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公开(公告)号：CN101303956A
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200810125878.2
申请日：2008-04-09
Applicant: 精工电子有限公司
Inventor： 伊藤雅彰
IPC: H01J37/244 , H01J37/08 , H01J37/317 , H01L21/66 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/22 , H01J37/3171 , H01J2237/032 , H01J2237/1501 , H01J2237/2482
Abstract: 离子束检查装置、离子束检查方法、半导体制造装置以及离子源装置。源头的中心轴和引出电极排在一条直线上，并通过激光束确定该直线和离子束轴是否同轴。因此，将离子束轴上的发射激光束的光发射单元装配到外壳以代替源头，并将反射激光束的反射镜装配到引出电极。光发射装置还具有检测激光束的功能以检测由反射镜反射的激光束，并将该检测的激光束的强度发送到控制单元。调节引出电极的位置以便使激光束的强度变为最大，由此离子束轴可以和离子源及引出电极的中心轴相重合。
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公开(公告)号：CN1964620A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN200480037062.4
申请日：2004-12-09
Applicant: 山米奎普公司
Inventor： 托马斯·N·霍尔斯基 , 罗伯特·W·米尔加特三世
CPC classification number: H01J37/3171 , C23C14/48 , C23C14/564 , H01J9/38 , H01J27/02 , H01J27/024 , H01J37/08 , H01J2209/017 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , Y10T137/0357 , Y10T137/7759 , Y10T137/776 , Y10T137/7761 , Y10T137/85954 , Y10T137/85978 , Y10T137/85986 , Y10T137/86002
Abstract: 一种用于向一真空室输送一稳定的升华蒸气流的蒸气输送系统，其包括一固体材料气化器、一机械节流阀及一压力表、随后是一通往所述真空室的蒸气导管。所述蒸气流速取决于所述气化器的温度及位于所述气化器与所述真空室之间的机械节流阀的流导的设定值二者。所述气化器的温度取决于根据一设定点温度进行的闭环控制。所述机械节流阀受到电控制，例如阀门位置受到根据所述压力表的输出进行的闭环控制。通过此种方式，所述蒸气流速可大体与压力表输出成正比。所有暴露至自所述气化器至所述真空室的蒸气的表面均受到加热来防止冷凝。图中显示一闸阀及一旋转的蝶阀用作上游节流阀。在使用一固定的固体材料充填量时，可使所述气化器的温度在一很长的时间段内保持稳定，在所述时间段内，随着所述充填量的升华，所述节流阀从其工作范围中的一较低的流导缓慢开启。当达到一更大的阀门排放量时，升高温度，以使所述阀门重新调节至其较低的流导设定值，以使其可重新随着所述充填量的进一步消耗而缓慢开启。
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公开(公告)号：CN1868029A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200480030404.X
申请日：2004-10-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳索·Y·斯莫恩斯 , 约翰·R·谢利 , 安德鲁·斯蒂芬·德瓦涅
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/023 , H01J37/3171 , H01J2237/032 , H01J2237/061
Abstract: 本发明提供一种用于离子注入器的动态电极安装件，其中具有限定孔(34)的电极体部分的电极插入构件(21b)插入到电极支撑架。在一个实施例中，插入构件的第一动态对准销(29a)接合电极支撑架(21a)第一沟槽状动态对准表面，以在两个垂直方向上相对于电极支撑架对准第一对准销。另外，插入构件的第二动态对准销(29b)接合电极支撑架(43)的第二动态对准表面，以在旋转方向上相对于电极支撑架对准插入构件。插入构件的多个凸缘接合电极支撑架，以在对准位置保持插入构件并将电极插入构件电耦合到电极支撑架。定位于电极插入构件(21b)和电极支撑架(21a)之间的弹簧(61a)在相对于电极支撑架的对准和保持位置偏置电极插入构件。在另一个实施例中，电极支撑架具有对准销，插入构件具有对准槽。
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公开(公告)号：CN1222981A
公开(公告)日：1999-07-14
申请号：CN98800465.8
申请日：1998-04-08
Applicant: 休斯电子公司
Inventor： 约汉·R·比迪
CPC classification number: F03H1/0043 , G03F7/24 , H01J27/024
Abstract: 本发明用一种新的加工方法来提高曲面电极上的孔眼位置精度。在该方法中,形成曲面电极的变形步骤在形成光致抗蚀剂图模的处理步骤之前,因此不存在变形处理步骤在空间位置上改变光致抗蚀剂图模的问题。对于使用本方法加工的曲面电极的离子推进器,所述位置精度的提高可以改善其性能,延长其使用寿命。
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公开(公告)号：CN1173107A
公开(公告)日：1998-02-11
申请号：CN97114806.6
申请日：1997-05-30
Applicant: 易通公司
Inventor： V·M·本维尼斯特 , M·P·克里斯托弗罗
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H01J27/024 , H01J27/16
Abstract: 包含在本发明中的离子源(12)是用于离子注入器中。离子源(12)包括一个气体密封室(18),该密封室具有限定了一个气体电离区域(120)的导电室壁(112,114,116)。气体密封室(18)设有一个使离子射出室外的出口孔(126)。支架(15)固定与装置(13)相对的气体密封室(18),装置(13)使射出气体密封室的离子形成离子束。电离材料的供给源把材料送到气体密封室(18)中。固定在支架上的天线(130)具有金属射频导电部(132),该导电部直接安装在气体密封室(18)中,给气体电离区域(120)提供电离的能量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109192650A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201810955915.6
申请日：2018-08-21
Applicant: 辉光科技有限公司
Inventor： 高桥孝广
CPC classification number: H01J27/024 , H01J49/0459 , H01J49/10
Abstract: 本发明提供辉光放电系统、其离子引出构造及辉光放电质谱装置。提供一种不大幅地改变以往的辉光放电系统的装置结构、驱动条件，就使所引出的离子束流强增大，并且分析精度更高的辉光放电质谱装置。利用第1板(26)和第2板(28)形成提取板(25)，上述第1板(26)配置在放电区域(27)侧，并在开口部(25a)具有朝向放电区域(27)突出的突出部(26a)，上述第2板(28)在外周缘处连接于该第1板(26)，并且在开口部(25a)侧与该第1板(26)隔着间隙配置，上述提取板(25)配置于放电单元(20)的离子引出口，作为引出电极发挥作用。
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公开(公告)号：CN106573253B
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201480081074.0
申请日：2014-08-08
Applicant: 株式会社岛津制作所
CPC classification number: H01J27/024 , B03C7/02 , G01N15/0266 , G01N27/62 , G01N27/622 , G01N2015/0038 , H01J37/32009 , H01J37/32082 , H01J37/321 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J49/10 , H01J49/12
Abstract: 在粒子荷电装置中设置：将框体(20)内分隔成第1空间(29)和第2空间(30)的过滤器(28)；将粒子导入到第1空间的粒子导入单元(22)；对第1空间供给气体离子的气体离子供给单元(10)；为了使气体离子以及通过该气体离子与上述粒子的接触而生成的带电粒子向第2空间移动，在框体内形成电位梯度的电位梯度形成单元(26、27、31)；对过滤器中包括的相互相邻的电极(28a、b)施加相位不同的交流电压的交流电压施加单元(32，33)；为了使带电粒子通过电极之间并且由电极捕捉气体离子，进行控制以将规定的电压施加到各电极的控制单元(35)；以及将移动到第2空间的带电粒子取出到框体外的带电粒子取出单元(23、25、34)。由此，能够抑制多价荷电的发生频度。
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公开(公告)号：CN107078010A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580059947.2
申请日：2015-08-28
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/317 , H01J37/32
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/3171 , H01J37/32357 , H01J2237/061 , H01J2237/30472
Abstract: 一种处理装置可包括：萃取板沿等离子体室的一侧配置，萃取板具有第一及第二孔洞，以及第一及第二孔洞之间的中间部分，第一及第二孔洞用以在等离子体存于等离子体室中且萃取电压施加于萃取板与基板之间时定义第一及第二离子束；隐藏偏向电极配置于等离子体室外邻近中间部分处，且电性绝缘于萃取板；以及隐藏偏向电极电源用以施加偏压至隐藏偏向电极，其中偏压用以修改第一及第二离子束中离子的入射平均角和/或围绕入射平均角的入射角范围。
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公开(公告)号：CN106573253A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201480081074.0
申请日：2014-08-08
Applicant: 株式会社岛津制作所
CPC classification number: H01J27/024 , B03C7/02 , G01N15/0266 , G01N27/62 , G01N27/622 , G01N2015/0038 , H01J37/32009 , H01J37/32082 , H01J37/321 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J49/10 , H01J49/12
Abstract: 在粒子荷电装置中设置：将框体(20)内分隔成第1空间(29)和第2空间(30)的过滤器(28)；将粒子导入到第1空间的粒子导入单元(22)；对第1空间供给气体离子的气体离子供给单元(10)；为了使气体离子以及通过该气体离子与上述粒子的接触而生成的带电粒子向第2空间移动，在框体内形成电位梯度的电位梯度形成单元(26、27、31)；对过滤器中包括的相互相邻的电极(28a、b)施加相位不同的交流电压的交流电压施加单元(32，33)；为了使带电粒子通过电极之间并且由电极捕捉气体离子，进行控制以将规定的电压施加到各电极的控制单元(35)；以及将移动到第2空间的带电粒子取出到框体外的带电粒子取出单元(23、25、34)。由此，能够抑制多价荷电的发生频度。
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公开(公告)号：CN104885185B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201380063410.4
申请日：2013-10-11
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 杰弗里·查尔斯·伯拉尼克 , 威廉·T·维弗
IPC: H01J27/04 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/317 , H01J27/02 , H01J37/302
CPC classification number: H01J27/024 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/302 , H01J37/3171 , H01J2237/043 , H01J2237/30472 , H01J2237/3171
Abstract: 离子植入机及具有挡帘组件的离子源。离子源包括界定电弧室的电弧室外壳，电弧室外壳在固定位置上具有提取板，提取板界定多个提取孔。离子源还包括挡帘组件，挡帘组件安装于电弧室外侧的靠近提取板处。挡帘组件经配置以于一时间间隔期间阻挡所述多个提取孔中的一者的至少一部分。以自离子源提取的离子束处理工件，并结合离子源与所述待处理工件的相对移动，使得仅用一种离子源即能在工件上形成二维离子植入图案。
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