Abstract:
Es wird ein Bauteil (10) mit einem Hauptkörper (2) und einer Kontaktstruktur (4) angegeben, wobei der Hauptkörper (2) eine aktive Zone (23) aufweist, die im Betrieb des Bauteils (10) zumindest bereichsweise zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung eingerichtet ist. Die Kontaktstruktur (4) weist eine Mehrzahl von individuell ansteuerbaren Segmenten (40) auf. Das Bauteil (10) weist eine Anschlussfläche (11) und eine quer zu der Anschlussfläche (11) verlaufende Seitenfläche (13) auf, wobei die Seitenfläche (13) als Strahlungsdurchtrittsfläche des Bauteils (10) ausgeführt ist. Die Anschlussfläche (11) ist strukturiert ausgeführt, wobei die Anschlussfläche (11) durch innere gemeinsame Grenzflächen zwischen dem Hauptkörper (2) und der Kontaktstruktur (4) definiert ist, und wobei die Segmente (40) jeweils eine lokale gemeinsame Grenzfläche mit dem Hauptkörper (2) aufweisen und zur pixelierten Stromeinprägung in den Hauptkörper (2) eingerichtet sind. Des Weiteren wird ein Verfahren zum Betreiben eines solchen Bauteils (10) angegeben.
Abstract:
Der Diodenlaser (1000) umfasst einen Laserbarren mit einem Halbleiterkörper (1) und einer aktiven Schicht (11), wobei der Laserbarren mehrere Einzelemitter (2) aufweist. Zumindest einigen Einzelemittern sind jeweils ein Abschnitt (20) des Halbleiterkörpers und ein dazu in Serie geschaltetes Stromregelelement (21) zugeordnet, so dass im bestimmungsgemäßen Betrieb der Einzelemitter jeweils ein dem Einzelemitter zugeführter elektrischer Betriebsström I 0 vollständig durch den zugeordneten Abschnitt des Halbleiterkörpers fließt und dabei an dem Abschnitt ein Spannungsabfall U H auftritt und zumindest ein Teil dieses BetriebsStroms l 0 durch das zugeordnete Stromregelelement fließt und dabei einen elektrischen Widerstand R S erfährt. Bei den Einzelemittern ist das jeweils zugeordnete Stromregelelement so eingerichtet, dass der Widerstand Rg bei einer Betriebstemperatur T 0 einen positiven Temperaturkoeffizienten dR S /dT| T0 aufweist. Alternativ oder zusätzlich ist der Widerstand R S größer als |ΔU H /I 0 , wobei ΔU H die Änderung des Spannungsabfalls U H am zugeordneten Abschnitt des Halbleiterkörpers bei Erhöhung der Temperatur T des Einzelemitters von einer Betriebstemperatur T 0 um 1 K ist.
Abstract:
In einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) eine Primärlichtquelle (11) und eine Sekundärlichtquelle (12). Die Primärlichtquelle (11) und die Sekundärlichtquelle (12) sind in dem Halbleiterbauteil (1) monolithisch integriert, sodass sich zwischen diesen ausschließlich kondensierte Materie befindet. Die Primärlichtquelle (11) umfasst einen ersten Resonator (11), der eine Halbleiterschichtenfolge (3) beinhaltet, die im Betrieb elektrisch gepumpt wird. Eine erste Resonatorachse (51) des ersten Resonators (21) ist parallel zu einer Wachstumsrichtung (G) der Halbleiterschichtenfolge (3) orientiert. Die Primärlichtquelle (11) ist zur Erzeugung einer Pumplaserstrahlung (P) eingerichtet. Die Sekundärlichtquelle (12) umfasst ein Pumpmedium (4) zur Erzeugung einer Sekundärstrahlung (S) und das Pumpmedium (4) wird von der Pumplaserstrahlung (P) optisch gepumpt. Die erste Resonatorachse (51) weist an dem Pumpmedium (4) vorbei.
Abstract:
Lichtemittierendes Halbleiterbauteil (99) mit einem Laserbarren (100), welcher zumindest zwei Einzelemitter (2) umfasst, und einem Konversionselement (300), welches dem Laserbarren (100) im Strahlengang nachgeordnet ist, bei dem zumindest manche der Einzelemitter (2) in einer lateralen Querrichtung (X) nebeneinander angeordnet sind, der Laserbarren (100) mit einem Nitrid-Verbindungshalbleitermaterialgebildet ist, die Einzelemitter (2) dazu eingerichtet sind im bestimmungsgemäßen Betrieb Primärstrahlung (L1) zu emittieren und das Konversionselement (300) dazu eingerichtet ist zumindest einen Teil der Primärstrahlung (L1) in Sekundärstrahlung (L2) umzuwandeln, wobei die Sekundärstrahlung (L2) eine längere Wellenlänge aufweist als die Primärstrahlung (L1).
Abstract:
Es umfasst die Halbleiterlichtquelle (1) einen Laser (2) und einen Leuchtstoff (3). Der Laser (2) umfasst einen Halbleiterkörper (21) mit einer aktiven Zone (22) zur Erzeugung von Laserstrahlung (L). In dem Laser (2) ist ein Resonator (23) mit Resonatorspiegeln (25) und mit einer Längsachse (24) ausgebildet. Die Laserstrahlung (L) wird im Betrieb längs der Längsachse (24) geführt und verstärkt. Die aktive Zone (22) befindet sich wenigstens zum Teil in dem Resonator (23). Der Leuchtstoff (3) ist spaltfrei optisch an den Resonator (23) gekoppelt, sodass in Richtung quer zur Längsachse (24) die Laserstrahlung (L) in den Leuchtstoff (3) gelangt und in eine Sekundärstrahlung (S) mit einer größeren Wellenlänge umgewandelt wird.
Abstract:
In einer Ausführungsform umfasst die Halbleiterlichtquelle (1) einen Halbleiterlaser (2) zur Erzeugung einer Primärstrahlung (P) und ein Auskoppelelement (3). Das Auskoppelelement (3) beinhaltet einen durchgehenden Basisbereich (33) und sich von dem Basisbereich (33) weg erstreckende, starre Lichtleitersäulen (34). Die Lichtleitersäulen (34) wirken als Wellenleiter für die Primärstrahlung (P). Die Primärstrahlung (P) wird im Betrieb von dem Halbleiterlaser (2) in den Basisbereich (33) eingestrahlt, gelangt durch den Basisbereich (33) hindurch zu den Lichtleitersäulen (34) und wird von den Lichtleitersäulen (34) gerichtet abgestrahlt. Dabei beträgt ein Intensitätshalbwertswinkel des abgestrahlten Lichts und/oder der abgestrahlten Primärstrahlung (P) höchstens 90°.
Abstract:
In einer Ausführungsform umfasst die Halbleiterlaseranordnung (1) elektrisch gepumpte aktive Zonen (31, 32, 33). Die aktiven Zonen (31, 32, 33) sind dazu eingerichtet, im Betrieb Laserstrahlung (R) mit voneinander verschiedenen Emissionswellenlängen (L1, L2, L3) zu erzeugen. Die Erzeugung der Laserstrahlung (R) erfolgt durch Rekombination von Ladungsträgern in einem Halbleitermaterial, auf dem die aktiven Zonen (31, 32, 33) basieren. Ferner beinhaltet die Halbleiterlaseranordnung (1) eine Wellenleiterstruktur (4). Die aktiven Zonen (31, 32, 33) sind elektrisch unabhängig voneinander betreibbar und entlang einer Strahlrichtung (x) hinsichtlich ihrer Emissionswellenlängen (L1, L2, L3) absteigend angeordnet. Die Wellenleiterstruktur (4)wird im Bereich der entlang der Strahlrichtung (x) letzten aktiven Zone (33) von der Laserstrahlung (R) aller aktiven Zonen (31, 32, 33) gemeinsam durchlaufen.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Laserdiode (1) mit einer Schichtanordnung mit aufeinander angeordneten Schichten, wobei die Schichtanordnung eine erste, eine zweite und eine dritte Schichtstruktur (15, 26, 27) mit wenigstens einer aktiven Zone (18) und zwei Wellenleiterschichten (16, 17) umfasst, wobei die aktive Zone (18) zwischen den zwei Wellenleiterschichten (16, 17) angeordnet ist, mit einer ersten Schichtstruktur (15), wobei sich die erste Schichtstruktur entlang einer Z-Achse in einer Längsrichtung, entlang einer X-Achse in einer Querrichtung und entlang einer Y-Achse in einer Höhenrichtung erstreckt, mit einer zweiten und einer dritten Schichtstruktur (26, 27), die entlang der Z-Achse an gegenüberliegenden Längsseiten der ersten Schichtstruktur angeordnet sind, und an die erste Schichtstruktur (15) angrenzen, wobei die aktive Zone der ersten Schichtstruktur (15) in der Höhe versetzt gegenüber den aktiven Zonen (18) der zweiten und der dritten Schichtstruktur (26, 27) angeordnet ist. Die aktive Zone (18) ist zwischen einem p-Kontakt (28) und einem n-Kontakt (56) angeordnet, wobei seitlich der ersten Schichtstruktur (15) eine Zwischenschicht (7) in der zweiten und der dritten Schichtstruktur (26, 27) angeordnet ist, wobei die Zwischenschicht (7) als elektrisch sperrende Schicht ausgebildet ist, die einen Stromfluss erschwert oder unterbindet, und wobei die Zwischenschicht (7) zwischen der aktiven Zone (18) und dem n-Kontakt (56) angeordnet ist. Zudem betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung der Laserdiode.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement mit einer Schichtstruktur (2) mit einer aktiven Zone (1) zum Erzeugen einer elektromagnetischen Strahlung, wobei die aktive Zone in einer ersten Ebene angeordnet ist, wobei in die Oberfläche der Schichtstruktur eine Ausnehmung (6, 25) eingebracht ist, wobei die Ausnehmung an eine Endfläche (13) des Bauelementes angrenzt, wobei die Endfläche in einer zweiten Ebene angeordnet ist, wobei die zweite Ebene im Wesentlichen senkrecht zur ersten Ebene angeordnet ist, wobei die Ausnehmung eine Bodenfläche (9) und eine Seitenfläche (7, 8) aufweist, wobei die Seitenfläche im Wesentlichen senkrecht zur Endfläche angeordnet ist, wobei die Seitenfläche in einem Winkel geneigt ungleich 90° zu der ersten Ebene der aktiven Zone angeordnet ist, wobei die Bodenfläche im Bereich der ersten Ebene der aktiven Zone angeordnet ist.
Abstract:
Es wird eine Halbleiterlaserlichtquelle mit einem kantenemittierenden Halbleiterkörper (10) angegeben. Der Halbleiterkörper (10) enthält einen Halbleiterschichtstapel (110) mit einer n-leitenden Schicht (111) einer aktiven Schicht (112) und einer p-leitenden Schicht (113), der zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlungausgebildet ist, die einen kohärenten Anteil (21) umfasst. Die Halbleiterlaserlichtquelle ist zur Auskopplung des kohärenten Anteils (21) der elektromagnetischen Strahlung aus einer zur aktiven Schicht (112) geneigten Auskoppelfläche (101) des Halbleiterkörpers (10) ausgebildet ist. Der Halbleiterkörper (10) weist eine zur Auskoppelfläche (101) geneigte weitere Außenfläche (102A, 102B, 102C) auf und hat mindestens einen Licht streuenden Teilbereich (12, 12A, 12B, 12C, 120A, 120B), der dazu vorgesehen ist, einen Teil der von dem Halbleiterschichtstapel (110) erzeugten elektromagnetischen Strahlung in Richtung zu der weiteren Außenfläche (102A, 02B, 102C) hin zu lenken.