted beam to the semiconductor laser in case a frequency of the emitted beam and the resonant frequency are identical. The interference signal generating part generates an interference signal for detecting a wavelength of the emitted beam. The control part detects the wavelength from a generated interference signal.
Abstract translation: 提供用于稳定从半导体激光器发射的光束的频率的装置和方法，以通过控制提供给半导体激光器的电流或半导体激光器的温度，根据自由光谱范围输出具有稳定频率的光束。 用于稳定频率的装置（100）包括半导体激光器（110），外部反射器（120），干扰信号产生部分（130）和控制部分（140）。 半导体激光器发射光束。 外部反射器具有谐振频率。 在发射光束的频率和谐振频率相同的情况下，外部反射器将发射的光束反射到半导体激光器。 干扰信号产生部分产生用于检测发射波束的波长的干扰信号。 控制部分从产生的干扰信号中检测波长。
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公开(公告)号：KR1020080110229A
公开(公告)日：2008-12-18
申请号：KR1020070058716
申请日：2007-06-15
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01Q60/38 , G01Q20/02 , G01Q30/025
Abstract: A head module part of an atomic force microscope is provided to simplify optical elements and fine arrangement parts, and secure a wide viewing angle of the microscope. A cantilever(55) is positioned at an end of a parent plate(50), which is attached to a scanner, and mounted with a probe(57) at an end thereof. A laser unit is positioned above the cantilever. An optical fiber(60) has an end cut into a slant surface(65), wherein the end is positioned above the probe for controlling the path of laser beams generated by the laser unit. A detector(80) detects laser beams reflected against the cantilever.
Abstract translation: 提供原子力显微镜的头模块部分，以简化光学元件和精细布置部件，并确保显微镜的宽视角。 悬臂（55）位于母板（50）的端部，该母板附接到扫描器，并在其末端安装有探针（57）。 激光单元位于悬臂上方。 光纤（60）具有切割成倾斜表面（65）的端部，其中端部位于探针上方，用于控制由激光单元产生的激光束的路径。 检测器（80）检测反对悬臂的激光束。
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公开(公告)号：KR101879641B1
公开(公告)日：2018-07-19
申请号：KR1020170022860
申请日：2017-02-21
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01N15/06 , G01N21/47 , G01N2015/0693 , G01N2015/0846 , G01S17/88
Abstract: 본발명의일 실시예에따른탁도측정방법은, 해수면에서만반사하는제1 파장의레이저펄스빔과상기해수면을투과하여해저까지도달하고반사하는제2 파장의레이저펄스빔을수중에동시에제공하는단계; 상기제1 파장의레이저펄스빔이상기해수면에서수면산란에기인한제1 광신호및 상기제2 파장의레이저펄스빔이수면산란, 수중산란 , 그리고해저면산란에기인한제2 광신호를수신광학계를통하여수집하고, 파장에따라제1 광신호및 제2 광신호를각각시간에따라검출하는단계; 상기제1 광신호및 제2 광신호를각각제1 디지털전기신호및 제2 디지털전기신호로변환하는단계; 상기제1 디지털전기신호를수면산란신호가발생하는소정의시간구간에대하여적분하여제1 적분신호를생성하는단계; 상기제2 디지털전기신호를상기수면산란신호가발생하는소정의시간구간에대하여적분하여제2 적분신호를생성하는단계; 상기제2 적분신호를상기제1 적분신호로나누어규격화된측정적분신호를생성하는단계; 및이론값을이용하여예측된탁도에따른규격화된이론적분신호의관계를이용하여상기규격화된측정적분신호에대응하는측정탁도를추출하는단계를포함한다.
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