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公开(公告)号：WO2013172561A2
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：PCT/KR2013/003469
申请日：2013-04-23
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01D5/34707 , G01D5/2455 , G01D5/34746 , G01D5/34776 , G01D5/34792
Abstract: 본 발명은 절대 위치 측정 방법, 절대 위치 측정 장치, 및 스케일을 제공한다. 이 스케일은 제1 폭을 가지고 제1 상태를 나타내는 제1 심볼(symbol), 상기 제1 폭을 가지고 제2 상태를 나타내는 제2 심볼을 이용하여 N 스테이지(stage)의 선형 피드백 천이 레지스터의 시퀀스를 가지고 반복적으로 배치된 의사 잡음 코드(Pseudo-random-code)를 대체하여 형성된 스케일 패턴을 포함한다. 제1 심볼은 2 개 이상의 제1 심볼 영역들로 분할되고, 제2 심볼은 2 개 이상으로 제2 심볼 영역들로 분할되고, 제1 심볼과 상기 제2 심볼이 중첩되어 동일한 구조를 가지는 중첩 영역이 적어도 하나는 존재한다.
Abstract translation: 本发明提供绝对位置测量方法，绝对位置测量装置和刻度。 缩放比例包括通过使用具有第一宽度并表示第一状态的第一符号和具有第一宽度的第二符号代替重复排列的伪随机码与N级线性反馈转换电阻序列而形成的比例模式， 第二个状态 第一符号被划分为两个或更多个第一符号区域，第二符号被划分为两个或更多个第二符号区域，并且由于第一符号和第二符号的重叠而存在具有相同结构的至少一个重叠区域 。
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公开(公告)号：WO2011162566A2
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：PCT/KR2011/004616
申请日：2011-06-24
CPC classification number: G01B11/22 , G01B9/02008 , G01B11/12 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G01N2021/95653
Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 손상시키지 않고 비아홀의 깊이를 정확하게 측정할 수 있는 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것으로, 광 투과 특성이 우수한 실리콘 웨이퍼에 광대역 적외선 광을 조사하여 웨이퍼의 각 경계면으로부터 반사되는 빛과 기준광의 간섭 신호로부터 비아홀의 깊이를 측정할 수 있게 한 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 비아홀 측정 장치는 광대역의 적외선 광을 생성하는 광원부와 상기 광원부로부터 생성된 광을 실리콘 웨이퍼에 조사하여 상기 실리콘 웨이퍼로부터 반사된 빛의 간섭 신호의 스펙트럼 주기로부터 웨이퍼에 형성된 비아홀의 깊이를 측정하는 간섭계를 포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及用于测量硅晶片的通孔的装置和方法，其中可以精确地测量通孔的深度而不损坏晶片。 宽带红外光被照射到具有优异的透光性的硅晶片，从而可以从从晶片的每个边界面反射的光和参考光的干涉信号测量通孔的深度。 根据本发明的通孔测量装置包括：用于产生宽带红外光的光源单元; 以及干涉仪，用于将从光源单元产生的光发射到硅晶片，以便根据光的干涉信号的光谱周期来测量形成在晶片上的通孔的深度，该距离从 硅晶片。
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公开(公告)号：KR101544962B1
公开(公告)日：2015-08-18
申请号：KR1020140041473
申请日：2014-04-07
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 두께 측정 광학 장치 및 두께 측정 방법을 제공한다. 이 두께 측정 광학 장치는 광대역 레이저 광을 출력하는 광대역 레이저 광원; 상기 광대역 레이저 광원의 출력광을 제1 포트로 제공받아 제2 포트 및 제3 포트로 분할하는 제1 광섬유 커플러; 상기 제1 광섬유 커플러의 제2 포트에서 출력되는 광을 제1 포트로 입력받고 상기 제1 광섬유 커플러의 제3 포트에서 출력된 광을 측정 대상을 경유하여 제2 포트로 입력받아 상기 제1 포트로 입력된 광과 제2 포트로 입력된 광을 결합하여 제3 포트로 출력하는 제2 광섬유 커플러; 및 상기 제2 광섬유 커플러의 제3 포트로 출력되는 광을 파장에 따라 측정하는 제1 스펙트럼 분석기를 포함한다. 상기 제1 스펙트럼 분석기는 파장에 따라 간섭 신호를 측정한다.
Abstract translation: 本发明提供一种厚度测量光学装置和厚度测量方法。 厚度测量光学装置包括：用于输出宽带激光束的宽带激光源; 第一光纤耦合器，其通过第一端口接收宽带激光源的输出光束，然后通过第二端口和第三端口分割输出光束; 第二光纤耦合器，其通过第一端口输入从第一光纤耦合器的第二端口输出的光束，并且经由第二端口经由第一端口经由第一端口经由第一端口经由第一端口经由 并且将通过第一端口输入的波束和通过第二端口输入的波束组合，然后通过第三端口输出组合的波束; 以及第一频谱分析仪，其根据波长测量通过第二光纤耦合器的第三端口输出的光束。 第一个频谱分析仪根据波长测量干扰信号。
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公开(公告)号：KR1020130138470A
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：KR1020120062074
申请日：2012-06-11
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01D5/2451 , G01D5/36 , H03M1/12
Abstract: The present invention provides a position measuring device and a position measuring method. The position measuring method includes a step of generating measurement signals by sensing lights reflected by or transmitted through an incremental scale while having phase difference of an angle of 60 degrees within one cycle of the incremental scale; a step of displaying the sensed measurement signals as the sum of first sine waves and third sine waves of a fundamental spatial frequency; and a step of extracting phases of the first sine waves based on the measurement signals.
Abstract translation: 本发明提供一种位置测量装置和位置测量方法。 位置测量方法包括以下步骤：通过在增量刻度的一个循环内具有60度角的相位差来感测由增量刻度反射或透射的光产生测量信号; 将感测的测量信号显示为基本空间频率的第一正弦波和第三正弦波的和的步骤; 以及基于测量信号提取第一正弦波的相位的步骤。
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公开(公告)号：KR101267879B1
公开(公告)日：2013-05-27
申请号：KR1020100104855
申请日：2010-10-26
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본발명은가시도향상간섭계에관한것으로, 더상세하게는유리와같이반사율이낮거나, 거칠기가큰 면을갖는저반사율물질에대해주입잠금기법을적용한것이다. 특히광분할에의해나눠진빛 중저반사율물질인측정면에반사되어유입된광신호를위상왜곡없이증폭하여기준면과의광량을동일또는유사하게함으로써가시도를향상시킨간섭계에관한것이다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101242470B1
公开(公告)日：2013-03-12
申请号：KR1020127012430
申请日：2011-06-24
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 손상시키지 않고 비아홀의 깊이를 정확하게 측정할 수 있는 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것으로, 광 투과 특성이 우수한 실리콘 웨이퍼에 광대역 적외선 광을 조사하여 웨이퍼의 각 경계면으로부터 반사되는 빛과 기준광의 간섭 신호로부터 비아홀의 깊이를 측정할 수 있게 한 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 비아홀 측정 장치는 광대역의 적외선 광을 생성하는 광원부와 상기 광원부로부터 생성된 광을 실리콘 웨이퍼에 조사하여 상기 실리콘 웨이퍼로부터 반사된 빛의 간섭 신호의 스펙트럼 주기로부터 웨이퍼에 형성된 비아홀의 깊이를 측정하는 간섭계를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020120043526A
公开(公告)日：2012-05-04
申请号：KR1020100104862
申请日：2010-10-26
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: G01B9/02 , G01N33/483
Abstract: PURPOSE: A visibility enhanced low coherence interferometer is provided to improve the visibility because reference light signal and reflected light signal individually reflected from a reference surface and measuring surface are formed to be the same or similar. CONSTITUTION: A visibility enhanced low coherence interferometer comprises a main optical source unit(20), a light splitting unit(30), a reference surface reflection unit, a measuring surface reflection unit(50), an optical detecting unit(60), an optical axis micro moving unit(70), and an auxiliary light source unit(80). The main optical source unit projects multi-wavelength light. The light splitting unit divides a light signal into two. The reference and measuring surface reflection units respectively reflect the light signals divided by the light splitting unit to each measuring surface of measuring objects. The light detecting unit observes the interference by gathering the reflected lights from the reference and measuring surface reflection units. The auxiliary light source unit amplifies weak reflected light so that the visibility is uniformly maintained. The optical axis micro moving unit minutely transfers the reference surface of a reference surface reflection unit or a measuring surface of the measuring surface reflection unit to an optical axial direction.
Abstract translation: 目的：提供可见度增强型低相干干涉仪以提高可视性，因为从参考表面和测量表面分别反射的参考光信号和反射光信号被形成为相同或相似的。 构成：可见度增强型低相干干涉仪包括主光源单元（20），分光单元（30），参考表面反射单元，测量表面反射单元（50），光学检测单元（60）， 光轴微动单元（70）和辅助光源单元（80）。 主要光源单元投射多波长光。 光分离单元将光信号分为两个。 参考和测量表面反射单元分别将由光分离单元划分的光信号反映到测量对象的每个测量表面。 光检测单元通过从参考和测量表面反射单元收集反射光来观察干扰。 辅助光源单元放大弱反射光，使得能见度被均匀地保持。 光轴微动单元将基准面反射单元的基准面或测量面反射单元的测量面精细地转移到光轴方向。
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公开(公告)号：KR101088777B1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：KR1020090107607
申请日：2009-11-09
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 카메라와 렌즈 사이에 초점흐림수단을 설치하여 초점이 흐려진 영상을 카메라에서 인식하고 이를 분석하여 피사체의 형상을 측정할 수 있게 한 입체형상측정장치에 관한 것이다.
이러한 본 발명의 입체형상측정장치는 반도체 모듈 등의 피사체를 촬영하는 카메라를 포함하여 구성되는 입체형상측정장치에 있어서, 상기 카메라의 전면에 카메라로 입사된 피사체 영상의 초점을 흐리기 위한 초점흐림수단을 설치하여 구성됨을 특징으로 한다.
입체형상, 초점흐림수단, 굴절률, 초점거리-
公开(公告)号：KR1020110101537A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：KR1020100020597
申请日：2010-03-09
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G02B21/008 , G02B7/04 , G02B7/28 , G02B21/0032 , G02B21/006 , G02B21/06
Abstract: 본 발명이 해결하려는 과제는 종래 공초점 현미경의 광축주사 과정을 제거하여 한번의 측정 데이터로 초점위치를 검출하고 3차원 형상을 복원하는 광축주사 과정을 제거한 공초점 현미경을 제공하는 것이다. 본 발명 광축주사 과정을 제거한 공초점 현미경은, 복수의 광검출기로 구성된 공초점 현미경과; 상기 공초점 현미경을 통해 검출된 복수의 광을 이용하여 초점위치를 검출하는 처리부로 구성된 것을 특징으로 한다. 상기 처리부에서 초점검출 방법은 복수의 광검출기의 광축위치를 설정하는 단계와; 상기 광축위치에서 복수의 광검출기를 이용하여 광량을 검출하는 단계와; 상기 광검출기의 설정된 광축위치와 광축위치에서 검출된 광량을 이용하여 측정시편의 초점위치를 검출하는 단계로 구성된 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 종래 공초점 현미경의 광축주사 과정을 제거하여 한번의 측정 데이터로 초점위치를 검출하므로 측정시편의 초점위치를 검출하는 시간이 감소하게 되고, 초점을 검출하는 시간이 감소함으로서 3차원 형상을 복원하는 시간이 감소하게 된다. 아울러, 광축주사 과정을 제거하여 광축주사 과정으로 인하여 공초점 현미경에 미치는 물리적 영향을 최소화하여 정확한 측정을 할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020110023019A
公开(公告)日：2011-03-08
申请号：KR1020090080595
申请日：2009-08-28
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: PURPOSE: A high resolution interferometer using multi-pass optical configuration is provided to improve resolution function by simplifying the structure of an optical system and increasing optical paths. CONSTITUTION: A high resolution interferometer using multi-pass optical configuration comprises a polarized beam splitter(10) and a multi-path forming device(30). The polarized beam splitter guides incident light to a measurement path in order to measure the displacement. The multi-path forming device performs re-reflection light to the polarized beam splitter after multiplying the optical path by using a corner cube array. The multi-path forming device comprises a moving corner cube array(31) and a fixed corner cube array(32). The moving corner cube array performs re-reflection of the incoming light while moving in a horizontal direction. The fixed corner cube array re-reflects the light reflected to the moving corner cube array to the moving corner cube array.
Abstract translation: 目的：提供使用多通光学配置的高分辨率干涉仪，通过简化光学系统的结构和增加光路来提高分辨率。 构成：使用多遍光学配置的高分辨率干涉仪包括偏振分束器（10）和多路径形成装置（30）。 偏振分束器将入射光引导到测量路径以测量位移。 多路形成装置在通过使用角立方体阵列对光路进行乘法后，对偏振分束器进行再反射光。 多路径形成装置包括移动角立方体阵列（31）和固定角立方体阵列（32）。 移动的角立方体阵列在水平方向移动时执行入射光的再反射。 固定角立方体阵列将反射到移动角立方体阵列的光重新反射到移动的角立方体阵列。
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