Abstract:
본 발명은 절대 위치 측정 방법, 절대 위치 측정 장치, 및 스케일을 제공한다. 이 스케일은 제1 폭을 가지고 제1 상태를 나타내는 제1 심볼(symbol), 상기 제1 폭을 가지고 제2 상태를 나타내는 제2 심볼을 이용하여 N 스테이지(stage)의 선형 피드백 천이 레지스터의 시퀀스를 가지고 반복적으로 배치된 의사 잡음 코드(Pseudo-random-code)를 대체하여 형성된 스케일 패턴을 포함한다. 제1 심볼은 2 개 이상의 제1 심볼 영역들로 분할되고, 제2 심볼은 2 개 이상으로 제2 심볼 영역들로 분할되고, 제1 심볼과 상기 제2 심볼이 중첩되어 동일한 구조를 가지는 중첩 영역이 적어도 하나는 존재한다.
Abstract:
본 발명은 가스 검출 장치 및 가스 검출 방법을 제공한다. 이 가스 검출 장치는 특정한 가스의 흡수 스펙트럼 중에서 특정한 단일 흡수선의 선폭의 범위에서 변조 주파수를 가지고 시간에 따라 레이저 주파수를 연속적으로 변경하는 레이저 광원; 상기 레이저 광원의 출력광을 측정 대상에 제공하는 송신 광학계; 상기 측정 대상에서 상기 특정한 가스에 의한 흡수되어 반사된 반사광을 수신하는 수신 광학계; 상기 특정한 가스의 흡수 스펙트럼 중에서 특정한 흡수 대역의 중심에 상기 레이저 광원의 중심 주파수를 고정하기 위한 주파수 잠금부; 및 상기 수신 광학계가 측정한 상기 반사광을 분석하여 상기 변조 주파수의 고조파 성분을 추출하는 제어부를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 반사면 프로파일 측정 장치 및 방법을 제공한다. 이 반사면 프로파일 측정 장치는, Twyman-Green 간섭계(120); 상기 Twyman-Green 간섭계의 측정 경로에 배치된 반사 광학 소자(12)를 이동시키는 스캐닝 스테이지(110); 상기 스캐닝 스테이지(110)에 장착되어 이동하는 스테이지 미러(112); 상기 스테이지 미러에서 반사되는 빔을 이용하여 상기 스캐닝 스테이지(110)의 위치와 회전 운동 오차를 측정하는 선형/각도 간섭계(linear/angular interferometer, 150); 및 신호 처리부(130)를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 절대거리 측정 장치를 제공한다. 이 절대거리 측정 장치는 모드 잠금 광빗 레이저; 상기 모드 잠금 광빗 레이저의 출력광을 제공받아 기준 경로와 측정 경로로 빔을 분할하는 제1 광 분할기; 상기 기준 경로의 기준 빔을 제공받아 제1 기준 거울와 제2 기준거울로 빔을 분할하는 제2 광 분할기; 상기 제1 광분할기로부터 상기 측정 경로의 측정 빔을 제공받아 반사시키는 측정 대상; 상기 측정 대상으로부터 반사된 빔을 상기 측정 경로를 따라 상기 제1 광 분할기를 통하여 제공받고, 상기 제1 기준 거울로부터 반사된 빔, 그리고 상기 제2 기준 거울로부터 반사된 빔을 상기 기준 경로를 따라 상기 제1 광 분할기를 통하여 제공받아 파장에 따른 스펙트럼을 측정하는 광 스펙트럼 분석기; 및 상기 광 스펙트럼 분석기의 측정 결과를 분석하여 상기 측정 대상의 절대거리를 추출하는 연산부를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 광주파수 및 강도 변조 레이저 흡수 분광 장치 및 광주파수 및 강도 변조 레이저 흡수 분광 방법를 제공한다. 이 광주파수 및 강도 변조 레이저 흡수 분광 장치는 가시광선 대역의 시야 빔을 출력하는 전시야 광원; 레이저 빔의 광주파수를 변조 주파수(f m )로 주파수 변조하고, 상기 레이저 빔의 강도를 변조 주파수(f m )로 강도 변조하여 프로브 빔을 출력하고, 상기 프로브 빔을 제공받은 측정 대상이 공명 흡수에 의하여 생성하는 레이저 흡수 신호를 전기 신호로 변환하고, 변환된 레이저 흡수 신호로부터 상기 변조 주파수(f m )의 제1 고조파 성분 및 제2 고주파 성분을 추출하는 주파수 및 강도 변조 분광 처리부; 상기 시야 빔 및 상기 프로브 빔을 대물 렌즈에 제공하는 빔 처리부; 상기 시야 빔을 상기 측정 대상에 전시야 광으로 제공하고, 상기 프로브 빔을 그 초점에 집속하여 상기 측정 대상의 측정 위치에 제공하는 대물렌즈를 포함한다.
Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따른 탁도 측정 방법은, 해수면에서만 반사하는 제1 파장의 레이저 펄스 빔과 상기 해수면을 투과하여 해저까지 도달하고 반사하는 제2 파장의 레이저 펄스 빔을 수중에 동시에 제공하는 단계; 상기 제1 파장의 레이저 펄스 빔이 상기 해수면에서 수면 산란에 기인한 제1 광신호 및 상기 제2 파장의 레이저 펄스 빔이 수면 산란, 수중 산란, 그리고 해저면 산란에 기인한 제2 광신호를 수신 광학계를 통하여 수집하고, 파장에 따라 제1 광신호 및 제2 광신호를 각각 시간에 따라 검출하는 단계; 상기 제1 광신호 및 제2 광신호를 각각 제1 디지털 전기 신호 및 제2 디지털 전기 신호로 변환하는 단계; 상기 제1 디지털 전기 신호를 수면 산란 신호가 발생하는 소정의 시간 구간에 대하여 적분하여 제1 적분 신호를 생성하는 단계; 상기 제2 디지털 전기 신호를 상기 수면 산란 신호가 발생하는 소정의 시간 구간에 대하여 적분하여 제2 적분 신호를 생성하는 단계; 상기 제2 적분신호를 상기 제1 적분 신호로 나누어 규격화된 측정 적분 신호를 생성하는 단계; 및 이론값을 이용하여 예측된 탁도에 따른 규격화된 이론 적분 신호의 관계를 이용하여 상기 규격화된 측정 적분 신호에 대응하는 측정 탁도를 추출하는 단계를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 거리 측정 장치에 관한 것이다. 본 발명의 거리 측정 장치는 이미지 센서 및 이미지 센서 구동부를 포함한다. 이미지 센서는 포토다이오드, 제1 커패시터 및 제2 커패시터, 그리고 포토다이오드의 출력을 제1 커패시터 및 제2 커패시터로 각각 전달하는 제1 전송 게이트 및 제2 전송 게이트를 포함한다. 이미지 센서 구동부는 제1 전송 게이트 및 제2 전송 게이트를 상보적으로 구동한다.
Abstract:
본 발명은 광주파수/강도 변조 레이저 흡수 분광 장치 및 광주파수/강도 변조 레이저 흡수 분광 방법을 제공한다. 이 광주파수/강도 변조 레이저 흡수 분광 장치는 측정 대상에 프로브 빔을 제공하고 소정의 주파수 대역에서 변조 주파수(f m )로 상기 프로브 빔의 광주파수를 변조하고 상기 변조 주파수(f m )로 상기 프로브 빔의 강도를 변조하는 레이저 광원부; 상기 측정 대상에서 반사, 투과, 또는 산란된 프로브 빔을 전기 신호로 변환하는 광감지부; 및 상기 광감지부의 출력 신호인 레이저 흡수 신호를 처리하여 상기 변조 주파수(f m )의 1차 고주파 성분(M 1f ) 및 상기 변조 주파수(f m )의 2차 고조파 성분(M 2f )을 추출하고 상기 변조 주파수(f m )의 1차 고조파 성분(M 1f )과 상기 변조 주파수의 2차 고조파 성분(M 2f )의 비(M 1f /M 2f )를 이용하여 상기 측정 대상에 의한 상기 프로브 빔의 흡수도를 산출하는 처리부를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 웨이퍼를 손상시키지 않고 비아홀의 깊이를 정확하게 측정할 수 있는 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것으로, 광 투과 특성이 우수한 실리콘 웨이퍼에 광대역 적외선 광을 조사하여 웨이퍼의 각 경계면으로부터 반사되는 빛과 기준광의 간섭 신호로부터 비아홀의 깊이를 측정할 수 있게 한 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 비아홀 측정 장치는 광대역의 적외선 광을 생성하는 광원부와 상기 광원부로부터 생성된 광을 실리콘 웨이퍼에 조사하여 상기 실리콘 웨이퍼로부터 반사된 빛의 간섭 신호의 스펙트럼 주기로부터 웨이퍼에 형성된 비아홀의 깊이를 측정하는 간섭계를 포함한다.