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    DEVICE FOR STABILIZATION OF ELECTRON BEAM CURRENT
    21.
    发明申请
    DEVICE FOR STABILIZATION OF ELECTRON BEAM CURRENT 审中-公开
    电子束电流稳定装置

    公开(公告)号：WO1981001937A1

    公开(公告)日：1981-07-09

    申请号：PCT/SU1979000133

    申请日：1979-12-26

    Applicant: RAZIN G ,  DMITRIEV S

    IPC: H01J37/06

    CPC classification number: B32B15/08 ,  B65D90/46 ,  G01R13/26 ,  G05F1/455 ,  H01J1/135 ,  H01J37/241 ,  H01J37/243 ,  H05H5/00 ,  H05H7/00

    Abstract: A device for stabilization of the electron beam current comprises a sensor (12) of the deviation of the electron beam current from a preset value, a sawtoothed voltage former (14) which is connected to the high-voltage transformer (2) of an acceleration voltage source and which provides for a periodical sawtoothed voltage the slight slope sections of which are started to be formed at those times when the voltage on the transformer (2) passes through zero-point, an adder (13), one of the inputs of which is connected to the output of the sensor (12) and the other input to the output of the former (14), a threshold element (15) connected to the ouput of the adder (13), a differentiating element (16) connected to the output of the threshold element (15) to ensure the forming of electric driving pulses at the times of intersecting the threshold level of the threshold element (15) by the slight slope sections of the sawtoothed voltage at the output of the adder (13), alight radiation source connected to the output of the differentiating element (16) to ensure the transformation of the electric driving pulses into light ones, and a photothrystor (11) which is controlled by the light impulses and which is connected to the primary winding circuit of a filament transformer (5) supplied from one of the secondary windings of the high-voltage transformer (2).

    Abstract translation: 用于稳定电子束电流的装置包括电子束电流偏离预设值的传感器（12），与高压变压器（2）连接的锯齿电压成形器（14），加速度 电压源，并且其提供周期性锯齿形电压，其中在变压器（2）上的电压通过零点时的那些开始形成的轻微斜率部分，加法器（13），其中一个输入 其连接到传感器（12）的输出端，另一个输入端连接到前一个输出端（14）的输入端，连接到加法器（13）的输出端的一个阈值元件（15），一个与之相连的微分元件（16） 到阈值元件（15）的输出，以确保在阈值元件（15）的阈值电平与加法器（13）的输出处的锯齿电压的轻微斜率部分相交的时刻形成电驱动脉冲 ），照射辐射源 连接到微分元件（16）的输出，以确保电驱动脉冲变为光驱动脉冲，以及由光脉冲控制并连接到灯丝变压器的初级绕组电路的光电二极管（11） （5）从高压变压器（2）的一个次级绕组提供。

    Handgerät und Verfahren zur Plasmabehandlung mit linken und rechten Handsensoren
    24.
    发明公开
    Handgerät und Verfahren zur Plasmabehandlung mit linken und rechten Handsensoren 审中-公开
    与左，右手传感器等离子体处理手装置和方法

    公开(公告)号：EP2859981A1

    公开(公告)日：2015-04-15

    申请号：EP14183387.1

    申请日：2014-09-03

    Applicant: Reinhausen Plasma GmbH

    Inventor： Nettesheim, Stefan ,  Forster, Klaus ,  Demirci, Arif

    IPC: B23K10/00 ,  A61B18/04 ,  B23K37/00 ,  F16P3/18 ,  H05H1/24 ,  A61B18/00

    CPC classification number: H01J37/244 ,  A61B18/042 ,  B23K10/00 ,  B23K10/006 ,  B23K37/006 ,  F16P3/14 ,  F16P3/18 ,  G01F1/00 ,  G01J5/02 ,  H01J37/226 ,  H01J37/241 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32908 ,  H05H1/36 ,  H05H2001/3494 ,  H05H2001/4645 ,  H05H2245/125

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Handgerät (1) und ein Verfahren zur Plasmabehandlung von Werkstücken (50). Das Handgerät (1) umfasst ein Gehäuse (60) zur Aufnahme einer Plasmaquelle (5). Der Plasmaquelle (5) wird von einer Gasversorgungseinheit (10) ein Gasstrom (13) zugeführt. Ferner ist eine Elektrodeneinheit (2) in der Plasmaquelle (5) angeordnet und über eine elektrische Leitung (21) mit einer Spannungsquelle (20) verbunden, so dass ein Plasmastrom (3) erzeugt werden kann. Der Plasmastrom (3) ist durch eine Austrittsdüse (4) des Gehäuses (60) auf ein Werkstück (50) richtbar. Ferner umfasst das Handgerät (1) ein Sensorsystem (40) zur Erhebung von Betriebsparametern (100). Das Sensorsystem (40) umfasst wenigstens einen Bedienersensoreinrichtung (41) zur Erhebung einer Position (101) eines Bedieners (70) relativ zur Plasmaquelle (5) und wenigstens einen Drucksensor (42) zur Erhebung eines Drucks (102) in der Gasversorgungseinheit (10). Eine Einrichtung (30) des Handgeräts (1) ist mit dem Sensorsystem (40) zur synchronisierten Erfassung der erhobenen Betriebsparameter (100) über Datenleitungen (31, 32, 36) kommunikativ verbunden. Desgleichen ist zumindest die Spannungsquelle (20) mit der Einrichtung (30) verbunden und steuer- bzw. regelbar.

    Abstract translation: 本发明涉及一种手持式装置（1）和用于工件的等离子体处理的方法（50）。 的手持式装置（1）包括用于接收等离子体源（5）的壳体（60）。 等离子体源（5）与从气体供应单元（10）的气流（13）提供。 另外，在等离子源（5），并通过连接到电压源（20）的电线（21），从而使等离子流（3）可以被制造的电极部（2）。 等离子流（3）通过在工件（50）可定向在所述壳体（60）的一个出口喷嘴（4）。 此外，手持式装置（1）包括用于操作参数的集合（100）的传感器系统（40）。 所述传感器系统（40）包括至少一个用于收集操作者的位置（101）（70）相对于所述等离子源（5）和至少一个压力传感器（42），用于在所述气体供给部的压力（102）的收集操作者传感器装置（41）（10） ， 话筒（1）的装置（30）被连接到所述传感器系统（40），用于经由数据线（31，32，36）通信连接的收集到的运行参数（100）的同步检测。 类似地，至少与所述装置（30）和可控电压源（20）。

    Electron beam apparatus having electron energy analyzer and method of controlling lenses
    25.
    发明公开
    Electron beam apparatus having electron energy analyzer and method of controlling lenses 有权
    具有电子能量分析仪的电子束装置，装置和透镜控制方法

    公开(公告)号：EP1441382A2

    公开(公告)日：2004-07-28

    申请号：EP04250358.1

    申请日：2004-01-23

    Applicant: Jeol Ltd.

    Inventor： Kaneyama, Toshikatsu

    IPC: H01J37/26 ,  H01J37/24

    CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/241 ,  H01J37/244 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/24485

    Abstract: An electron beam apparatus having an electron analyzer (28) is achieved which can control the illumination lens system (22) by feedback without adversely affecting the imaging action even if a specimen (23) is positioned within the magnetic field of the objective lens. The apparatus has an energy shift control module (37) for controlling energy shift. On receiving instructions about setting of energy shift from the CPU (36), the control module (37) issues an instruction for shifting the accelerating voltage to a specified value to an accelerating-voltage control module (33) . The control module also sends information about the energy shift to an energy shift feedback control module (38), which calculates the feedback value and supplies information about corrections of lenses and deflection coils to a TEM optics control module (34) . The feedback value is multiplied by a corrective coefficient that can be calibrated.

    Abstract translation: 具有电子分析仪（28）的电子束装置，实现可控制照明透镜系统（22）通过反馈而不即使试样（23）的物镜的磁场内定位在成像动作产生不利影响。 该设备具有用于控制能量偏移移位能量控制模块（37）。 在接收关于从CPU（36）能移位的设置指令时，控制模块（37），用于在加速电压控制模块（33）的加速电压转移到一个指定的值，以指令的问题。 因此，控制模块发送关于能量偏移转移到能量反馈控制模块（38），其计算所述反馈值并提供有关的透镜和偏转线圈校正的TEM光学控制模块（34）信息的信息。 反馈值被-乘以修正系数也可以进行校准。

    Electron beam apparatus and high-voltage discharge prevention method
    26.
    发明公开
    Electron beam apparatus and high-voltage discharge prevention method 审中-公开
    用于防止高压电弧的电子束装置和方法

    公开(公告)号：EP1336983A2

    公开(公告)日：2003-08-20

    申请号：EP02024961.1

    申请日：2002-11-07

    Applicant: Hitachi High-Technologies Corporation ,  Hitachi Science Systems, Ltd.

    Inventor： Okura, Akimitsu ,  Kimura, Masashi ,  Hirane, Kenichi ,  Nakayama, Yoshihiko

    IPC: H01J37/06 ,  H01J37/248 ,  H01J37/065

    CPC classification number: H01J37/241 ,  H01J2237/0206

    Abstract: Disclosed is an electron beam apparatus and method which can retain the state that minimizes the amount of water content contained at a gap between a high-voltage cable and a high-voltage introduction insulator to thereby prevent creation of high-voltage discharge and current leakage. The apparatus comprises a means for applying a high voltage to an acceleration electrode while eliminating electron release from an electron source and for detecting a change in an emission current corresponding to a change in an acceleration voltage at this time. In addition, the apparatus comprises a means for issuing a cautionary notice or warning when the change of this emission current exceeds a prespecified value. Further, the apparatus comprises a means for letting a dry gas flow in a gap portion between the electron gun's high-voltage cable and the high-voltage introduction insulator to thereby dehumidify said gap portion. With such an arrangement, it is possible to prevent high-voltage discharge due to an increase in water content of the gap portion and also instability of an electron beam due to a leakage current.

    Installation pour le travail des métaux par faisceau d'électrons
    28.
    发明公开
    Installation pour le travail des métaux par faisceau d'électrons 失效
    电子束安装用于金属加工。

    公开(公告)号：EP0159214A1

    公开(公告)日：1985-10-23

    申请号：EP85400367.0

    申请日：1985-02-27

    Applicant: SCIAKY S.A. Société dite:

    Inventor： Dard, Philippe

    IPC: H01J37/24 ,  H01J37/315

    CPC classification number: H01J37/241

    Abstract: Installation pour le travail des métaux par faisceau d'électrons, comportant un canon à électrons (1), un ensemble transformateur-redresseur produisant une haute tension redressée et alimentant le canon, un tube à vide (28) disposé dans ce circuit et associé à des moyens (21) sensibles au courant qui y circule pour interrompre le passage de ce courant lorsque son intensité dépasse une valeur déterminée.
    b) Installation caractérisée en ce que la polarité positive du redresseur est reliée à l'anode (4) du canon par l'intermédiaire de la terre constituant le potentiel de référence, et en ce que le tube à vide (23) associé à ses moyens (21) sensibles au passage du courant, est disposé dans la liaison de la polarité négative du redresseur (19) à la cathode (3) du canon.

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